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公开(公告)号：CN104359838A
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201410630019.4
申请日：2014-11-11
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01N21/25
Abstract: 本发明涉及一种无损检测梨的硬度方法，通过可见-近红外波段的高光谱成像系统测得多个不同种类的梨的高光谱图像，再通过黑白版校正，将高光谱图像中每一点的光谱响应强度转换成统一的0-100%的反射率图像，再通过Labview软件对图像的亮度进行提取和着色，将不同的亮度区域区分开，然后在同一颜色区域选取10个不同的点求平均代表整个梨的反射率，结合梨的反射率曲线提取每一波段的反射率信息通过PCA提取特征波段，通过国家标准方法测得的梨的硬度的实际值，再用PLS算法建立回归模型，得到各种类梨的回归方程，根据回归方程，便可通过测量所测梨的光谱图，计算出所测梨的硬度。可以广泛应用于梨的质量检测，检测过程，方便、快捷、无损、准确。
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公开(公告)号：CN102681366B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201210170225.2
申请日：2012-05-28
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法，光源的光依次与第一全反镜，分束镜；第二全反镜，第三全反镜；第一空间滤波器；第二空间滤波器；凹面全息光栅基片通过光连接；凹面全息光栅基片放置于二维平移装置上方的夹具内；在凹面全息光栅基片放置处放置第四全反镜，从光源出射的光线正入射到第四全反镜的中心，利用二维平移装置使旋转台顺时针方向旋转180度，使得第二全反镜反射的光线正入射到第四全反镜的中心，此时第四全反镜的中心位置即为转台中心位置。本发明精确确定转台的回转中心，并调节凹面全息光栅基片中心位于转台的回转中心上，对于制作凹面光栅质量、对像差的优化起着决定作用。
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公开(公告)号：CN103543485A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310561094.5
申请日：2013-11-13
Applicant: 上海理工大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种平面双闪耀光栅的制作方法，其步骤为：a、在对平面玻璃基底进行除尘清洁后先后在其表面分别镀上铬膜和铝膜；b、把刻刀安装在光栅刻划机上，同时将基底放置在工作平台上；c、启动电机进行预刻划，利用电子显微镜观察预刻划的槽型，根据槽型调节好刻刀的刀角倾度和后角高度获得理想槽型，固定好基底在其表面滴上硅油；d、固定好刻刀开始正式刻划，当刻好第一衍射角的光栅后停止电机，旋转选择第二把刻刀固定好位置后开始第二衍射角的光栅的刻划工作；e、完成刻划工作后取出光栅清洗残余的硅油，制得双闪耀光栅。本发明适用于普通光栅刻划机，所制光栅适用于宽波段、体积小、集成化的便携式光谱仪。
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公开(公告)号：CN102681366A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210170225.2
申请日：2012-05-28
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 凹面全息光栅制作中的曝光光路系统及调整回转中心的方法，光源的光依次与第一全反镜，分束镜；第二全反镜，第三全反镜；第一空间滤波器；第二空间滤波器；凹面全息光栅基片通过光连接；凹面全息光栅基片放置于二维平移装置上方的夹具内；在凹面全息光栅基片放置处放置第四全反镜，从光源出射的光线正入射到第四全反镜的中心，利用二维平移装置使旋转台顺时针方向旋转180度和90度，再次使第二全反镜反射的光线正入射到第四全反镜的中心，此时第四全反镜的中心位置即为转台中心位置。本发明精确确定转台的回转中心，并调节凹面全息光栅基片中心位于转台的回转中心上，对于制作凹面光栅质量至关重要，尤其是对像差的优化起着决定作用。
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公开(公告)号：CN102540478A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110350654.3
申请日：2011-11-08
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 一种利用导模共振光栅阵列的组合实现彩色图像再现的方法，整幅图像由玻璃基底、透明导电膜、氧化铪薄膜和光栅阵列构成，其特征在于：所述的透明导电膜和氧化铪薄膜为两层折射率不同的介质膜层；所述光栅阵列只包含三种仅仅是周期不同的光栅基元，不同周期的光栅可分别从入射自然光中通过调整光栅层的结构参数，分离出“红”、“绿”、“蓝”三基色；首先由图像处理软件读出原图像像素的RGB值，然后依据公式计算所需要再现的彩色图像的红、绿、蓝三基色的分布，进而利用导模共振光栅基元阵列的不同组合实现彩色图像再现。采用本发明制作的载体将取代目前传统的油墨印刷技术，既无污染又节约资源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115112237A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210767632.5
申请日：2022-06-30
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开了一种消像散+1级衍射型凸面光栅同心折反射式成像光谱仪，包括：入射狭缝；位于所述入射狭缝一侧的弯月折反射镜；位于入射狭缝与弯月折反射镜之间的凸面光栅；分别位于入射狭缝两侧的第三像平面与第二像平面，所述第二像平面远离第三像平面的一端设置有第一像平面，第一像平面、第二像平面及第三像平面位于同一平面上；所述凸面光栅位于第一像平面与第二像平面之间，且工作在+1级衍射。远心光线通过入射狭缝入射，经过弯月折反射镜折射和反射，由凸面光栅衍射，根据凸面光栅刻槽密度的不同，最终分别成像于第一像平面、第二像平面或第三像平面。根据本发明，具有消像散、结构简单紧凑、成像质量好、光谱分辨率高、衍射效率高、易于加工装调的特点，适用于轻小型、高性能、低成本的微型大气遥感探测。
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公开(公告)号：CN103255387B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201310085578.7
申请日：2013-03-16
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 一种中阶梯光栅的复制方法，包括以下步骤：a.将母光栅装在真空镀膜机中，通过毛细吸管定标精确控制硅油的用量，在电极上加上硅油和铝丝，将蒸发电极的位置改到真空镀膜机底板中间，确定修正板的形状与位置，安装晶控膜厚监测仪；b.当达到第一真空度时，对母光栅进行镀油；c.油镀好后继续抽真空，当达到第二真空度时，对已镀油母光栅进行镀铝；d.将已镀铝母光栅送入烘箱中保温；e.将胶粘剂去气泡并放到烘箱中预热；f.将处理完成的胶粘剂滴到已镀铝母光栅表面，再将已清洁处理好的光栅毛坯压到胶黏剂上，接着将压块压到光栅毛坯上，并送入烘箱保温；g.移除母光栅和压块，得到中阶梯光栅。
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公开(公告)号：CN104406940A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410714314.8
申请日：2014-12-01
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01N21/55
Abstract: 本发明涉及一种打工业蜡大米的无损鉴别方法，利用可见-近红外高光谱成像系统拍摄大米的高光谱图像，可以得到大米的三维信息，其中两维是空间信息，一维是光谱信息。通过黑白板校正将大米样品每个波长下的光谱响应强度转化为反射率，并利用多元散射校正（MSC）对反射率数据进行预处理。利用连续投影算法（SPA）提取了8个特征波长，然后拍摄未知大米得到其高光谱图像，可以根据偏最小二乘法（PLS）建立数学回归模型对未知大米是否打工业蜡进行鉴别。方便快捷，操作简单，为市场上快速无损鉴定打工业蜡大米提供了一种可行的方法。
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公开(公告)号：CN103604498A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201310638540.8
申请日：2013-12-04
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明涉及一种宽光谱Offner成像光谱仪分光系统，包括光源、两个凹面反射镜、凸面光栅和面阵探测器，凸面光栅凸面对着两块凹面反射镜凹面放置，使三者的球心均置于光轴Z上，光源放置在垂直于光轴Z的平面内，并位于第一凹面反射镜凹面前方，光源发出的光束照射到第一凹面反射镜上，经过第一凹面反射镜反射到凸面光栅上，经过凸面光栅后得到的衍射光谱再照射到第二凹面反射镜上，最后经第二凹面反射镜汇聚到面阵探测器上。用凸面光栅与两个凹面反射镜来构成分光系统，使光谱像连续分布在一个平面上，通过对该结构的仿真与优化，确定出最佳成像时分光系统的物像位置与各结构参数，结构简单，设计方便。
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公开(公告)号：CN102661793A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201210175025.6
申请日：2012-05-31
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 一种平像场凸面光栅分光系统，包括光源、聚光镜、入射狭缝、大凹面反射镜、凸面光栅和面阵检测器，凸面光栅和大凹面反射镜的球心位于同一点上，且光轴重合，入射狭缝放置在过凸面光栅和大凹面反射镜公共球心并垂直于公共光轴的平面内，方向与光栅刻槽方向平行，面阵检测器放置在过凸面光栅和大凹面反射镜公共球心并垂直于公共光轴的平面内，与入射狭缝分布在光轴的两侧，光源发出的白光经聚焦镜、入射狭缝辐射到大凹面反射镜上，经大凹面反射镜反射辐射到凸面光栅上，经过凸面光栅衍射的衍射波再辐射到大凹面反射镜上，最后经大凹面反射镜汇聚到面阵检测器上。本发明具有高光谱分辨率，光谱像畸变趋于零，结构简单、安装方便、制作成本低。
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