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公开(公告)号：CN104773961A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201510159777.7
申请日：2015-04-07
Applicant: 哈尔滨工业大学
Inventor： 王波 , 赖志锋 , 李文鹏 , 王骏 , 王石磊
IPC: C03C19/00
Abstract: 一种基于PLC的ICP等离子体加工机床腔体气压控制方法，属于等离子加工机床技术领域。为了克服以往等离子机床将反应气体直接排放入大气中的种种弊端，本发明可以在机床加工时维持机床腔体压力的稳定，防止压力变化对加工效果产生影响；在加工后，可以将机床腔体内部的反应剩余气体和反应后的气体进行抽排；之后再进行进一步的尾气处理，防止污染环境和损伤操作人员健康。
