公开(公告)号：CN108698851A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780014240.9

申请日：2017-03-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  铃木正睦 ,  村上夏美 ,  饭岛大贵 ,  古川智规 ,  小山欣也

IPC: C01G23/047 ,  C01G23/04 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C09D185/00 ,  G02B1/10 ,  G02B3/00

Abstract: 本申请发明提供被膜形成用组合物及其制造方法，上述被膜形成用组合物是包含水解性硅烷的水解缩合物和实施了特殊的分散处理的无机微粒的涂布组合物，其耐热性和透明性高，表现高折射率，同时能够厚膜化，被膜形成用组合物的保存稳定性优异。

公开(公告)号：CN107075255A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580056703.9

申请日：2015-09-08

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 首藤圭介 ,  加藤拓 ,  小林淳平 ,  铃木正睦

IPC: C08L83/06 ,  C08K5/5419 ,  C08K5/548 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L33/56 ,  C08G77/04

Abstract: 本发明的课题在于提供一种耐热透明性、密合性优异、耐裂缝性优异、并且含硫气体透过性低的LED用封装材料组合物。其解决手段是一种LED用封装材料组合物，其含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分及(D)成分，(A)成分：包含式(1‑1)、式(1‑2)及式(1‑3)表示的结构单元的聚硅氧烷(式中，R1表示碳原子数1～12的烷基、或碳原子数6～20的芳基，R2表示氢原子、碳原子数1～12的烷基、或构成作为(A)成分的聚硅氧烷的主链的Si原子。)；(B)成分：包含式(2‑1)、式(2‑2)及式(2‑3)的结构单元的聚硅氧烷(式中，R3及R4分别表示氢原子、碳原子数1～12的烷基、或构成作为(B)成分的聚硅氧烷的主链的Si原子。)；(C)成分：密合剂；以及(D)成分：硅烷醇基的缩合催化剂。

公开(公告)号：CN102939640B

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201180030040.5

申请日：2011-04-15

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 小林淳平 ,  加藤拓 ,  首藤圭介 ,  铃木正睦

IPC: H01L21/027 ,  C08F2/50 ,  C08F20/28 ,  C08F299/02

CPC classification number: C08F222/1006 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明的课题是提供高耐擦伤性压印材料。作为解决本发明课题的方法涉及一种压印材料，其包含下述(A)成分和(B)成分，(A)成分：具有碳原子数2或3的氧化烯单元且具有至少2个聚合性基团的化合物，(B)成分：光聚合引发剂，上述聚合性基团选自丙烯酰氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰氧基和甲基丙烯酰基中的至少1种。除了上述(A)成分以外，还可以含有具有至少2个聚合性基团且不具有碳原子数2或3的氧化烯单元的化合物作为(A’)成分。

公开(公告)号：CN104487179A

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201380038001.9

申请日：2013-07-10

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 小林淳平 ,  加藤拓 ,  铃木正睦

IPC: B08B17/06 ,  B29C59/02 ,  H01L31/0236 ,  G02B27/00

CPC classification number: C08J5/18 ,  B05D1/40 ,  B05D3/06 ,  B08B17/06 ,  B08B17/065 ,  B29C59/022 ,  B29C59/026 ,  B29C59/16 ,  B29C2059/023 ,  B29K2033/04 ,  B29K2083/00 ,  B29K2105/0005 ,  B29K2995/007 ,  B29L2011/00 ,  C08G18/2825 ,  C08G18/6725 ,  C08G18/73 ,  C08G18/7642 ,  C08G18/792 ,  C08G18/8029 ,  C08G77/14 ,  C08G77/46 ,  C08J2475/16 ,  G02B1/18 ,  G02B27/0006 ,  H01L31/02366 ,  H01L33/44 ,  H01L2924/0002 ,  Y02E10/50 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24612 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的课题是提供一种对附着于凹凸形状表面的指纹等污渍具有干擦拭特性的结构体、及其制造方法。解决手段是一种具有凹凸形状表面的结构体，其由含有1分子中具有1至10个聚合性基团的至少1种化合物、和光聚合引发剂的组合物制作而成，且在熔融石英的马氏硬度为4100N/mm2的条件下进行测定时的马氏硬度为3N/mm2以上且130N/mm2以下。所述结构体通过以下工序来制造：将所述组合物涂布在基材上，然后将所述基材上的涂膜压接于模具的具有凹凸形状的面，在该状态下使所述涂膜光固化而形成固化膜，将所述基材上的固化膜从所述模具上剥离。

公开(公告)号：CN102473601A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080036150.8

申请日：2010-08-17

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 小林淳平 ,  加藤拓 ,  首藤圭介 ,  铃木正睦

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/46 ,  B29L7/00 ,  B81C1/00

Abstract: 本发明的课题为提供一种形成高硬度膜的压印材料。作为解决本发明课题的方法是一种含有(A)成分、(B)成分和(C)成分的压印材料。(A)成分：分子内具有5个以上聚合性基团的化合物；(B)成分：分子内具有2个聚合性基团的化合物；(C)成分：光自由基引发剂。