气体处理装置和散热方法
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100495655C

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200480021984.6

    申请日:2004-08-30

    CPC classification number: C23C16/45565 C23C16/455

    Abstract: 在重叠喷淋头基座(41)、气体扩散板(42)和喷淋平板(43)而构成,并且通过连通在气体扩散板(42)的两面上形成的第一气体扩散部(42a)、第二气体扩散部(42b)以及在喷淋平板(43)上形成的第一气体扩散空间(42c)的第一气体排出口(43a)和连通第二气体扩散空间(42d)的第二气体排出口(43b)而向装载台(5)上的芯片W供给原料气体和氧化剂气体的喷淋头(40)中,在第一气体扩散部(42a)内设置有与喷淋头基座(41)的下面密接的多个传热柱(42e),使其间的部分成为第一气体扩散空间(42c),通过该传热柱(42e),将从装载台(5)接受的辐射热沿着喷淋头(40)的厚度方向传递。

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