公开(公告)号：CN117355925A

公开(公告)日：2024-01-05

申请号：CN202280036003.3

申请日：2022-05-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 道菅隆

IPC: H01L21/3065

Abstract: 一种基片处理系统，具有基片处理装置、真空输送室、输送机构、吸引机构和控制部。基片处理装置具有对基片执行真空处理的真空处理室。真空输送室与真空处理室连接，具有能够与真空处理室连通的输送口。输送机构配置在真空输送室，经输送口输送基片。吸引机构与输送机构相邻地配置在真空输送室，经输送口吸引真空处理室内的部件的附着物。控制部控制输送机构和吸引机构。

公开(公告)号：CN116711051A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202180084843.2

申请日：2021-12-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 道菅隆

IPC: H01L21/205

Abstract: 维护装置包括：形成有开口部的壳体，开口部具有与在处理容器设置有第一开闭门和第二开闭门的真空处理装置的第二开闭门对应的尺寸，第一开闭门用于基片的送入送出，第二开闭门与第一开闭门不同，能够将开口部气密地安装于第二开闭门；用于对壳体内部进行减压的减压机构；和配置在壳体内部的吸引机构，其能够经由开口部进入处理容器内，对处理容器内的对象物的附着物进行吸引。

公开(公告)号：CN113451101A

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN202110659565.0

申请日：2018-08-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永海幸一 ,  藤原一延 ,  大下辰郎 ,  道菅隆 ,  丸山幸儿 ,  永关一也 ,  桧森慎司

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理方法和等离子体处理装置，其能够抑制基片的蚀刻速率下降并且降低照射至腔室主体的内壁的离子的能量。一个实施方式的等离子体处理装置包括产生直流电压的直流电源，该直流电压具有负极性且用于被施加至工作台的下部电极。在利用该等离子体处理装置的等离子体处理中，供给高频以使腔室内的气体激励而生成等离子体。另外，来自直流电源的负极性的直流电压被周期性地施加至下部电极，以将来自等离子体的离子引入到工作台上的基片。在各个周期内直流电压被施加至下部电极的期间所占的比率被设定为40％以下。

公开(公告)号：CN111886935A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201980017588.2

申请日：2019-06-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 舆水地盐 ,  平野太一 ,  早坂彻 ,  久保田绅治 ,  丸山幸儿 ,  道菅隆

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供控制方法和等离子体处理装置。一种具有载置被处理体的第一电极的等离子体处理装置的控制方法，其包括：对上述第一电极供给偏置功率的步骤；和将具有比上述偏置功率高的频率的生成源功率供给到等离子体处理空间的步骤，上述生成源功率具有第一状态和第二状态，上述控制方法包括第一控制步骤，该第一控制步骤与基准电气状态的一周期内的相位同步地交替施加上述第一状态和上述第二状态，其中上述基准电气状态表示由上述偏置功率的供电系统测量出的电压、电流或电磁场的任一者。

公开(公告)号：CN111819664A

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN201980017608.6

申请日：2019-07-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 舆水地盐 ,  久保田绅治 ,  丸山幸儿 ,  道菅隆 ,  永海幸一

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 本发明提供一种具有能够载置被处理体的第一电极和与所述第一电极相对的第二电极的等离子体处理装置的控制方法，其具有：向所述第一电极供给偏置功率的步骤；和向所述第二电极供给负直流电压的步骤，所述负直流电压周期性地反复取第一电压值的第一状态和取绝对值小于所述第一电压值的第二电压值的第二状态，所述控制方法包括第一控制步骤，在与所述偏置功率的高频周期同步的信号的各周期内的部分期间，或者在所述偏置功率的传输路径上所测量的周期性地变动的参数的各周期内的部分期间施加所述第一状态的所述负直流电压，且与所述第一状态相连续地施加所述第二状态的所述负直流电压。

公开(公告)号：CN111524781A

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：CN202010070264.X

申请日：2020-01-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 久保田绅治 ,  道菅隆

IPC: H01J37/32

Abstract: 一例示性实施方式所涉及的高频电源具备构成为产生高频电力的发电机。高频电力包含多个电力成分。多个电力成分分别具有以指定频率的间隔相对于基本频率对称设定的多个频率。高频电力的包络线具有以指定频率或以该指定频率的2倍以上倍数的频率且按规定的时间间隔周期性出现的峰值。高频电力的功率级设定成在除了峰值的每一个出现时刻紧前的包络线的零交叉区域与该出现时刻紧后的包络线的零交叉区域之间的期间以外的期间为零。