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公开(公告)号:CN105826341A
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201610145847.8
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L27/146
CPC classification number: H01L27/14603
Abstract: 本发明公开了一种可寻址层析视场的液晶基成像探测芯片。包括面阵电控液晶成像微透镜和面阵光敏探测器,其中,单元电控液晶成像微透镜用于对目标通过物镜形成的压缩光场执行进一步的汇聚式压缩,通过调变加载在所述面阵电控液晶成像微透镜上的信号电压的均方幅值,调变所述单元电控液晶成像微透镜的光汇聚能力,进而调变由物镜和所述单元电控液晶成像微透镜共同确定的目标对焦平面,从而在深度方向上改变能清晰成像的目标图层,执行成像视场在深度方向上的可寻址层析检录。该芯片易与其它功能性光学、光电及电子学结构耦合,易于插入常规成像光路中替换传统光敏成像芯片执行寻址层析视场式的成像探测。
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公开(公告)号:CN105509894A
公开(公告)日:2016-04-20
申请号:CN201510897604.5
申请日:2015-12-07
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J5/00
Abstract: 本发明公开了一种液晶基图像与波前双模电调成像探测芯片,包括液晶微光学结构、面阵可见光探测器和驱控预处理模块;液晶微光学结构在时序加电态下为面阵电控液晶微透镜;面阵可见光探测器被面阵电控液晶微透镜依其阵列规模划分成多个子面阵可见光探测器,每单元电控液晶微透镜与一个子面阵可见光探测器对应,构成测量波前模态;液晶微光学结构在时序断电态下为延迟入射波束的液晶相位板,它与面阵可见光探测器构成成像模态。本发明的一种液晶基图像与波前双模电调成像探测芯片基于时序电信号捕获目标的出射波前与高像质平面图像,探测效能高,使用方便,易与常规成像光学系统耦合。
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公开(公告)号:CN105486415B
公开(公告)日:2018-12-14
申请号:CN201510891512.6
申请日:2015-12-04
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J9/00
Abstract: 本发明公开了一种可寻址测量局域波前的成像探测芯片,包括可寻址加电液晶微光学结构、面阵可见光探测器和驱控预处理模块;液晶微光学结构被划分成可独立施加电驱控信号的多个液晶微光学块,各液晶微光学块具有相同的面形和结构尺寸,被加电液晶微光学块为液晶微透镜阵列块,其余未加电液晶微光学块为液晶相移板块;被液晶微光学块化的液晶微光学结构将与其对应的面阵可见光探测器划分成同等面形和规模的面阵可见光探测器块,并且各面阵可见光探测器块包含同等数量和排布方式的探测器。本发明具有执行可寻址选择及变更局域波前测量的成像探测效能,使用方便,易与常规成像光学系统耦合。
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公开(公告)号:CN105938260B
公开(公告)日:2018-09-21
申请号:CN201610390204.X
申请日:2016-06-02
Applicant: 华中科技大学 , 上海航天控制技术研究所
IPC: G02F1/01
Abstract: 本发明公开了一种基于金属平面微纳线尖簇电极的电调透光率薄膜,其包括:由金属平面微纳线尖有序密集排布构成的一层图案化阴极和一层平面阳极,它们被分别制作在一层纳米厚度的透光基膜/电绝缘膜的上下表面;在加电态下,阴极上可自由移动的电子被阴阳电极间所激励的电场驱控,向金属平面微纳线尖簇其各纳线尖顶聚集,纳线尖金属电连接线上的自由电子分布密度因部分甚至绝大多数电子被纳线尖顶抽走而减少甚至急剧降低。本发明基于金属平面微纳线尖簇电极的电调透光率薄膜可对较宽谱域内的入射波束的光透过率执行电控调变,具有偏振不敏感、驱控灵活以及调光响应快等特点。
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公开(公告)号:CN105759464B
公开(公告)日:2018-08-21
申请号:CN201610145778.0
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学 , 上海航天控制技术研究所
IPC: G02F1/01
Abstract: 本发明公开了一种电调光反射率薄膜。包括第一光学介质层,依次设置在第一光学介质层上表面的第一阳极、第二光学介质层和第二阳极,以及设置在第一光学介质层下表面的阴极,阴极为匀质导电膜结构,第一阳极和所述第二阳极均由其上布有M×N元阵列分布的纳孔的导电膜构成;通过调变加载在第一阳极和阴极间的第一时序电压信号以及加载在第二阳极和阴极间的第二时序电压信号,调变阴极上的阵列化电子的密度和分布形态,进而调变电调光反射率薄膜的光反射率。本发明能对宽谱入射波束的光反射率执行电控调变,具有动态范围大、偏振不敏感、驱控灵活精细、调光响应快、光反射态可电控切入与调换的特点。
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公开(公告)号:CN105938259A
公开(公告)日:2016-09-14
申请号:CN201610388269.0
申请日:2016-06-02
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02F1/01
CPC classification number: G02F1/0102
Abstract: 本发明公开了一种基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜,其包括:由金属平面纳尖簇线密集排布构成的一层图案化阳极和一层平面金属纳膜阴极/阳极,它们被分别制作在透光的纳米厚度的基膜/光学介质层的两个外表面上;在加电态下,图案化阳极中的金属平面纳尖与金属纳膜阴极/阳极间形成局域弯曲的锐化电场阵,阴极/阳极上可自由移动的电子被阴阳电极间所激励的阵列化纳电场驱控,向各纳电场中电场强度最强部位聚集。本发明基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜可对宽谱域内的强功率入射波束的光透过率执行电控调变,具有偏振不敏感、驱控灵活及调光响应快的特点。
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公开(公告)号:CN105739131A
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201610147940.2
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02F1/01
CPC classification number: G02F1/0121
Abstract: 本发明公开了一种可寻址电调光反射率薄膜。包括阴极,阳极阵列,以及设置在阴极和阳极阵列间的介电层;阳极阵列由M×N元阵列分布的阳极单元构成,阳极单元由规则排列且相互连通的多个子电极构成,可寻址电调光反射率薄膜被划分为M×N元阵列分布的电调光反射率单元,阳极单元与电调光反射率单元一一对应,构成电调光反射率单元的阳极,所有电调光反射率单元共用阴极;通过阳极单元和阴极对电调光反射率单元执行独立加电操作,进而通过调变加载在电调光反射率单元上的电压信号,实现可寻址电调光反射率的控光操作。本发明具有偏振不敏感、驱控灵活、调光响应快以及反射光强变动范围大的特点。
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公开(公告)号:CN205691891U
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201620485769.1
申请日:2016-05-25
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02F1/01
Abstract: 本实用新型公开了一种基于金属纳尖阵电极的电调透射光薄膜,包括:由纳米尺度间隔的纳尖高密度排布构成的一层纳米厚度的金属纳尖阵阴极和一层纳米厚度的平面阳极,该阳极由透光的纳米厚度的金属氧化物导电膜制成,阴阳电极间填充有由纳米厚度的透明光学介质材料制成的电隔离膜;加电态下,金属纳尖阵阴极上可自由移动的电子被电极间所激励的电场驱控,向纳尖顶聚集,纳尖底部及相邻尖端间的平坦区域上的自由电子分布密度因部分甚至绝大多数自由电子被抽走而减少甚至急剧降低,对应于有自由电子密集分布的各尖顶的光透过率将减弱。本实用新型可对光透过率执行电控调变,具有适用于较宽谱域及较强光束、偏振不敏感、驱控灵活以及调光响应快的特点。
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公开(公告)号:CN205679874U
公开(公告)日:2016-11-09
申请号:CN201620535879.4
申请日:2016-06-02
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02F1/01
Abstract: 本实用新型公开了一种基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜,其包括:由金属平面纳尖簇线密集排布构成的一层图案化阳极和一层平面金属纳膜阴极/阳极,它们被分别制作在透光的纳米厚度的基膜/光学介质层的两个外表面上;在加电态下,图案化阳极中的金属平面纳尖与金属纳膜阴极/阳极间形成局域弯曲的锐化电场阵,阴极/阳极上可自由移动的电子被阴阳电极间所激励的阵列化纳电场驱控,向各纳电场中电场强度最强部位聚集。本实用新型基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜可对宽谱域内的强功率入射波束的光透过率执行电控调变,具有偏振不敏感、驱控灵活及调光响应快的特点。
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公开(公告)号:CN205427366U
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201620199696.X
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02F1/01
Abstract: 本实用新型公开了一种电调光反射率薄膜。包括第一光学介质层,依次设置在第一光学介质层上表面的第一阳极、第二光学介质层和第二阳极,以及设置在第一光学介质层下表面的阴极,阴极为匀质导电膜结构,第一阳极和所述第二阳极均由其上布有M×N元阵列分布的纳孔的导电膜构成;通过调变加载在第一阳极和阴极间的第一时序电压信号以及加载在第二阳极和阴极间的第二时序电压信号,调变阴极上的阵列化电子的密度和分布形态,进而调变电调光反射率薄膜的光反射率。本实用新型能对宽谱入射波束的光反射率执行电控调变,具有动态范围大、偏振不敏感、驱控灵活精细、调光响应快、光反射态可电控切入与调换的特点。
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