载置台和等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN108987230A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201810538396.3

    申请日:2018-05-30

    Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置用的载置台,其可设定的温度的范围宽广,并且,能够细微地控制基片的面内温度分布。一个实施方式的载置台包括静电吸盘。静电吸盘具有基座和吸盘主体。吸盘主体设置在基座上,利用静电引力保持基片。吸盘主体具有多个第1加热器和多个第2加热器。多个第2加热器的个数比多个第1加热器的个数多。第1加热器控制器利用来自第1电源的交流或直流的输出对多个第1加热器进行驱动。第2加热器控制器利用来自第2电源的交流或直流的输出对多个第2加热器进行驱动,该第2电源具有比来自第1电源的输出的功率低的功率。

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