一种磁场高度可调节的矩形大弧源

    公开(公告)号:CN207176060U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135321.8

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种磁场高度可调节的矩形大弧源,包括法兰式框架、靶材、磁路组件、水冷靶座;在法兰式框架的内部设置水冷靶座、在水冷靶座的上方设置靶材;其特征在于,在水冷靶座的内部、在靶材的下方设置第一空腔;在第一空腔内设置一磁路组件,磁路组件的下方设置一调节装置;磁路组件在第一空腔内上、下调节;解决了现有的多弧离子镀膜一般都采用多排小弧源并列的安装模式或线圈激励的单个矩形弧源的方式,满足了镀膜产品对于磁路结构的要求。

    高效率真空获取装置
    22.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220059865U

    公开(公告)日:2023-11-21

    申请号:CN202321668876.4

    申请日:2023-06-28

    Abstract: 本实用新型涉及一种高效率真空获取装置,在低真空度抽取装置上并联低真空度抽取装置;在低真空度抽取装置与高真空度抽取装置之间设置高低真空度切换装置;高低真空度切换装置将若干个低真空度抽取装置切换成同时工作;达到真空度后,高低真空度切换装置将其中一个低真空度抽取装置切换成与高真空度抽取装置并行工作,使得其中一个低真空度抽取装置为高真空度抽取装置维持真空;解决了在现有的真空获取装置中,用作分子泵的维持泵的旋片泵仅做为维持泵来使用,分子泵启动的时间滞后以及导致真空获取装置抽取真空的效率不高的技术问题。

    真空内部平移带旋转的工件架

    公开(公告)号:CN220057013U

    公开(公告)日:2023-11-21

    申请号:CN202321668955.5

    申请日:2023-06-28

    Abstract: 本实用新型涉及一种真空内部平移带旋转的工件架,在平移导轨装置之间设置平移装置;在平移装置上设置旋转装置;在旋转装置上固定工件放置部件;平移装置在平移导轨装置之间移动的同时,旋转装置带着所述工件放置部件旋转;从而使镀膜产品在前后平移的过程中,同时处于旋转状态;保证工件膜层的均匀性。

    真空镀膜工装
    24.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220057012U

    公开(公告)日:2023-11-21

    申请号:CN202321668805.4

    申请日:2023-06-28

    Abstract: 本实用新型涉及一种真空镀膜工装,采用了转盘;沿着所述转盘的圆周,在转盘上活动连接若干个所述夹具套管;在转盘的外侧固定拨片装置,拨片装置随着转盘的转动,拨动夹具套管,进行自转;在丝锥、钻头、铣刀等产品的真空镀膜的时候,能够使得膜层均匀,解决了现有技术中在丝锥、钻头、铣刀等产品的真空镀膜的时候,工件圆周方向的面与靶面的朝向不一致,从而导致膜层不均匀,使得丝锥、钻头、铣刀等产品在真空镀膜的过程中,良品率不高的技术问题。

    同心双轴真空密封传动装置

    公开(公告)号:CN218761258U

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202223239770.0

    申请日:2022-12-02

    Abstract: 本实用新型涉及一种同心双轴真空密封传动装置,采用在内轴结构的外侧活动连接外轴结构;内轴结构的一端连接转盘;外轴结构的一端连接大齿轮;大齿轮通过啮合小齿轮,内轴结构带动转盘进行自转;外轴结构带动转盘进行公转;实现了外轴结构静止时,内轴结构带着转盘公转;当内轴结构静止时,外轴结构带着大齿轮转动,解决了在现有技术中,一般的真空设备转架只有一种旋转状态,即转盘公转并带着自转轴公转并自转,但是,随着镀膜技术的发展需要进行产品的定点镀膜,这个时候就需要转盘在定点停止但自转轴需保持自转,使得只有一种旋转状态的真空设备转架无法满足要求的问题。

    一种小弧源靶材快速更换装置

    公开(公告)号:CN209352971U

    公开(公告)日:2019-09-06

    申请号:CN201822247089.8

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本实用新型公开了一种小弧源靶材快速更换装置,在所述的小弧源靶材装置的圆周的一侧,在所述的安装法兰上设置若干个弹性夹具;所述的小弧源靶材装置设置在所述的安装法兰上;在所述的小弧源靶材装置的一侧固定所述的转动座;在所述的转动座的两侧设置一段弧形凹槽,在弧形凹槽内设置定位销;所述的定位销固定在所述的滑动块上;在滑动块与转动座通过固定轴固定;在所述的滑动块的中间穿入圆导轨;所述的圆导轨固定在安装法兰上;技术效果在于,小弧源靶材装置能够快速地进行安装,杜绝了由于小弧源靶材会因为多次的紧固拆卸,造成小弧源固定法兰螺纹孔磨损的问题,延长了零部件的使用寿命。同时,用固定轴将小弧源靶材与安装法兰连接在一起,换靶时只需将靶材等主体组件拉出,大大简化了换靶操作,减少了所需时间。

    一种真空镀膜室用双层防护观察窗

    公开(公告)号:CN207176069U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135271.3

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种真空镀膜室用双层防护观察窗,其特征在于,所述的真空镀膜室用双层防护观察窗包括第一法兰、外层观察窗、内层观察窗、第二法兰,挡板;第一法兰与第二法兰之间依次设置外层观察窗、内层观察窗;在内层观察窗的右侧设置挡板;挡板为转动挡板;采用了挡板挡住真空镀膜室出现镀膜的颗粒物,延长镀膜的颗粒物污染观察室的时间;同时,在厚的观察室的里面设置一层较薄的观察室;这样,实现只要更换较薄的观察室就可以了,减少成本支出。

    带水冷高真空用旋转轴密封装置

    公开(公告)号:CN213419882U

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN202022109479.6

    申请日:2020-09-23

    Abstract: 本实用新型特别涉及一种带水冷高真空用旋转轴密封装置,包括:轴,设置在带水冷高真空用旋转轴密封装置的中心位置;水冷轴承座,轴设置在水冷轴承座内;轴的一端穿出水冷轴承座;油封,设置在轴上,并将油封设置在水冷轴承座的内部;轴承,设置在轴上,轴承设置在水冷轴承座的内部;端部安装板,设置在水冷轴承座的一侧,并与水冷轴承座固定;本实用新型用于替换现有技术中的磁流体真空密封传动装置,解决常用的磁流体真空密封传动装置一旦损坏,存在磁流体真空密封传动装置直接报废,不能更换密封备件的技术问题,同时,需要高真空用旋转轴密封装置结构简单,造价低廉,通用性好等要求。

    一种大型真空镀膜连续线腔体

    公开(公告)号:CN209669345U

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:CN201920091687.2

    申请日:2019-01-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种大型真空镀膜连续线腔体,包括进样室;中间阀门;第一缓冲室;镀膜室;第二缓冲室;在进样室的一端设置第一阀门;在进样室的另一端与中间阀门的一端进行连接;中间阀门的中间设置密封阀板;在中间阀门的另一端连接第一缓冲室的一端,在第一缓冲室的另一端连接镀膜室的一端;镀膜室的另一端连接第二缓冲室的一端,第二缓冲室设置第二阀门;在本实用新型中的技术效果在于,大型真空镀膜连续线腔体能够被应用于真空镀膜连续生产,满足真空镀膜连续生产对于镀膜腔体的要求。

    一种工具镀膜腔体
    30.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209669338U

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:CN201920091961.6

    申请日:2019-01-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种工具镀膜腔体,其特征在于,包括镀膜腔体、底架、视窗接口、小弧源接口、主抽口、门上旋转多弧接口、腔体门;底架上设置镀膜腔体;在镀膜腔体的正面上设置若干个小弧源接口;小弧源接口呈若干排;小弧源接口列与列之间呈品字形排列;在小弧源接口之间设置视窗接口;在镀膜腔体的一侧设置若干个主抽口;在镀膜腔体的反面设置腔体门;在腔体门的下方设置若干个门上旋转多弧接口;在腔体门上同样设置若干个视窗接口;本实用新型的技术效果在于,利用在镀膜腔体上结构上的改变;改变了现有技术中镀膜有效区过窄的技术问题,提升了镀膜的效率,提升了镀膜产品的质量。

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