形成图案的方法
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117597628A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202280047231.0

    申请日:2022-07-04

    Abstract: 提供一种形成图案的方法,所述方法包括:在基板上涂布含金属抗蚀剂组成物;沿基板的边缘涂布用于去除边珠的组成物;对所得物进行干燥及加热,以在基板上形成含金属抗蚀剂膜;以及对所得物进行曝光及显影以形成抗蚀剂图案,其中所述用于去除边珠的组成物可包括至少一种添加剂以及有机溶剂,所述至少一种添加剂选自亚磷酸系化合物、次亚磷酸系化合物、亚硫酸系化合物及氧肟酸系化合物。

    半导体光刻胶组合物及使用所述组合物形成图案的方法

    公开(公告)号:CN114647146B

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202111360348.8

    申请日:2021-11-17

    Abstract: 本发明公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用半导体光刻胶组合物形成图案的方法,半导体光刻胶组合物包括由化学式1表示的有机锡化合物和至少一种有机酸化合物之间的缩合反应产生的缩合产物;以及溶剂,至少一种有机酸化合物选自取代的有机酸、包括至少两个酸官能团的有机酸以及取代或未取代的磺酸。所述半导体光刻胶组合物具有极好的存储稳定性和灵敏度特征。化学式1的具体细节如说明书中所定义。[化学式1]#imgabs0#。

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