半导体装置及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN113345959A

    公开(公告)日:2021-09-03

    申请号:CN202110212104.9

    申请日:2021-02-25

    Abstract: 本发明涉及半导体装置及半导体装置的制造方法。目的在于提供一种提高半导体装置的生产率的技术。第1缓冲层包含:第1部分,其位于从主面起的半导体基板的厚度方向上,具有N型杂质浓度的第1峰值;以及第2部分,其位于从主面起的与第1部分相比更远处,具有N型杂质浓度的第2峰值。主面与第1部分之间的距离小于或等于4.0μm,第1部分与第2部分之间的距离大于或等于14.5μm。第1部分与第2部分之间的部分的N型杂质浓度高于漂移层的N型杂质浓度。

    半导体装置及其制造方法
    22.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107431087B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201580077781.7

    申请日:2015-03-13

    Abstract: 在n型硅衬底(1)的表面形成有p型基极层(2)。在n型硅衬底(1)的背面形成有第一及第二n+型缓冲层(8、9)。第一n+型缓冲层(8)是通过加速电压不同的多次质子注入形成的,具有从n型硅衬底(1)的背面算起的深度不同的多个峰值浓度。第二n+型缓冲层(9)是通过磷注入形成的。从n型硅衬底(1)的背面算起,磷的峰值浓度的位置比质子的峰值浓度的位置浅。磷的峰值浓度比质子的峰值浓度高。在质子的峰值浓度的位置处,质子的浓度比磷的浓度高。

    半导体装置及其制造方法以及电力变换装置

    公开(公告)号:CN110197826A

    公开(公告)日:2019-09-03

    申请号:CN201910132162.3

    申请日:2019-02-22

    Abstract: 本发明提供以能够抑制向单元部的电流集中的方式进行了改善的半导体装置及其制造方法以及电力变换装置。半导体装置具备:半导体芯片、单元表面电极部以及周缘表面构造部。半导体芯片具有:单元部,其是俯视观察时的中央区域的部位,设置有晶体管元件;以及周缘部,其在俯视观察时设置于单元部的周边。单元表面电极部设置于单元部之上。周缘表面构造部设置于周缘部之上,具有比单元表面电极部的上表面高的上表面。使周缘部比单元部薄,以使得与单元部的背面相比周缘部的背面凹陷。将单元部的厚度设为tc。将背面的单元部与周缘部之间的台阶的大小设为dtb。在这种情况下,0%<dtb/tc≤1.5%。

    半导体装置、电力变换装置以及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN110098253A

    公开(公告)日:2019-08-06

    申请号:CN201910072862.8

    申请日:2019-01-25

    Inventor: 铃木健司

    Abstract: 本发明得到能够降低接通电压,同时将阈值电压的波动减小,制造简单的半导体装置、电力变换装置以及半导体装置的制造方法。在n型半导体衬底(1)的表面形成有p型基极层(3)。在p型基极层(3)之上形成有n型发射极层(5)。沟槽栅极(7)贯穿p型基极层(3)以及n型发射极层(5)。与n型半导体衬底(1)相比浓度高的n型载流子积蓄层(14)在n型半导体衬底(1)与p型基极层(3)之间形成。p型集电极层(16)在n型半导体衬底(1)背面形成。关于n型载流子积蓄层(14),与从峰值浓度的位置朝向p型基极层(3)的浓度梯度相比,从峰值浓度的位置朝向n型半导体衬底(1)的背面侧的浓度梯度大,作为杂质而注入了质子。

    半导体装置及其制造方法
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109585529A

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201811109080.9

    申请日:2018-09-21

    Abstract: 半导体装置(1)具备包含半导体元件(3)的半导体衬底(7)。半导体元件(3)包含第一n型缓冲层(21)、第二n型缓冲层(22)、以及第一p型半导体区域(24)。第一n型缓冲层(21)所包含的第一n型载流子的第1最大峰值浓度比第二n型缓冲层(22)所包含的第二n型载流子的第2最大峰值浓度小。第一p型半导体区域(24)形成于第一n型缓冲层(21)中。第一p型半导体区域(24)具有比第一n型缓冲层(21)窄的宽度。

    半导体装置及其制造方法
    28.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109103247B

    公开(公告)日:2021-11-23

    申请号:CN201810635534.X

    申请日:2018-06-20

    Abstract: 本发明的目的在于,提供能够防止发生电压及电流的振荡的半导体装置及其制造方法。本发明涉及的半导体装置具有:n型硅衬底(1);以及第一n型缓冲层(8),其形成于n型硅衬底(1)的背面内,具有从背面起的深度不同的多个质子的浓度的峰值,对于第一n型缓冲层(8),从存在于靠近背面的位置的峰值朝向n型硅衬底(1)的表面的质子的浓度的梯度,小于从存在于远离背面的位置的峰值朝向表面的质子的浓度的梯度。

    装置驱动模块
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100524263C

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200580049395.3

    申请日:2005-03-31

    CPC classification number: G05B19/408 G05B2219/31094 Y02P90/18

    Abstract: 本发明得到一种通信驱动模块,其在连接设备装置和管理装置的制造系统中,即使在设备装置和管理装置使用的数据格式不同的情况下,也能够进行两装置间的数据变换,该设备装置在设备机械中设有基于来自管理装置的指示控制设备机械的控制单元,该管理装置具有管理设备装置的管理应用程序。该通信驱动模块具有分层的控制单元驱动模块(51a、51b)和装置驱动模块(52A、52B),控制单元驱动模块与制造系统中的控制单元(22a、22b)的种类对应地设置,负责与控制单元间的通信,装置驱动模块与制造系统中的设备机械(21A、21B)的种类对应地设置,按照来自管理应用程序的指示,使用控制单元驱动模块访问作为对象的设备机械。

    装置驱动模块
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101156143A

    公开(公告)日:2008-04-02

    申请号:CN200580049395.3

    申请日:2005-03-31

    CPC classification number: G05B19/408 G05B2219/31094 Y02P90/18

    Abstract: 本发明得到一种装置驱动模块,其在连接设备装置和管理装置的制造系统中,即使在设备装置和管理装置使用的数据格式不同的情况下,也能够进行两装置间的数据变换,该设备装置在设备机械中设有基于来自管理装置的指示控制设备机械的控制单元,该管理装置具有管理设备装置的管理应用程序。该装置驱动模块具有分层的控制单元驱动模块(51a、51b)和装置驱动模块(52A、52B),控制单元驱动模块与制造系统中的控制单元(22a、22b)的种类对应地设置,负责与控制单元间的通信,装置驱动模块与制造系统中的设备机械(21A、21B)的种类对应地设置,按照来自管理应用程序的指示,使用控制单元驱动模块访问作为对象的设备机械。

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