一种具有高耐蚀性纳米孪晶镍镀层及其制备方法

    公开(公告)号:CN100588749C

    公开(公告)日:2010-02-10

    申请号:CN200710072545.3

    申请日:2007-07-20

    Abstract: 本发明提供了一种高耐腐蚀性的纳米孪晶镍镀层及其制备技术。利用脉冲电解沉积技术制备的纳米孪晶镍镀层,其微观结构由近于等轴的亚微米200nm到800nm晶粒组成。在晶粒内部存在高密度的不同取向的孪晶片层结构,取向相同的孪晶片层之间相互平行,孪晶片层的厚度主要分布在10nm到30nm范围,其长度为100~400nm。本发明防腐蚀性能优异,在pH为8.4的0.1M H3PO3+0.025M Na2B4O7溶液中,自腐蚀电位为-345mVSCE,自腐蚀电流密度为0.61μA/cm2,阴极塔菲尔斜率为0.2V/decade,维钝电流密度为7.9×10-7A/cm2,击破电位820mVSCE。

    一种高温机械力化学改性二氧化钛防腐涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN114806346A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210349381.9

    申请日:2022-04-01

    Abstract: 本发明提供了一种高温机械力化学改性二氧化钛防腐涂层及其制备方法,由以下质量分数组成:溶剂15~25份,环氧树脂45~55份,分散剂0.1~0.2份,固化剂20~30份,填料2~6份,消泡剂0.2~0.7份,防沉降剂0.5~1.5份,流平剂0.2~0.7份;溶剂为二甲苯、正丁醇的混合溶液;环氧树脂为E44型环氧树脂;分散剂为含颜料亲和基团的高分子量嵌段共聚物溶液DISPERBYK‑163;固化剂为聚酰胺固化剂;填料为经高温机械力改性后的二氧化钛;消泡剂为破泡聚硅氧烷溶液BYK‑066N,防沉降剂为改性脲溶液RHEOBYK‑410;流平剂为聚丙烯酸酯溶液BYK‑354;本发明提高了涂层的防腐性。

    混凝土表面低吸水率有机/无机复合硅基涂层及制备方法

    公开(公告)号:CN114790119A

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN202210348829.5

    申请日:2022-04-01

    Abstract: 本发明提供了一种混凝土表面低吸水率有机/无机复合硅基涂层及制备方法,由以下质量分数组成:酸性催化剂1~3份,KH570为10~20份,无水乙醇40~80份,去离子水40~80份,正硅酸乙酯10~20份,改性剂1为5~15份,改性剂2为1~10份;所述的改性剂1为羟基封端聚二甲基硅氧烷、乙烯基封端二甲基聚硅氧烷中的一种或两种;所述的改性剂2为纳米粘土、纳米二氧化硅中的一种或两种,所述的酸性催化剂为乙酸、盐酸中的一种或两种。本发明使用溶胶‑凝胶法制备一种应用于混凝土表面的有机/无机混合涂层,以降低混凝土的吸水率,达到对混凝土的保护效果。

    金属表面电沉积制备硅烷膜的方法

    公开(公告)号:CN104451807B

    公开(公告)日:2017-08-04

    申请号:CN201410826955.2

    申请日:2014-12-25

    Abstract: 本发明提供的是一种金属表面电沉积制备硅烷膜的方法。在装有硅烷预水解溶液的高压釜内,金属基体作为工作电极,铂片作为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,通入高纯氧气控制高压釜内压强为0~20MPa,对工作电极施加阴极电位为‑0.45~‑1.5V,电沉积10s~60min,取出金属基体,用高压氮气去除表面多余硅烷预水解溶液,在60~200℃干燥固化,固化时间为10~360min。本发明采用氧气加压电沉积的方法,能有效提高硅烷预水解溶液中氧气的含量,能够使溶液中的氧气及时补充到金属基体表面,促进金属表面的阴极电沉积过程,从而提高硅烷膜的成膜质量及其防护性能。

    一种具有自修复功能聚硅氧烷涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN106867398A

    公开(公告)日:2017-06-20

    申请号:CN201710085992.6

    申请日:2017-02-17

    CPC classification number: C09D183/04 C08K3/28 C09D5/08 C09D7/61

    Abstract: 本发明提供的是一种具有自修复功能聚硅氧烷涂层的制备方法。(1)将聚硅氧烷液体与过量Ce(NO3)3·6H2O晶体在球磨罐中混合均匀后加入磨珠,在60‑200℃的温度下进行球磨处理;(2)将球磨后的浆料静置,待不溶物沉淀后滤出,得到滤液;(3)将滤液与固化剂混合后,涂敷在基体表面,得到具有自修复功能的聚硅氧烷涂层。本发明制备工艺简单、成本低廉,适用于批量生产。为了形象的表现出涂层的自修复性能,本发明中采用局部电化学阻抗谱的技术(LEIS)对事先扎空的涂层进行局部阻抗测试,成功的展现出破损涂层的自修复过程。

    铝合金微弧氧化膜原位生长层状双金属氢氧化物的方法

    公开(公告)号:CN105018999A

    公开(公告)日:2015-11-04

    申请号:CN201510400290.3

    申请日:2015-07-09

    Abstract: 本发明提供的是一种铝合金微弧氧化膜原位生长层状双金属氢氧化物的方法。对铝合金进行微弧氧化处理,得到表面生长微弧氧化膜层的铝合金;电解液组成包括5g/L~10g/L氢氧化钠、5g/L~20g/L偏铝酸钠,微弧氧化处理的脉冲电流密度为10A/dm2~30A/dm2;将表面生长微弧氧化膜层的铝合金置于硝酸金属盐与硝酸铵物质的量比为1:6的混合溶液中进行反应。本发明通过调节微弧氧化电解液组成、脉冲电源参数,控制微弧氧化膜层组成及结构特征,获得利于层状双金属氢氧化物沉积的基底膜层;实现对微弧氧化膜层缺陷的有效修复,改善微弧氧化膜层耐腐蚀性能。

    金属表面电沉积制备硅烷膜的方法

    公开(公告)号:CN104451807A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410826955.2

    申请日:2014-12-25

    Abstract: 本发明提供的是一种金属表面电沉积制备硅烷膜的方法。在装有硅烷预水解溶液的高压釜内,金属基体作为工作电极,铂片作为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,通入高纯氧气控制高压釜内压强为0~20MPa,对工作电极施加阴极电位为-0.45~-1.5V,电沉积10s~60min,取出金属基体,用高压氮气去除表面多余硅烷预水解溶液,在60~200℃干燥固化,固化时间为10~360min。本发明采用氧气加压电沉积的方法,能有效提高硅烷预水解溶液中氧气的含量,能够使溶液中的氧气及时补充到金属基体表面,促进金属表面的阴极电沉积过程,从而提高硅烷膜的成膜质量及其防护性能。

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