一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶

    公开(公告)号:CN114527629B

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210417713.2

    申请日:2022-04-21

    Abstract: 本发明公开了一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶,该方法基于边缘光抑制纳米刻写技术,通过双抑制光斑的结合实现在保证最大抑制强度不变的前提下压缩暗斑抑制区域,一定程度解决由抑制光过强引起刻写线宽变粗的难题,实现等效刻写光斑的压缩,从而进一步缩小纳米刻写线宽。利用本发明的方法可以实现更高精度的纳米加工能力,可为微机械、微光学、微流控等领域提供更高精度的加工手段。

    一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶

    公开(公告)号:CN114527629A

    公开(公告)日:2022-05-24

    申请号:CN202210417713.2

    申请日:2022-04-21

    Abstract: 本发明公开了一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶,该方法基于边缘光抑制纳米刻写技术,通过双抑制光斑的结合实现在保证最大抑制强度不变的前提下压缩暗斑抑制区域,一定程度解决由抑制光过强引起刻写线宽变粗的难题,实现等效刻写光斑的压缩,从而进一步缩小纳米刻写线宽。利用本发明的方法可以实现更高精度的纳米加工能力,可为微机械、微光学、微流控等领域提供更高精度的加工手段。

    一种高精度光刻胶组合物及其直写系统

    公开(公告)号:CN114185246B

    公开(公告)日:2022-05-06

    申请号:CN202210143737.3

    申请日:2022-02-17

    Abstract: 本发明属于光刻胶及激光直写技术领域,并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物,所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于,所述光刻胶组合物具有双色光敏性,可以被特定波长的飞秒激光引发聚合,同时又可以被另一束连续激光抑制聚合,抑制光束减小了飞秒激光的直写区域,从而提高了飞秒激光直写精度;进一步的,所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01,减小了激光在光刻胶中的相差或球差,从而进一步提高飞秒激光直写精度,本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体,不仅具有较高的直写精度,还有较低的直写阈值和体积收缩率。

    一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法与装置

    公开(公告)号:CN116560059A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202310017454.9

    申请日:2023-01-06

    Abstract: 一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法,通过在光刻胶中掺杂可以闪烁的荧光染料,利用边缘光抑制效应的双光束实现高精度激光直写,以及利用随机光重构显微方法进行超分辨成像。一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的装置包括进行高精度激光直写的两个光源和进行超分辨显微成像的另两个光源;其中,前者两个光源分别为使光刻胶产生光聚合过程的激发光光源和对光刻胶产生抑制聚合的抑制光源;后者两个光源分别为对染料进行活化的激活光和激发荧光染料发荧光的激发光。本发明通过在一个系统中集成激光直写与光学显微成像,进而同时实现超分辨刻写与成像两个功能,实现刻写结构的无损、非侵入直写光学成像,操作简便,节约成本。

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