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公开(公告)号：CN104357727B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201410597188.2
申请日：2014-10-29
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明属于磁制冷材料领域，公开了一种Mn‑Fe‑P‑Si磁制冷材料及其制备方法，材料成分选择为Mn1.15Fe0.85P0.52Si0.45B0.03。制备方法如下：(1)将Mn片、Fe块、FeP块、Si块和B块按化学式中各元素的质量百分比称重后混合，其中Mn加入5％的余量；(2)将步骤(1)配好的原材料装入真空电弧炉中，利用高纯氩气保护熔炼制得合金锭；(3)将合金锭破碎，装入真空快淬炉中熔化合金，进行铜模铸造；(4)将铜模铸造合金密封在石英管中，抽真空至10‑4Pa以下，进行退火处理，之后快速淬入冷水中，制得磁制冷材料。本发明工艺简单，成本低廉，可得到致密度高、磁热性能优异的磁制冷材料。
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公开(公告)号：CN103757636B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201410007435.9
申请日：2014-01-07
Applicant: 华南理工大学
IPC: C23F3/00
Abstract: 本发明公开了一种化学抛光液及合金表面处理方法，每升抛光液中各组分含量为：过硫酸盐30～100g，浓硫酸300～500ml，粘度调整剂10～40g，光亮剂2～14g，余量为水。将合金工件依次进行除油、清洗、酸洗活化、清洗；将上述经前处理后合金工件置于所述的化学抛光液中浸渍；抛光完成后，将合金工件依次清洗、钝化、清洗、烘干即可。本发明采用过硫酸钠作为氧化剂，抛光过程中不产生“黄烟”，绿色环保。且该抛光液成分简单，容易管控。所得化学抛光表面光亮、平整，可达镜面抛光效果。本发明的抛光液可以广泛的应用于铜合金表面的抛光。
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公开(公告)号：CN103774085B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410005116.4
申请日：2014-01-03
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种在低碳合金钢表面制备的高氮奥氏体层及制备方法，包括以下步骤：（1）对低碳合金钢进行调质预处理，得到以索氏体组织为基体的工件；（2）将上述工件于660℃-680℃气体渗氮2-3小时，取出后立即水淬，得到以高氮奥氏体为表层的工件；所述渗氮是以铁粉作为催化剂，以干燥的纯氨气或氮气和氢气的混合气体为渗剂；当渗剂为氨气时，渗氮时控制氨气分解率为97-98%，氨气流量为0.13-0.27ml/s。高氮奥氏体层中温回火之后能够获得更高的硬度，回火产物尺寸为纳米级，硬度可达1000HV～1200HV，具备良好的耐磨性，而且不会产生氢氰酸污染。
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公开(公告)号：CN102703038B
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201210169642.5
申请日：2012-05-28
Applicant: 华南理工大学 , 北京三星通信技术研究有限公司
Abstract: 本发明公开了一种Gd基磁制冷材料，其化学通式为：Gd4Co3Bx，式中0.05≤x≤0.15。其制备方法包括下述步骤：（1）将稀土金属Gd，金属Co和非金属B按如下质量份称重混合：稀土金属Gd 77.80~78.01份，金属Co21.88~21.93份，非金属B 0.07～0.20份；（2）将上述混合原料在氩气保护下进行反复熔炼，得到成分均匀的合金铸锭；（3）将上述合金铸锭在氩气保护下进行熔体快淬，甩带速度为35~60m/s，得到Gd基非晶磁制冷材料。本发明的磁制冷材料既能制备成非晶又能制备成化合物；该产品在磁化过程中表现出二级相变且磁热效应大；制备工艺简单、成本低廉、适于工业化生产。
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公开(公告)号：CN103894587A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201410105368.4
申请日：2014-03-20
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种钕铁硼永磁材料及制备方法与磁场辅助直接铸造装置，该装置的主磁体为辐射状充磁的圆环形磁体；主磁体中心下方设有一块磁场方向为轴向向上的圆盘形的第一排斥磁体，第一排斥磁体外周设有辐射状充磁的圆环形的第二排斥磁体；主磁体上端设有调控磁体，在调控磁体上方设有第二软铁，在调控磁体的外侧设有第一软铁，主磁体外侧设有一个沿轴向向下充磁的圆环形的磁体引导磁体。该钕铁硼永磁材料的化学通式为：[Nd(85-x-y)CoxFeyAlzB(15-z)](100-a)Ma，式中30≤x+y≤70，0≤z≤10，a≤4。该材料相对不加磁场制备的材料磁性能提升较大，并且制备工艺简单、成本较低、产品密实，适合于工业化生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103774085A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201410005116.4
申请日：2014-01-03
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种在低碳合金钢表面制备的高氮奥氏体层及制备方法，包括以下步骤：（1）对低碳合金钢进行调质预处理，得到以索氏体组织为基体的工件；（2）将上述工件于660℃-680℃气体渗氮2-3小时，取出后立即水淬，得到以高氮奥氏体为表层的工件；所述渗氮是以铁粉作为催化剂，以干燥的纯氨气或氮气和氢气的混合气体为渗剂；当渗剂为氨气时，渗氮时控制氨气分解率为97-98%，氨气流量为0.13-0.27ml/s。高氮奥氏体层中温回火之后能够获得更高的硬度，回火产物尺寸为纳米级，硬度可达1000HV～1200HV，具备良好的耐磨性，而且不会产生氢氰酸污染。
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公开(公告)号：CN102703038A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201210169642.5
申请日：2012-05-28
Applicant: 华南理工大学 , 北京三星通信技术研究有限公司
Abstract: 本发明公开了一种Gd基磁制冷材料，其化学通式为：Gd4Co3Bx，式中0.05≤x≤0.15。其制备方法包括下述步骤：（1）将稀土金属Gd，金属Co和非金属B按如下质量份称重混合：稀土金属Gd 77.80～78.01份，金属Co 21.88～21.93份，非金属B 0.07～0.20份；（2）将上述混合原料在氩气保护下进行反复熔炼，得到成分均匀的合金铸锭；（3）将上述合金铸锭在氩气保护下进行熔体快淬，甩带速度为35～60m/s，得到Gd基非晶磁制冷材料。本发明的磁制冷材料既能制备成非晶又能制备成化合物；该产品在磁化过程中表现出二级相变且磁热效应大；制备工艺简单、成本低廉、适于工业化生产。
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公开(公告)号：CN101935837B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201010270660.3
申请日：2010-08-31
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种铜基镶嵌结构界面金刚石涂层及其制备方法和应用。所述涂层从下到上由铜-金刚石复合粗上砂镀层、铜加固层、铜-金刚石复合细上砂层和在CVD金刚石外延生长层组成。制备方法包括以下步骤：第一步，在铜基体上依次沉积铜-金刚石复合粗上砂镀层、铜加固层和铜-金刚石复合细上砂层，得到沉积有铜-金刚石复合镀层的工件；第二步，在CVD金刚石沉积系统中，在沉积有铜-金刚石复合镀层的工件表面露头的金刚石上同质外延生长出连续的金刚石涂层。本发明的铜基镶嵌镶嵌结构界面金刚石涂纯度高、杂质少，热应力低，与基体结合牢固，是微电子热沉材料的理想选择。
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公开(公告)号：CN101928912B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201010270941.9
申请日：2010-08-31
Applicant: 华南理工大学
IPC: C23C8/22
Abstract: 本发明公开了一种热作模具钢的低温渗碳方法。该方法需要热作模具钢中碳化物形成元素的质量百分含量为5～10wt.％，伏痰温度在低于奥氏体化温度Ac1进行。其制备方法包括以下步骤：工件在滴注式渗碳炉中进行排气升温，保温渗碳，炉冷降温，最后通过淬火保温控制渗碳层厚度和均匀性，回火控制渗碳层硬度和韧性。本发明不仅能直接提高热作模具钢在淬火后后的表面硬度提高至HRC60，渗碳层厚度达0.7～1.0mm，可承受重载荷和冲击载荷高温摩擦磨损工况。在低温渗碳层表面可直接进行氮化和软氮化，进一步提高表面硬度的同时，大大提高氮化层承受重载荷和冲击载荷高温摩擦磨损能力。
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公开(公告)号：CN101948999B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201010293856.4
申请日：2010-09-26
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种掺杂发光氮化铝薄膜及其制备方法。该方法包括步骤：制备镶嵌靶材，并装在磁过滤电弧镀靶上；对基体进行表面化学清洗；将基体装入电弧离子镀膜机中，抽本底真空度至小于3.0×10-3Pa；加偏压-800V；开启弯曲弧磁过滤器和磁过滤电弧镀靶，对基体进行氩弧等离子轰击清洗；保持磁过滤管电流、电弧靶电流和占空比，将偏压调控在-100～-400V，通入氮气，镀膜30～90min；镀膜结束后，关掉磁过滤电弧镀靶和弯曲弧磁过滤器，取出样品，得到掺杂发光氮化铝薄膜。制备过程中样品温度不超过180℃，沉积后也不需要进行扩散热处理。制备工艺简单，易于操作，在镀膜过程中可采用电气和机械自动控制。
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