窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置

    公开(公告)号:CN208224427U

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201820500321.1

    申请日:2018-04-10

    Abstract: 本专利公开了一种窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置,该装置中包括试样表面处理模块,低温扫描电容显微测量模块,微分电容测量控制模块和红外光激发模块。待测材料在试样表面处理腔中经处理后,输送至低温扫描电容显微测量真空腔中的低温试样台上,分别在红外光激发和暗背景条件下进行微分电容显微分布的测量,最后将测得的微分电容信号差值,得到由光激发少数载流子引起的微分电容信号分布。本专利适用于多数窄禁带半导体材料,能够在接近工作状态下实现对材料中少数载流子分布的灵敏测量,空间分辨率足以解析红外光电功能结构中PN结等关键区域,对评估半导体材料特性、预测和优化器件性能有重要的意义。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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