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公开(公告)号：CN116917399A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280018564.0
申请日：2022-02-28
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08L1/08
Abstract: 作为可形成具有高耐热性和适度的剥离性、成膜后的稳定性优异的剥离层的用于形成剥离层的组合物，提供下述用于形成剥离层的组合物，其包含：(A)(A1)具有羟基烷基的纤维素或其衍生物等、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由式(a1)、式(b)和式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、(E)溶剂，相对于100质量份(A)成分，含有5～100质量份的(D)成分。(RA为氢原子或甲基，RB1为至少一个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的分支状烷基，RC为碳原子数1～10的羟基烷基，RD为碳原子数的6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113365742B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202080011017.0
申请日：2020-01-22
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: B05D1/26 , B05D5/00 , B32B27/00 , C08G73/06 , C08K5/42 , C08L33/16 , C09D179/04 , C08L79/04 , B32B37/26
Abstract: 本发明提供用于狭缝模涂布的剥离层形成用组合物，其包含：(A)包含由下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a1)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂以及(E)包含至少一种20℃下的蒸汽压为800Pa以下的溶剂的溶剂，相对于(A)聚脲100质量份，包含3～100质量份的(D)高分子添加剂。
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公开(公告)号：CN110062784B
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN201780075600.6
申请日：2017-12-07
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明提供剥离层的制造方法，其包含将剥离层形成用组合物涂布于基体上、在最高温度450～550℃下进行烧成的工序，所述剥离层形成用组合物包含由下述式(1A)～(1C)表示的聚酰胺酸中的至少一种和有机溶剂。(式中，X相互独立地为具有2个羧酸衍生物的4价的芳香族基团，Y相互独立地为2价的芳香族基团，Z1及Z2相互独立地为1价的有机基团，式(1A)中，Y、Z1及Z2中的至少一个具有碱可溶性基团，式(1B)中，Y及2个Z1中的至少一个具有碱可溶性基团，式(1C)中，Y及2个Z2中的至少一个具有碱可溶性基团，m相互独立地表示自然数)。
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公开(公告)号：CN109563341B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201780046641.2
申请日：2017-08-03
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08L79/08 , B32B27/34 , C08K5/20 , C08K5/3415 , C09D179/08 , H05K3/00
Abstract: 本发明提供用于透明树脂基板的剥离层形成用组合物，是包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物，二胺成分包含具有酯键和/或醚键的芳族二胺以及不具有酯键和醚键的芳族二胺中的至少一者，四羧酸二酐成分包含具有酯键和/或醚键的芳族四羧酸二酐以及不具有酯键和醚键的芳族四羧酸二酐中的至少一者，二胺成分和四羧酸二酐成分中的至少一者包含具有酯键和/或醚键的成分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113365742A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080011017.0
申请日：2020-01-22
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: B05D1/26 , B05D5/00 , B32B27/00 , C08G73/06 , C08K5/42 , C08L33/16 , C09D179/04 , C08L79/04 , B32B37/26
Abstract: 本发明提供用于狭缝模涂布的剥离层形成用组合物，其包含：(A)包含由下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a1)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂以及(E)包含至少一种20℃下的蒸汽压为800Pa以下的溶剂的溶剂，相对于(A)聚脲100质量份，包含3～100质量份的(D)高分子添加剂。
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公开(公告)号：CN110062784A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201780075600.6
申请日：2017-12-07
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明提供剥离层的制造方法，其包含将剥离层形成用组合物涂布于基体上、在最高温度450～550℃下进行烧成的工序，所述剥离层形成用组合物包含由下述式(1A)～(1C)表示的聚酰胺酸中的至少一种和有机溶剂。(式中，X相互独立地为具有2个羧酸衍生物的4价的芳香族基团，Y相互独立地为2价的芳香族基团，Z1及Z2相互独立地为1价的有机基团，式(1A)中，Y、Z1及Z2中的至少一个具有碱可溶性基团，式(1B)中，Y及2个Z1中的至少一个具有碱可溶性基团，式(1C)中，Y及2个Z2中的至少一个具有碱可溶性基团，m相互独立地表示自然数。)。
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公开(公告)号：CN109476912A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780046605.6
申请日：2017-08-03
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明提供剥离层形成用组合物，其包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂，上述二胺成分包含2,2'-双(三氟甲基)-4,4'-二氨基联苯，上述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐。
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公开(公告)号：CN109196051A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780031612.9
申请日：2017-05-23
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08L79/08 , C08G73/10 , C08K5/3415 , C09D7/40 , C09D179/08
Abstract: 本发明提供剥离层形成用组合物，其包含：例如由下述式表示的、具有来自四羧酸的两末端且该两末端用芳香族单胺封闭的聚酰胺酸，和有机溶剂。(式中，X表示4价的芳族基团，Y表示2价的芳族基团，R1～R5各自独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～20的芳基，m表示自然数。)
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公开(公告)号：CN109153851A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780031564.3
申请日：2017-05-23
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08L79/08 , C08G73/10 , C08K5/3415 , C09D179/08
Abstract: 本发明提供例如包含由下述式(1)表示的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物。(式中，X表示由下述式(2)或式(3)表示的芳族基团，Y表示2价的芳族基团，Z在X为由下述式(2)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(4)或式(5)表示的芳族基团，在X为由下述式(3)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(6)或式(7)表示的芳族基团，m表示自然数。)
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