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公开(公告)号:CN117616109A
公开(公告)日:2024-02-27
申请号:CN202280047982.2
申请日:2022-06-27
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C11D7/26 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/004
Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组合物以及一种形成图案的方法,所述方法包括使用所述组合物来去除边珠的步骤,且所述组合物包括有机溶剂及经至少一个羟基(‑OH)取代的环状化合物,其中所述环状化合物具有5至30的碳数,且所述环状化合物在环中具有至少一个双键。
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公开(公告)号:CN117492324A
公开(公告)日:2024-02-02
申请号:CN202310577542.4
申请日:2023-05-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种包含第一有机金属化合物、第二有机金属化合物以及溶剂的半导体光刻胶组合物和一种使用其形成图案的方法。半导体光刻胶组合物可提供具有改进的敏感性、分辨率以及存储稳定性的光刻胶图案。
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公开(公告)号:CN104953042B
公开(公告)日:2018-07-13
申请号:CN201510142313.5
申请日:2015-03-27
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01L51/0094 , C08F290/068 , C08G77/20 , C08G77/442 , C08G77/80 , C08L33/14 , C08L43/04 , C09D183/10 , H01L51/0043 , H01L51/5256 , C08F222/10
Abstract: 本发明公开一种用于封装有机发光二极管的组成物,其包含光可固化单体、含硅单体以及引发剂,其中含硅单体由式1表示。并且,本发明公开一种有机发光二极管显示器。所述组成物可以降低水蒸汽透过性并且减少可能在薄膜封装层的制造之后由等离子体引起的除气,同时实现具有低等离子体蚀刻率的有机阻挡层。
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公开(公告)号:CN105492540A
公开(公告)日:2016-04-13
申请号:CN201480048288.8
申请日:2014-05-28
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08G77/08 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08G77/20 , C08K5/56 , C08L83/00 , C08L83/06 , H01L51/5256
Abstract: 本发明涉及一种用于密封有机发光二极管的组合物,包含:(A)含有不饱和基团的有机聚硅氧烷;(B)含有化学式1的不饱和基团和环氧基的有机聚硅氧烷;(C)含有Si-H基团的有机硅酮化合物;和(D)化学式15的铂催化剂,并且涉及使用其制造的有机发光二极管显示装置。
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公开(公告)号:CN104626685A
公开(公告)日:2015-05-20
申请号:CN201410642232.7
申请日:2014-11-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08J7/047 , B05D3/0254 , B05D3/107 , B05D7/02 , C08J7/042 , C08J7/14 , C08J2369/00 , C08J2433/00 , C08J2463/00 , C08J2475/04 , C08J2477/00 , C08J2483/04 , Y10T428/265 , Y10T428/266 , Y10T428/31507
Abstract: 本发明涉及聚碳酸酯玻璃(glazing)及其制备方法,该聚碳酸酯玻璃包括聚碳酸酯基板和在基板的一个表面上形成的硅酮硬涂层,其中,聚碳酸酯玻璃具有使用Taber磨损仪在CS-10F磨损轮和500g负载的条件下,在500次循环测试之后根据ASTM D1003测量的,在磨损前后之间的4.5或更小的浊度差(ΔHaze),并且具有40°至60°的水接触角。根据本发明的聚碳酸酯玻璃可以表现出优异的耐磨损性和透明度。
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公开(公告)号:CN114647146B
公开(公告)日:2025-01-21
申请号:CN202111360348.8
申请日:2021-11-17
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用半导体光刻胶组合物形成图案的方法,半导体光刻胶组合物包括由化学式1表示的有机锡化合物和至少一种有机酸化合物之间的缩合反应产生的缩合产物;以及溶剂,至少一种有机酸化合物选自取代的有机酸、包括至少两个酸官能团的有机酸以及取代或未取代的磺酸。所述半导体光刻胶组合物具有极好的存储稳定性和灵敏度特征。化学式1的具体细节如说明书中所定义。[化学式1]#imgabs0#。
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公开(公告)号:CN115598939A
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202210793674.6
申请日:2022-07-07
Applicant: 三星SDI株式会社(KR) , 三星电子株式会社(KR)
Abstract: 本发明提供了一种含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物,以及包括使用其进行显影步骤的形成图案的方法。该含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物包含有机溶剂和被至少一个羟基(‑OH)取代的七角环化合物,其中七角环化合物在环中具有至少两个双键。
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