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公开(公告)号：CN116264368A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202111515390.2
申请日：2021-12-13
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种基于72冲程的碟片激光器，其中多冲程泵浦腔内设有反射镜、碟片晶体和36个角锥镜，碟片晶体位于反射镜凹侧反射面的焦点处，36个角锥镜沿着绕轴线C的圆周方向布置，反射镜中部设有中心通孔，泵浦源发出的光线经过准直匀化组件后入射至反射镜的A侧，并聚焦于碟片晶体处，符合要求的波段光线通过碟片晶体分离经由反射镜中心通孔射出，其余光线反射至反射镜的B侧，然后再入射至任一角锥镜处，并经所述角锥镜反射后重新射入反射镜的B侧，并再次聚焦至碟片晶体中，碟片晶体后侧设有热沉，角锥镜的角度为45°。本发明利用反射镜和沿着圆周方向布置的角锥镜形成的反射结构实现对泵浦光72次的吸收，同时实现良好的散热。
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公开(公告)号：CN114247952A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202010998902.4
申请日：2020-09-22
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及激光晶体领域，具体地说是一种激光晶体焊接治具及焊接方法，包括焊接座、焊接罩、压柱和压块伞，所述焊接座上设有凹槽，且所述凹槽内由下到上依次设有热沉、焊料和激光晶体，焊接罩罩于所述焊接座上，且所述压柱下端穿过所述焊接罩后与所述激光晶体相抵，所述压柱上端设有压块伞，所述焊接罩一侧设有观察窗，所述焊接座上设有盲孔。本发明在焊料熔化后利用激光晶体、压柱和压块伞的重力作用下增强焊料渗透，并且挤压出残余的焊料减小热阻，从而增大热传递系数，实现对激光晶体高效换热。
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公开(公告)号：CN105714263B
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201410719272.7
申请日：2014-12-02
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: C23C14/50
Abstract: 本发明涉及种光学四棱镜镀膜时的装夹方法。该方法包括主盘、棱镜、角度互补块三个部分。主盘上开设有个形状和尺寸与棱镜下表面相同的通孔,于通孔内壁面上设有用于承载四棱镜和角度互补块的凸台;角度互补块的角度及尺寸设计与棱镜的角度及尺寸保持互补,装夹时,棱镜与角度互补块拼接,起放入主盘,最后整体装入镀膜机行星夹具即可。该方法可做到套夹具(个主盘,三个角度互补块)镀四棱镜的四个面,且镀膜后各个面无膜料衍射,提高了膜层质量,提升了产品品质,减少了夹具投入。该方法适用于各种类型棱镜镀膜时的装夹。该方法使用简单,操作方便,节约夹具成本且有效解决了棱镜斜面镀膜时的装夹难题。
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公开(公告)号：CN107462943A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201610391005.0
申请日：2016-06-03
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: G02B1/18 , C23C16/40 , C23C16/455
CPC classification number: G02B1/18 , C23C16/40 , C23C16/45527 , C23C16/45555
Abstract: 本发明公开了一种原子层沉积法制备的镧系氧化物疏水光学薄膜，其膜层材料采用镧系氧化物，该膜层镀于光学镜片基底表面时，不影响原镜片的光学性能。可应用于要求疏水性的光学器件表面，如防雾光学透射镜，反射镜等。本发明的镧系氧化物薄膜须采用原子层沉积镀膜工艺和设备进行制备，疏水性好，光学性能优良，应用广泛。
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公开(公告)号：CN106918608A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201510982237.9
申请日：2015-12-24
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: G01N23/20
CPC classification number: G01N23/20025 , G01N2223/056 , G01N2223/309
Abstract: 本发明涉及一种大样品X射线衍射物相分析支架。商用的X射线衍射仪所配备的物相分析用标准平面样品台使用簧片对样品进行定位，由于簧片弹力和尺寸的限制，其能测试的样品大小一般在φ40以下，厚度在4mm以下，质量不超过100g。本发明所涉及的X射线衍射仪用大样品物相分析扩展支架是对X射线衍射仪标准平面样品台的扩展，利用标准平面样品台的旋转轴为支撑，极大的提高了支架的承重能力，使得X射线衍射仪能够对大样品进行物相分析。使用扩展支架后，样品的尺寸仅受限于X射线入射光路段与衍射光路段之间的距离，样品重量则以不能造成测角仪的旋转轴变形为限制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104711527A
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201310681582.X
申请日：2013-12-11
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种反应磁控溅射低温制备TiN薄膜的方法，通过对传统磁控溅射技术的改进，在真空室内引入一等离子体区域，采用中频脉冲直流或直流溅射溅射Ti金属靶，并控制工作气体压强、温度、时间、溅射功率等工艺条件，在衬底上沉积TiN薄膜。使用本方法可以在低温环境下性能良好的TiN薄膜，薄膜的结晶度、致密性及硬度得到提高，表面粗糙度小，薄膜与衬底有较高的结合力，很难产生局部脱落。本发明可以为硬质薄膜的实验研究或工业生产提供样品。
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公开(公告)号：CN103575663A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201210279625.7
申请日：2012-08-07
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种能够精确标定金属及半导体薄膜材料光学常数的方法。该方法适用于任何工艺制备的薄膜态金属和半导体材料，其流程如下：厚度为15-100nm薄膜样品制备；X射线全反射谱法精确标定厚度；透射率谱线及反射率谱线的测试；图形法求解光学常数。本方法与传统的光谱直接分析方法相比，能够解决金属及半导体薄膜厚度精确求解的问题，减少因厚度无法准确标定带来的误差，简化了求解过程，提高了光学常数求解的精度和速度。本方法具有广泛的适用性，能够为所有的涉及金属与半导体薄膜材料光学常数的科学与工程问题提供准确的参考数据。
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公开(公告)号：CN206557424U
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201720261270.7
申请日：2017-03-17
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本实用新型公开一种基于带通分光技术的高频蓝/紫光防护薄膜，由多组高低折射率膜层对组成，其中高折射率膜层为Ta2O5层，低折射率膜层为SiO2层，膜层厚度分别为62nm和75nm，特征为滤光带的中心波长为450nm，半峰宽为62nm，可将发光二极管发出的位于430‑490nm的蓝光强度降低至20％。可应用于电脑液晶屏，平板电脑屏和智能手机屏等基于三基色原理发光技术的高频蓝光防护。用其制备的高频蓝/紫光防护镜片或屏幕贴膜，无色并且美观。
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公开(公告)号：CN206401702U
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201621351104.8
申请日：2016-12-10
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本实用新型公开了一种高热流密度的冷却装置，包括：圆形碟片状增益晶体；高热导率薄膜；带孔的射流喷嘴；带卡口的筒状外壁；焊料自吸收孔五部分组成。本实用新型利用带卡口的筒状外壁将圆形碟片状增益晶体夹持后，将晶体焊接于夹持结构上；采用原子沉积的方式在晶体后表面制备高热导率薄膜。利用射流喷嘴向热导率薄膜喷射冷却水，实现晶体高效换热，可大大提升碟片晶体的换热能力。
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公开(公告)号：CN207588207U
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201721746309.0
申请日：2017-12-14
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本实用新型公开了一种光束质量转化装置，其装置包括：半导体激光器；碟片激光器；掺镱石英光纤三部分组成。本实用新型利用光束质量M2＜200的半导体激光器对多冲程碟片激光器进行端面泵浦，获得连续多模、高光光转换效率激光输出，M2＜50。以碟片激光器输出的激光作为二级泵浦源，对掺镱石英光纤进行同带泵浦，获得具有低量子亏损(2％)，高光‑光转化效率，近衍射极限(M2＜2)的激光输出。本实用新型巧妙的利用了半导体激光器的高效性，碟片激光器的高效散热性和同带泵浦掺镱石英光纤输出的低量子亏损特性，实现了高功率，高光束质量的转化方法。
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