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公开(公告)号：CN101573659A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200680045502.X
申请日：2006-11-30
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G03B27/64
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/58
Abstract: 本发明涉及排除位于基板和模具之间的气体的方法和系统，在该基板和模具之间还具有液体。
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公开(公告)号：CN101076436A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200580022985.7
申请日：2005-05-27
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: B28B11/08
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C43/021 , B29C2043/025 , B29C2043/5858 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及包括支撑体(50)、浮体(52)和多个弯曲臂(54、56、58、60)的顺从装置(18)。多个传递臂(54、56、58、60)中的每一个连接于支撑体(50)和浮体(52)之间以在其间平行地传递负载。为此，弯曲臂(54、56、58、60)具有第一和第二组弯曲接合点(62、64、66、68)。第一组弯曲接合点(62、64)有助于所述弯曲臂(54、56、58、60)围绕沿第一方向延伸的第一轴线的旋转运动。第二组弯曲接合点(66、68)被安排成有助于弯曲臂(54、56、58、60)围绕沿与第一方向横切的第二方向延伸的第二轴线的旋转运动。该弯曲接合点(62、64、66、68)是旋转接合点。
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公开(公告)号：CN101019066A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200580017951.9
申请日：2005-06-02
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , B41J3/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B41J3/28 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0004
Abstract: 本发明涉及将一个总体积的液体分配到基片之上的方法，所述方法包括：将多个相互间隔开的液滴设置在所述基片的一个区域上，各液滴具有与之相关的单位体积，所述区域中所述液滴的聚集体积随要在此区域形成的图案的体积而变化；等等。
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公开(公告)号：CN1839023A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200480023073.7
申请日：2004-08-13
Applicant: 分子制模股份有限公司
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C23F1/08
Abstract: 本发明提供了一种用具有一模具的一模板在一基板上印制图案的方法，该方法的特征在于：将适应性材料放置在基板和模具之间，通过适应性材料与模具和基板中的一个之间的毛细作用将适应性材料填充入模具和基板之间形成的容积中。随后，将适应性材料固化。具体来说，将模具和基板之间的距离控制在足够减弱(如果不能避免的话)模具和基板之间的压缩力的程度。其结果，在模具最初与适应性材料接触的时候，在模具和基板之间的容积内就自发进行毛细填充。
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公开(公告)号：CN1802265A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200480008024.6
申请日：2004-03-24
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: B44C1/22
CPC classification number: B81C1/0046 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/76802
Abstract: 本发明提供了在基片上成图的方法和组合物，其特征在于通过在基片上形成具有突起和凹陷图案层的成图层来产生多层结构。在成图层上形成的是保形层，多层结构具有背向基片的冠形表面。多层结构的一些部分被除去，露出基片上正对突起的区域，同时在冠形表面正对凹陷的区域形成硬掩模。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109407463B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN201811066954.7
申请日：2013-02-22
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： 崔炳镇 , S·H·安 , M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·N·米勒 , S·V·斯里尼瓦桑
Abstract: 提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
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公开(公告)号：CN104303104B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201380015762.2
申请日：2013-02-22
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： 崔炳镇 , S·H·安 , M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安 , M·N·米勒 , S·V·斯里尼瓦桑
IPC: G03F7/00
Abstract: 提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
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公开(公告)号：CN102859436B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201180007625.5
申请日：2011-01-27
Applicant: 分子制模股份有限公司
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/42
Abstract: 本发明描述了可通过在受控组合物的气体气氛中暴露于来自能量源的真空紫外(VUV)辐射移除基板上的聚合材料。本发明还描述了在进行所述移除后，用另外的蚀刻技术进行纳米压印。
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公开(公告)号：CN101356303B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN200580016113.X
申请日：2005-05-19
Applicant: 分子制模股份有限公司
Inventor： S·V·斯里尼瓦桑
IPC: C23F1/00 , H01L21/461
CPC classification number: H01L21/0337 , H01L21/3086 , H01L21/76816 , H01L21/76817
Abstract: 本发明提供了在基板上形成凹陷的方法，所述方法包括在基板上形成具有第一特征的图案化层，对第一特征结构进行修整蚀刻，形成经过修整后具有一定形状的特征，然后将所述形状反相转移到基板上。
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公开(公告)号：CN1960855B
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN200580013346.4
申请日：2005-04-19
Applicant: 分子制模股份有限公司
IPC: B32B3/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C43/003 , B29C2043/025 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0017
Abstract: 公开一种顺应的UV刻印平版印刷模板，该模板还可用作热刻印模板，以及模板的制造方法。模板主要包括浮雕图像和用来调整浮雕图像的弹性体。一个实施方式中，浮雕图像排列在柔顺的刻印层中，在刻印层和刚性透明基板之间设置了弹性体。一个实施方式中，模板与晶片表面共形。一个实施方式中，将弹性体和刻印层层叠在基板上，在刻印层上形成浮雕图像的图案，形成模板。
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