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公开(公告)号：CN100462224C
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200480035442.4
申请日：2004-10-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B32B27/00
CPC classification number: B32B27/08 , B32B7/02 , B32B27/06 , B32B2250/05 , B32B2250/24 , B32B2307/306 , B32B2307/418 , B32B2307/7246 , B32B2307/7265 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495 , Y10T428/24975 , Y10T428/3154 , Y10T428/31786 , Y10T428/31797 , Y10T428/31848
Abstract: 本发明的目的在于提供一种基本没有因反射或散射导致的传导损失的、耐热性、耐湿性优良的、任意控制了折射率分布的层压薄膜。即，本发明提供一种层压至少5层或其以上树脂层而形成的层压薄膜，其含有以下层结构：各树脂层的厚度为1nm～100nm，并且同一组成A的树脂层的厚度随着从层压薄膜的表面侧朝向反面侧而增加或减少。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1886258A
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200480035442.4
申请日：2004-10-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B32B27/00
CPC classification number: B32B27/08 , B32B7/02 , B32B27/06 , B32B2250/05 , B32B2250/24 , B32B2307/306 , B32B2307/418 , B32B2307/7246 , B32B2307/7265 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495 , Y10T428/24975 , Y10T428/3154 , Y10T428/31786 , Y10T428/31797 , Y10T428/31848
Abstract: 本发明的目的在于提供一种基本没有因反射或散射导致的传导损失的、耐热性、耐湿性优良的、任意控制了折射率分布的层压薄膜。即，本发明提供一种层压至少5层或其以上树脂层而形成的层压薄膜，其含有以下层结构：各树脂层的厚度为1nm～100nm，并且同一组成A的树脂层的厚度随着从层压薄膜的表面侧朝向反面侧而增加或减少。
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公开(公告)号：CN1106262C
公开(公告)日：2003-04-23
申请号：CN98127133.2
申请日：1998-12-17
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G11B5/7305 , B29C55/16 , B29K2067/00 , Y10T428/31786 , Y10T428/31794
Abstract: 本发明的目的是提供一种生产在刚性，韧性，尺寸稳定生，电性能等方面优良且厚度波动和表面疵点较少的聚酯薄膜的方法，该膜非常适合作为各种工业材料如磁生记录介质，电容器，热转录条带，热油印机蜡纸的薄膜。本发明的第一种方法是生产聚酯膜的方法，其中主要包含聚酯的树脂制造的膜由同时双轴向拉伸拉幅烘箱拉伸，该方法包括完成以面积拉伸比是1.0005到3.0倍的小比例拉伸3次或更多步骤，以达到总的面积拉伸比是25到150倍，本发明的第二种方法是生产聚酯膜的方法，其中主要包含聚酯的树脂制造的膜由同时双轴向拉伸拉幅烘箱拉伸，包括完成一系列包括拉伸和其后的放松的操作2次到小于10000次的步骤，以达到总的面积拉伸比是25到150倍。
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公开(公告)号：CN1314839A
公开(公告)日：2001-09-26
申请号：CN00801146.X
申请日：2000-04-18
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 提供一种磁道偏移小、运行耐久性和保存稳定性优良的、适用于作为高密度磁记录媒体用带基薄膜的双轴取向聚酯薄膜及其制造方法。本发明的目的是通过在49℃、90%RH的条件下,在纵向施加32MPa荷重的状态下放置72小时时的横向尺寸变化率(A)在－0.3～0%的范围内来达成的。
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公开(公告)号：CN1248514A
公开(公告)日：2000-03-29
申请号：CN99118718.0
申请日：1999-09-10
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G11B5/7305 , C08J5/18 , C08J2367/02 , C08J2379/08 , C08L67/02 , C08L79/08 , Y10S428/91 , Y10T428/24355 , Y10T428/2495 , Y10T428/24967 , Y10T428/31721 , Y10T428/31786
Abstract: 本发明提供一种热尺寸稳定及透明优异的、高质量双轴取向聚酯薄膜及其制造方法。还提供实用特性,如磁记录带用的记录轨道偏移性、磁记录卡用的卷边性、制版加工时的尺寸变化性、带用印字偏移性、电容器用耐热性、热敏孔版印刷原纸用穿孔灵敏性、低温卷边性等改的双轴取向聚酯薄膜。通过由对苯二甲酸乙二醇酯为主要成分的聚酯(A)及聚醚酰亚胺(B)组成的、单一玻璃化温度、纵向和横向至少一方的折射率为1.60～1.80的双轴取向聚酯薄膜达到了本发明的目的。
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公开(公告)号：CN1227785A
公开(公告)日：1999-09-08
申请号：CN98127133.2
申请日：1998-12-17
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G11B5/7305 , B29C55/16 , B29K2067/00 , Y10T428/31786 , Y10T428/31794
Abstract: 本发明的目的是提供一种生产在刚性，韧性，尺寸稳定性，电性能等方面优良且厚度波动和表面疵点较少的聚酯薄膜的方法，该膜非常适合作为各种工业材料如磁性记录介质，电容器，热转录条带，热油印机蜡纸的薄膜。本发明的第一种方法是生产聚酯膜的方法，其中主要包含聚酯的树脂制造的膜由同时对轴向位伸拉幅烘箱拉伸，该方法包括完成以面积拉伸比是1.0005到3.0倍的小比例拉伸3次或更多步骤，以达到总的面积拉伸比是25到150倍，本发明的第二种方法是生产聚酯膜的方法，其中主要包含聚酯的树脂制造的膜由同时双轴向拉伸拉幅烘箱拉伸，包括完成一系列包括拉伸和其后的放松的操作2次到小于10000次的步骤，以达到总的面积拉伸比是25到150倍。
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