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公开(公告)号：CN109407479A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201710713385.X
申请日：2017-08-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种激光直写对焦装置，包括微调机构、承载平台和成像系统，微调机构与承载平台相对设置，微调机构包括微调驱动器、活动架和位移传感器，成像系统包括直写镜头，微调驱动器、位移传感器、直写镜头分别与活动架连接。本发明的激光直写对焦装置能保证直写镜头与光刻板的距离在直写镜头的焦深范围内，能解决光刻板厚度变化较大的情况下无法自动对焦的问题。本发明还涉及一种激光直写对焦方法。
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公开(公告)号：CN104614790B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201510094589.0
申请日：2015-03-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，所述光学膜包括基材层、位于基材层上方的若干菲涅尔透镜阵列层、以及位于基材层下方的若干微图形层，其中所述菲涅尔透镜阵列层由若干阵列设置的菲涅尔透镜组成，所述菲涅尔透镜阵列层与微图形层的距离为菲涅尔透镜的焦距。本发明的动态放大光学膜由菲涅尔透镜的成像作用，使得微图形层中的图形放大再现，且再现的放大像具有动态立体的效果。
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公开(公告)号：CN103488036A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310437594.8
申请日：2013-09-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种全息立体投影屏及其投影方法，投影屏包括基材层，与所述基材层的表面结合，分布有离轴响应结构和可控扩散结构，离轴响应结构使入射光整体偏折向观察区域；可控扩散结构使入射光沿一维或二维方向扩散，实现离散三维空间角谱的线性插值，形成连续的三维空间信息，实现立体投影；所述离轴响应结构和可控扩散结构的参数分别独立调制。投影光线由多束不同角度入射的携带有该角度图像信息的光线组成，投影光线由离轴响应结构偏折至观察区域，并由可控扩散结构作用形成扩散光线，不同角度入射的光线的扩散光线相互拼接形成连续的空间角谱。本发明可同时实现离轴投影和全息立体投影，立体效果好，能量利用率高。
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公开(公告)号：CN103279014A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201310236124.5
申请日：2013-06-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。
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公开(公告)号：CN103268018A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201310234223.X
申请日：2013-06-13
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B27/12
Abstract: 一种分束器件及多光束干涉光路系统，该分束器件包括挡光母板，位于该挡光母板上的多个圆孔，以及位于该多个圆孔中的多个分束透镜，通过该多个分束透镜实现多光束的分束，具有原理简单，分束效果可调的优点，并且产生的分束光路不需要采用多个支路进行调整，使得本发明的多光束干涉光路系统的总体结构简单并且紧凑，为多光束干涉曝光带来的新的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104298080B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201410621284.6
申请日：2014-11-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种无掩膜激光直写叠加曝光方法，在精密运动平台X方向走位的同时，曝光图形在SLM空间光调制器高度方向上做等像素平移显示，当平台移动距离等于SLM空间光调制器件像素成像平移量时发出曝光信号实现图形与位置的同步曝光。一行曝光完毕后SLM空间光调制器件宽度方向上图像做设定像素的平移显示，同时精密运动平台Y向偏移对应设定像素成像距离，实现高度与宽度方向上两维叠加曝光。本发明叠加曝光方法手段灵活，要获得不同的曝光叠加次数只需更改X方向显示平移量与Y方向叠加次数即可；可方便的实现对曝光计量进行精确控制；图形数据量小，任意次搭接叠加曝光数据量相同。
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公开(公告)号：CN103279014B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310236124.5
申请日：2013-06-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。
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公开(公告)号：CN104298080A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201410621284.6
申请日：2014-11-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种无掩膜激光直写叠加曝光方法，在精密运动平台X方向走位的同时，曝光图形在SLM空间光调制器高度方向上做等像素平移显示，当平台移动距离等于SLM空间光调制器件像素成像平移量时发出曝光信号实现图形与位置的同步曝光。一行曝光完毕后SLM空间光调制器件宽度方向上图像做设定像素的平移显示，同时精密运动平台Y向偏移对应设定像素成像距离，实现高度与宽度方向上两维叠加曝光。本发明叠加曝光方法手段灵活，要获得不同的曝光叠加次数只需更改X方向显示平移量与Y方向叠加次数即可；可方便的实现对曝光计量进行精确控制；图形数据量小，任意次搭接叠加曝光数据量相同。
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公开(公告)号：CN103246195A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310166341.1
申请日：2013-05-08
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种三维激光打印方法与系统，采用四参量连续调制激光打印输出方法制备由按位置坐标排列的具有特定光栅空频和取向角的衍射像素构成的三维图像。衍射像素中光栅条纹参数的调制方法基于4F成像系统与衍射光栅实现，4F成像系统包括第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组，衍射光栅置于第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组之间，通过改变衍射光栅与第一傅立叶变换透镜或透镜组之间的距离，实现光栅条纹的空频的连续调制，通过旋转衍射光栅，实现光栅条纹的光栅取向角的连续调制。本发明实现了光栅空频和取向的连续可调，基于光栅空频和取向连续可变的四参量的微纳结构来编码形成三维彩色图像。
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