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公开(公告)号：CN105655867B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201610232363.7
申请日：2016-04-14
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于高光束质量大功率VCSEL同相耦合阵列的双条网格电极，能够解决大规模VCSEL阵列电流扩展不均匀的问题，同时还能解决传统的单条网格电极存在的同相模式吸收的问题，使阵列获得高功率同相输出。用于高光束质量大功率VCSEL同相耦合阵列的双条网格电极包括外部边框大电极、内部双条网格电极；本发明采用多次质子注入方式制备VCSEL阵列，通过合理设计阵列单元间距和新型双条网格电极，可以解决单条网格电极存在的模式吸收问题，在保证同相激光输出的同时，可以获得高功率输出，大大提高了阵列的光束质量，可以应用于自由空间光互联、激光雷达、激光打印、光纤通信、光泵浦等领域。
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公开(公告)号：CN106058642A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610500581.4
申请日：2016-06-29
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01S5/183
CPC classification number: H01S5/18386
Abstract: 本发明公开了高对比度光栅耦合腔窄光谱线宽面发射激光器，属于光电子技术领域。将具有高反射率和反射带宽的高对比度光栅作为反射镜，通过微纳米加工工艺集成到基横模垂直腔面发射激光器顶部，通过高对比度光栅的高反射率对器件出射光进行反馈，对器件进行光注入，形成新型的耦合腔集成面发射激光器，实现器件的有效谐振腔的延长，进而压缩基横模垂直腔面发射激光器的光谱线宽，得到窄光谱线宽面发射激光器。低折射率支撑高对比度光栅结构的采用，简化上集成外腔制备难度，降低了器件加工工艺，且制备工艺为纯平面工艺，可有效提高器件的成品率及可靠性，具有光谱线宽调节范围大，压窄效果明显等优势，且设计制备简单。
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公开(公告)号：CN105758626A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610302697.7
申请日：2016-05-09
Applicant: 北京工业大学
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01M11/02
Abstract: 基于延时自外差法测量852nm半导体激光器超窄线宽测试系统，属于半导体光电子技术领域。包括：半导体激光器、第一3dB耦合器、延时多模光纤、声光移频器、第二3dB耦合器、光电探测器和频谱仪组成；半导体激光器输出端口为FC/PC的光纤接口，通过法兰盘将半导体激光器与第一3dB耦合器的输入端口相连接；第一3dB耦合器输出为两路，一路通过法兰盘连接延时多模光纤，另一路通过法兰盘连接声光移频器；第二3dB耦合器把延时多模光纤的输出与声光移频器的输出合为一路；第二3dB耦合器的输出端连接光电探测器，光电探测器的输出端使用BNC射频线与频谱仪相连接。可测量852nm半导体激光器的线宽，保证测试系统的精确度。
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公开(公告)号：CN109216496B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201811231680.2
申请日：2018-10-22
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L31/108 , H01L31/0224 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了应用派瑞林N薄膜直接生长石墨烯的硅肖特基结探测器，属于半导体光电子器件技术领域。其基本结构从下往上依次为：下金属电极、轻掺杂n型硅、二氧化硅绝缘层、石墨烯薄膜、上金属电极。应用派瑞林N直接生长石墨烯，生长原理简单，生长速度快，石墨烯无需转移，大幅度提升器件制备效率。制得的石墨烯与衬底接触良好，石墨烯薄膜均匀，污染少，因此所得到的探测器一致性好。适合于未来石墨烯—硅肖特基结探测器的大规模产业化制备。
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公开(公告)号：CN107611779B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201710953605.6
申请日：2017-10-13
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种VCSEL耦合阵列与表面光学移相器片上集成的光束扫描芯片，属于半导体激光器技术和光束扫描技术的交叉技术领域。本发明通过采用质子注入、光子晶体或腔诱导反波导等技术，实现VCSEL阵列单元间的耦合，阵列各单元发射出功率一致的相干光。利用VCSEL阵列平面结构的特点，通过光刻、溅射、PECVD、ICP、蒸镀等工艺，在VCSEL耦合阵列表面集成透射式光学移相器阵列，从而获得体积小、结构紧凑、集成度高的光束扫描芯片。它解决了传统的光学相控阵光束扫描装置中因激光光源与移相器阵列在空间上分离而导致的体积大、可靠性低、安装复杂等问题，应用前景广阔。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109216496A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201811231680.2
申请日：2018-10-22
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L31/108 , H01L31/0224 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了应用派瑞林N薄膜直接生长石墨烯的硅肖特基结探测器，属于半导体光电子器件技术领域。其基本结构从下往上依次为：下金属电极、轻掺杂n型硅、二氧化硅绝缘层、石墨烯薄膜、上金属电极。应用派瑞林N直接生长石墨烯，生长原理简单，生长速度快，石墨烯无需转移，大幅度提升器件制备效率。制得的石墨烯与衬底接触良好，石墨烯薄膜均匀，污染少，因此所得到的探测器一致性好。适合于未来石墨烯—硅肖特基结探测器的大规模产业化制备。
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公开(公告)号：CN107012443A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710246595.2
申请日：2017-04-16
Applicant: 北京工业大学
CPC classification number: C23C16/26 , C23C16/0281 , C23C16/56
Abstract: 一种绝缘衬底图形化直接生长石墨烯的工艺方法，属于石墨烯材料制备领域。绝缘衬底直接生长石墨烯和在此基础上进行的石墨烯图形化生长。通过在绝缘衬底上首先镀上一层铜作为催化剂，然后在铜的催化下石墨烯会生长在镀铜的表面，再保持高温退火使铜挥发，铜挥发后，石墨烯会落在绝缘衬底表面，达到绝缘衬底直接生长石墨烯的目的。之后，在直接生长的基础上，通过光刻工艺使镀的铜具有一定的图形，与之相对应的，在铜上生长出的石墨烯也具有了相同的图形，达到绝缘衬底图形化直接生长石墨烯的目的。本发明通过直接生长的工艺，避免了石墨烯转移工艺中石墨烯的损坏，成本较低，适合大规模批量生产石墨烯。
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公开(公告)号：CN106129210A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201610460910.7
申请日：2016-06-22
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种电极下方有源区绝缘化的高光提取效率发光二极管，属于半导体光电子技术领域。该发光二极管包括P电极、电流扩展层、绝缘区、窗口层、上限制层、有源区、下限制层、缓冲层、N电极。通过离子注入的方法，注入深度达到有源区，能够使P电极下方的有源区绝缘，阻止了P电极正下方的电流输运，P电极流入的电流会横向扩展流入到周围的有源区，解决了P电极下方有源区发出的光被P电极阻挡和吸收的问题，改善了电流的扩展，提高了器件的光提取效率和发光强度。同时，采用本发明中有源区绝缘化的方法不会在器件表面产生台阶，不会影响器件的表面平整，提高了器件的可靠性。工艺简单、成本较低，适合批量生产。
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公开(公告)号：CN105977786A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201610500037.X
申请日：2016-06-29
Applicant: 北京工业大学
CPC classification number: H01S5/18361 , H01S5/0608
Abstract: 本发明公开了低折射率介质支撑型高对比度光栅面发射激光器，利用外延生长技术和半导体平面微纳米加工工艺进行制作，在高对比度光栅层上加工制作出高对比度光栅以形成低折射率支撑型高对比度光栅面发射激光器结构。高对比度光栅相对于上DBR结构具有更高的反射率和更宽的反射带宽，能够为激光器激射提供足够的反射率，高的反射率有利于减小谐振腔损耗、降低器件阈值电流。宽的高反射率带宽更好的匹配谐振腔模式，降低器件加工制备难度、易于器件激射。低折射率介质支撑高对比度光栅结构由两层介质膜组成，且厚度只有几百纳米，相对于P型DBR的3μm‑5μm，有效的降低了器件外延难度。
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公开(公告)号：CN205811270U
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201620775969.0
申请日：2016-07-21
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01S5/022
Abstract: 本实用新型涉及激光器封装技术领域，尤其涉及一种自制外腔半导体激光器封装外壳。该自制外腔半导体激光器封装外壳包括长方体结构外壳以及激光器底座，其中所述长方体结构外壳包括封装底板、四面封装壳体、以及电源接孔面板；所述封装底板的左右两侧分别设有底板凹槽，所述四面封装壳体由顶板、左连接侧板、右连接侧板、前固定侧板组成，其中所述的左连接侧板、右连接侧板上分别设有与所述的底板凹槽相适配的侧板凸牙，所述四面封装壳体通过所述凸牙卡装在所述封装底板的底板凹槽中。该自制外腔半导体激光器封装外壳，能够为外腔激光器提供机械保护，降低外腔器件受外界空气中灰尘的污染，减小各器件相对位置的误差，便于携带移动。
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