集成多款芯片的操作系统测试方法、装置及系统

    公开(公告)号:CN118897810A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202411401823.5

    申请日:2024-10-09

    Abstract: 本申请公开了一种集成多款芯片的操作系统测试方法、装置及系统,属于芯片测试技术领域。方法包括:接收用户在测试脚本的运行面板的输入数据;测试脚本用于针对至少具有部分相同的功能指令的多款不同芯片进行测试;根据输入数据选择测试的目标芯片;使用测试脚本采用目标命令参数集对目标芯片的操作系统进行测试。本申请通过为至少具有部分相同的功能指令的多款不同芯片建立相同的测试脚本,通过改变输入数据和命令参数对不同芯片进行测试,实现了单一的测试流程对多种芯片的集成测试,并且不同芯片之间还能够进行数据交互,通过修改命令参数的值即可不同命令参数的测试,无需针对每个命令参数测试编写代码,减少了代码冗余,提高了测试效率。

    故障注入方法、装置和电子设备
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118733369A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410755123.X

    申请日:2024-06-12

    Abstract: 本发明提供一种故障注入方法、装置和电子设备,属于芯片技术领域。方法包括:获取待测芯片工作时能量曲线;对能量曲线进行信号处理,以筛选出待测芯片在能量曲线中的执行运算时间区间;基于待测芯片的输入数据与能量曲线的相关性,以及待测芯片输出数据与能量曲线的相关性,计算出执行运算时间区间中的关键时间点;获取待测芯片版图的功能区域分布图;基于功能区域分布图中待故障注入对象的故障防护类型,确定故障注入扫描方式;基于故障注入扫描方式进行故障注入扫描,基于扫描结果确定关键物理位置点。本发明基于时空双域的故障注入方法,从时间域和空间域分别进行关键时间点和关键物理位置点定位,提高故障注入精准度和故障注入攻击效率。

    安全芯片的算法测试方法、装置和系统

    公开(公告)号:CN118585439A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202410687188.5

    申请日:2024-05-30

    Abstract: 本发明提供一种安全芯片的算法测试方法、装置和系统,属于计算机技术领域。方法包括:响应于算法测试参数配置指令,获取待测安全芯片的算法测试参数;生成与算法测试参数匹配的测试数据;发送测试数据和算法测试参数至待测安全芯片,以及接收待测安全芯片基于测试数据和算法测试参数执行算法测试的第一测试结果;从算法库和国密资质卡中确定与算法类型匹配的目标测试主体,以及获取目标测试主体基于测试数据和算法测试参数执行算法测试的第二测试结果;基于第一测试结果和第二测试结果的对比结果,确定算法测试结果。本发明解决现有安全芯片的算法测试方法存在测试的算法类型较少、测试算法类型的覆盖率较低,无法保证测试结果的正确性的问题。

    一种低温漂低残余失调的霍尔传感器及实现方法

    公开(公告)号:CN118050668A

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202410039025.6

    申请日:2024-01-10

    Abstract: 本发明提出了一种具有灵敏度温漂补偿功能的低残余失调的霍尔磁传感器及信号调理电路和方法,属于磁传感器技术领域。包括四相动态旋转电流调制电路、前端电压放大电路、全差分相关双采样解调电路、低通滤波器、灵敏度温漂补偿电路、时钟产生电路。利用旋转电流电路输出相同极性的霍尔电压与不同极性的失调电压,后续通过电压积分放大电路和全差分相关双采样解调电路操作进行失调噪声消除,最后通过低通滤波器得到极低残余失调的霍尔信号。全差分相关双采样解调电路不仅可以抑制电路自身失调噪声,还可以接收灵敏度温漂补偿电路产生的电压信号和霍尔传感器输出端的霍尔电压信号,形成负反馈结构,使输出的霍尔电压具有很好的稳定性。

    芯片凸点加工方法、封装方法及芯片

    公开(公告)号:CN117198889A

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202310786486.5

    申请日:2023-06-29

    Abstract: 本发明提供一种芯片凸点加工方法、封装方法及芯片,属于芯片技术领域。芯片凸点加工方法包括:准备待加工芯片晶圆,并在待加工芯片晶圆上确定多个凸点位置;根据各个凸点位置的需求,将多个凸点位置进行分组,得到多组凸点位置集;根据各个凸点位置的需求,分别对每一组凸点位置集进行凸点加工,得到多个凸点。通过对凸点位置进行分组,然后根据凸点位置的需求,对不同凸点位置分组进行独立曝光、电镀的加工方法,可以控制各类凸点的垂直高度,以保证加工得到的各个凸点的高度在水平面上一致,实现了不同高度凸点的加工。还可以实现特定高度差凸点的加工,以满足不同封装形式对凸点高度的需求,有利于提高封装的良率及可靠性。

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