公开(公告)号：CN101206412A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200710159744.8

申请日：2007-12-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 八寻俊一 ,  坂井光广 ,  坂本贵浩

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  F26B5/04 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出并防止转印痕迹附着在基板上的涂敷膜上。该减压干燥单元(VD)(46)通过搬入侧滚轴搬送路(104)的滚轴搬送和台(122)上的浮起式辊搬送，将应接受减压干燥处理的基板G搬入腔室(106)中，通过台(122)上的浮起式辊搬送路的浮起式辊搬送和搬出侧滚轴搬送路(110)的滚轴搬送，将在腔室(106)内完成减压干燥处理的基板G向腔室(106)外搬出。在减压干燥处理中，基板G以面接触状态载置在台(122)的上面。

公开(公告)号：CN101183224A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200710170254.8

申请日：2007-11-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂本贵浩 ,  坂井光广 ,  八寻俊一

IPC: G03F7/38 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出并最小限度抑制附着在基板的涂敷膜上的基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(VD)(46)通过在搬入侧滚动搬送通路(104a)和内部滚动搬送通路(104b)上进行的滚动搬送，以滚动搬送方式将应接受减压干燥处理的基板G搬入到腔室(106)内，通过内部滚动搬送通路(104b)和搬出侧滚动搬送通路(104c)上进行的滚动搬送，将腔室(106)内完成减压干燥处理的基板G搬出腔室(106)外。在减压干燥处理中，多个升降销(128)使基板G保持水平姿势将其从滚动搬送通路(104b)向上方提起，以极细销尖部支撑基板G。

公开(公告)号：CN100347812C

公开(公告)日：2007-11-07

申请号：CN200410004100.8

申请日：2004-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 西冈慎二 ,  坂井光广 ,  村上卓人 ,  田尻健一

IPC: H01L21/00 ,  G02F1/136

Abstract: 在本发明中，由于相应于基板的种类进行气缸的切换，所以能够防止在基板的成品区域转印支持销的痕迹。此外，在本发明中，由于以平台为基准驱动支持销升降，所以能够使气缸的驱动量比较少，而且能够极力抑制微粒的产生。

公开(公告)号：CN101038858A

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200710087680.5

申请日：2007-03-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梶原拓伸 ,  坂井光广 ,  柿野彰

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  B65G49/05 ,  B65G49/07 ,  G05B19/04 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种即使基板大型其安全性也高并可避免颗粒物飞散而生产率高且能以想要顺序使退避的多个基板再进出搬送线的基板缓冲装置(36)，包括：具有多级能进出搬送线(A)且上下放置搬送线(A)上搬送的基板(G)的载置台(5a～5f)的搁板部(5)和使搁板部(5)升降以使任意载置台(5a～5f)进出搬送线(A)的升降机构(6)，各载置台(5a～5f)具有进出搬送线(A)时沿搬送方向搬送基板(G)的输送机构(50a～50f)并作为搬送线(A)的一部分工作，将搬送线(A)搬送的基板(G)放置在进出搬送线(A)的载置台(5a)，搁板部(5)由升降机构(6)升降使载置台(5a)与基板(G)从搬送线(A)退避。