公开(公告)号：CN101971095A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN200980109009.3

申请日：2009-02-12

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： G·豪克 ,  C·萨瓦里亚-豪克 ,  U·德瓦斯 ,  H·鲍曼 ,  B·施特勒默尔 ,  C·辛普森

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/075 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/20 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/266 ,  G03F7/0047

Abstract: 用辐射敏感性可成像层制备的负性工作可成像元件，该辐射敏感性可成像层含有表面改性的二氧化硅颗粒例如热解法二氧化硅颗粒和溶胶凝胶二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1-30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。所述表面改性的二氧化硅颗粒的存在提供改进的耐磨性、降低的粘性和各种其它期望的性能。

公开(公告)号：CN101884014A

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN200880118874.X

申请日：2008-11-21

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： H·鲍曼 ,  U·德瓦斯 ,  B·施特勒梅尔 ,  C·辛普森 ,  C·萨瓦里亚-豪克 ,  G·豪克

IPC: G03F7/033 ,  B41C1/10

CPC classification number: G03F7/033 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41C2210/266 ,  Y10S430/121

Abstract: 辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括1H-四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的1H-四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的可显影性，以提供具有改进的耐化学品性和耐印力的成像后或显影后元件，例如平板印版。

公开(公告)号：CN101119851A

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN200580021964.3

申请日：2005-06-30

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： K·B·雷 ,  J·黄 ,  K·-i·施马祖 ,  H·鲍曼 ,  C·D·麦卡洛

IPC: B41J2/455 ,  B41C1/10 ,  G03F7/20

Abstract: 用于曝光平版印刷印板的装置和方法，其中所述装置包括多个发射波长为350nm－450nm的光的激光二极管。来自每个所述激光二极管的光被导向所述平版印刷印板，使得所述印板上的每个点接收来自所述多个激光二极管的至少一个所发射的光。优选地，所述平版印刷印板是紫光感光型平版印刷件，所述平版印刷件是印刷机印板。每个激光二极管的功率可以是5mW－30mW，优选激光二极管发射波长为390nm－430nm的光。