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公开(公告)号：CN105619819A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN103317229B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310291009.8
申请日：2013-07-11
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: B23K26/064 , G02B3/00
Abstract: 一种标签签注方法和签注系统，通过在原有的激光签注光路和记录材料之间增设一块会聚透镜，依赖会聚透镜对光线角度的改变，只需将会聚透镜物面侧的签注图像进行平移，就能在像面侧得到不同入射角度下的成像效果。不仅控制简单、成像效果好，而且能够利用该签注方法实现多种形式的签注，为个性化激光签注带来了新的应用。
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公开(公告)号：CN103488036A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310437594.8
申请日：2013-09-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种全息立体投影屏及其投影方法，投影屏包括基材层，与所述基材层的表面结合，分布有离轴响应结构和可控扩散结构，离轴响应结构使入射光整体偏折向观察区域；可控扩散结构使入射光沿一维或二维方向扩散，实现离散三维空间角谱的线性插值，形成连续的三维空间信息，实现立体投影；所述离轴响应结构和可控扩散结构的参数分别独立调制。投影光线由多束不同角度入射的携带有该角度图像信息的光线组成，投影光线由离轴响应结构偏折至观察区域，并由可控扩散结构作用形成扩散光线，不同角度入射的光线的扩散光线相互拼接形成连续的空间角谱。本发明可同时实现离轴投影和全息立体投影，立体效果好，能量利用率高。
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公开(公告)号：CN103279014A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201310236124.5
申请日：2013-06-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。
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公开(公告)号：CN101976020B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201010503788.X
申请日：2010-10-12
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101477326B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN200910028296.7
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种多视角图形输入的三维图形直写方法，包括下列步骤：(1)获得三维物体的分视角平面数字图像；(2)对每幅图像进行分色并分割成子图，在各图像中对应位置相同的子图为一组；(3)取一组子图，分别采用迭代傅里叶变换原理，计算每一子图在远场的光场分布，提取位相信息，按视角排列，编码成H1；(4)用空间光调制器显示H1，并放置于透镜的前焦面，在透镜后焦面上形成多视角图像再现，引入干涉光，通过干涉光路在记录材料上记录再现图像；(5)对应下一组子图的位置，移动记录材料的位置；(6)重复上述步骤至所有子图记录完毕，实现三维图形的记录。本发明用激光直写的方式制作三维图形，图形具有丰富的信息表达特征。
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公开(公告)号：CN101510053B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200910028297.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头，其特征在于：由物方透镜组A和像方透镜组B两组透镜组成，A组透镜由A3、A2、A1三片透镜组成，B组透镜由B1、B2、B3、B4四片透镜组成；光线传播方向依次为A3、A2、A1、B1、B2、B3、B4；其中，A1、B1为弯月型凹透镜，A2、B2为双凸透镜，A3、B3、B4为弯月型凸透镜。本发明的像方透镜采用四片结构设计，因而其数值孔径大，干涉条纹的结构精细；限定物方数值孔径，可以减少透镜数量，降低实际加工的累积工艺误差，并且便于与干涉镜头物方的衍射光栅配合；可以在激光干涉直写系统上实现亚波长结构的制作。
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公开(公告)号：CN101551482A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200910028285.9
申请日：2009-01-24
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构彩色滤光片及其制作方法，滤光片包括：透明基底、位于该基底上的三色像素阵列，其特征在于：所述三色像素阵列由光栅阵列构成，所述光栅阵列由介质层和金属层构成，金属层位于介质层的外面，每一光栅的周期与其滤光的颜色相对应，三种周期的光栅分别用于对入射光中的红、绿、蓝三色进行滤光。其制作是在透明基底上依次涂布介质层和金属层，并且使该介质层和金属层形成凹凸的光栅结构。本发明只需改变光栅的周期，就可获得针对R、G、B三色的透射光谱，降低了加工彩色滤光片的难度；获得的滤光片具有合适的透射光谱，色纯度好；偏振光透过率高。
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公开(公告)号：CN105957446A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610534526.7
申请日：2016-07-08
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种含有动态立体螺旋线的反光膜，其包括反光膜主体，反光膜主体的相对两表面上分别浮动设置有至少一曲线，相对两表面上的至少一曲线配对组成螺旋线，螺旋线分解为x、z向的往复运动和y向运动的合成，x‑y平面为反光膜主体所处的平面，z向垂直于x‑y平面，螺旋线在x、z向的往复运动中形成在一个周期内的闭合曲线或直线段的合成运动轨迹，闭合曲线在y向运动中沿着y向被拉伸展开。本发明还公开了一种机动车号牌。本发明可以满足反光膜的低成本和高安全要求，其无需在反光膜上增材制作，亦不需在反光膜内部印刷图形，螺旋线不能被扫描仪、照相机等设备复制，所制作的反光膜的动态立体螺旋线的光学特性容易被人眼所识别。
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公开(公告)号：CN105445834A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: G02B5/1857 , G03F7/2022 , G03F7/2051
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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