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公开(公告)号：CN101101447A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710041226.6
申请日：2007-05-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻机工件台平衡定位系统，其包括基础框架、长行程模块、平衡质量系统、Y向平衡块防漂系统、X向平衡块防漂系统、测量系统，其中长行程模块包括两个Y向长行程电机和两个X向长行程电机，长行程模块建立在平衡质量系统之上；所述平衡质量系统包括两个Y向平衡块和一个X向平衡块，平衡质量系统建立在基础框架上；Y向平衡块防漂系统安装在Y向平衡块与X向平衡块之间，用于补偿两个Y向平衡块相对X向平衡块的漂移；X向平衡块防漂系统安装在X向平衡块与基础框架之间，用于补偿X向平衡块在X、Y和Rz向的漂移；测量系统用于测量各长行程电机和平衡块的位置、速度和加速度。与现有技术相比，通过平衡块的平衡作用，可以提高系统的定位精度。
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公开(公告)号：CN1794091A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200510112113.1
申请日：2005-12-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种精密定位和调整工装，包括盖板(2)、垫片(5)、定位轴(6)，还包括平板(1)、圆环(3)和Rz调整装置(4)，圆环(3)由具有不同直径的阶梯状圆环组成并可通过其中一圆环的圆柱面及平面定位与平板(1)紧围安装在一起，Rz调整装置(4)安装在平板的槽面(104)中，定位轴(6)通过平板上销孔(101)定位及螺纹与盖板连接安装在平板上，盖板(2)通过螺纹连接安装在平板上，垫片(5)安装在定位轴(6)与平板(1)之间，盖板(2)、垫片(5)、定位轴(6)、和与它们连接最近的平板及圆环组成一套调节模块。有益作用是，保证了X、Y精度和Rz精度的定位精度。
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公开(公告)号：CN1665014A
公开(公告)日：2005-09-07
申请号：CN200510024015.2
申请日：2005-02-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L21/68
Abstract: 一种快速重复定位装置，它包括安装在不动工件上长导轨和安装在运动工件上的可沿着长导轨滑动的滚轮，两个短导轨及导轨座安装在不动工件底面靠边的位置，具有与短导轨相匹配凹槽的定位滚轮固定在运动工件的底部位置，调平螺钉在运动工件的中间位置，调平螺钉的调节装置在运动工件的边上；一定位销部件固定在不动工件上，定位销孔固定在运动工件上。藉由上述结构主要解决现有工装定位装置不够快速和定位销定位装置重复定位困难精度不高的技术问题，使得工件的定位快速，维护工程中工件能够重复定位。
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公开(公告)号：CN103529853B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201210228915.9
申请日：2012-07-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明涉及一种显示器视角调节装置及其调节方法，所述装置包括图像采集单元、控制单元和驱动单元，所述图像采集单元、控制单元和驱动单元依次相连，所述图像采集单元获取显示器前人脸图像和/或人体图像，所述控制单元根据人脸图像和/或人体图像得到最佳观测视角并计算显示器当前观测视角与最佳观测视角的调节量，所述驱动单元根据控制单元输出的调节量以调整显示器到最佳观测视角，所述驱动单元包括与显示器背部铰接的连接件、与连接件相连的支架、支撑支架的底座以及固定在连接件上驱动显示器转动的电机。所述装置通过显示器的旋转使操作者获得更佳的观测效果；降低因操作者视觉疲劳引起的误操作的风险；可获取最大可视面积和舒适性。
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公开(公告)号：CN104238273B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201310245119.0
申请日：2013-06-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种工件台安全防护装置，包括设置于工作平面上方的硅片台和粗动台，还包括设于工作平面四周的运动限位机构以及固定于粗动台上的防撞缓冲机构，其中，运动限位机构包括X向限位机构和Y向限位机构，X向限位机构和Y向限位机构分别包括限位边条、支撑导向机构以及缓冲器，限位边条固定于支撑导向机构上，并沿X向或Y向运动，缓冲器固定于限位边条上；防撞缓冲机构包括碰撞边框以及弹性构件，弹性构件的两端分别连接至碰撞边框和粗动台。本发明利用运动限位机构限制工件台的运动范围，防止控制失效时工件台运动出工作平面，同时采用防撞缓冲机构减小工件台之间、工件台与碰撞边框之间发生碰撞时对工件台内部装置及部件的冲击。
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公开(公告)号：CN103777303B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201210402585.0
申请日：2012-10-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种长条镜安装装置，设置于光刻机工件台的主基板下表面上，该长条镜安装装置通过在长条镜的中间段施加作用力，从而改变了长条镜的受力状态，使长条镜的最小变形处和最大变形处的差值变小，从而起到了矫正长条镜的平面度的作用，提高了长条镜的水平精度，该长条镜安装装置无需很高的长条镜加工精度，降低了长条镜的加工难度，也无需增加长条镜的厚度以克服其自重所带来的形变，大大节省了长条镜的材料耗费，减少了成本，并且长条镜水平精度的提高也使工件台激光干涉仪的Z向测量精度得以提高。
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公开(公告)号：CN103576463B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201210254039.7
申请日：2012-07-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种光刻机工作台，通过无线信号控制平面电机动子驱动工件台，实现无线工件台控制和运动，从而代替传统的线缆构架的工件台结构设计，减少了线缆扰动对高精密工件台六自由度运动的干扰，提高了整机运动精度，降低了控制难度，提高了稳定性；本发明提供的光刻机工作台还能够通过冷却装置，利用双工件台在曝光位工作时间长，而在测量位工作时间短的特性，将这两者之间的差作为交换窗口时间(等待位时间)，在这段时间内将工件台移动到等待位并对其进行冷却，使其恒温，在不影响该光刻机工作台工作效率的情况下，保证了工件台每个工作循环的温度稳定性。
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公开(公告)号：CN103063140B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201110321373.5
申请日：2011-10-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种高精度调整装置，通过高精度的调整连接支架部件中三个导杆螺母的三个端面的平面度，从而可实现对待调整装置进行微米级的调整。该高精度调整装置的定位精度可调，调整装置可以通过调整获得微米级定位精度，且调整方便，快速。同时待调整装置的安装基准和调整基准之间的距离可以很大，当待调整装置的设计、加工、安装有所变化时本发明的高精度调整装置更能随待调整装置作相应的调整。本发明还提供一种高精度调整方法，采用三点确定一个平面的公理来测量一个基准相对于另一个原始基准的平行度，同时采用高精度装置作为原始基准对待调整装置进行测校。
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公开(公告)号：CN103293866B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210055795.7
申请日：2012-03-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种光刻机高模态轻质量承片台，包括：承片台顶部结构模块和承片台底部封板，所述承片台顶部结构模块和承片台底部封板粘结为一体，形成上下两层的夹心板结构；所述承片台顶部结构模块具有平面矢量电机安装腔、垂向驱动机构安装腔、差分传感器安装腔和减重孔；所述承片台底部封板具有开孔以适应承片台同微动台的装配。本发明提出的光刻机高模态轻质量承片台，能够有效实现结构减重和材料减重，在减轻承片质量的同时又必须保证工件台的模态值指标及动态性能。
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公开(公告)号：CN103176366B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110436683.1
申请日：2011-12-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种光刻机硅片台的主动驱动线缆台，包括Y向滑台，Y向导轨和五连杆机构，所述Y向滑台通过气浮轴承设置在所述Y向导轨上，所述五连杆机构一端连接于所述Y向滑台，另一端通过线缆设施连接于硅片台，其中，所述Y向滑台由电机驱动在Y向与硅片台保持同步运动，所述线缆设施经由所述Y向滑台沿所述五连杆机构输送到所述硅片台上，所述五连杆机构具有主动驱动关节，用于驱动所述五连杆机构沿X向运动，从而带动所述线缆设施沿X向运动。本发明提出的光刻机硅片台的主动驱动线缆台，实现对线缆台的主动控制和线缆台对硅片台在X-Y平面的跟随运动。
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