半导体装置接触部及其制造方法和包括该接触部的用于显示器的薄膜晶体管阵列面板及其制造方法

    公开(公告)号:CN1575525A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN02820938.9

    申请日:2002-02-20

    Abstract: 本发明涉及一种制造用于液晶显示器的薄膜晶体管阵列基片的方法。在该方法中,在基片上形成包括栅极线、栅极、和栅极衬垫的横向栅极布线。然后,形成栅极绝缘层,在其上部顺次形成半导体层及欧姆接触层。接着,将导电层沉积在基片上,并制作布线图案形成包括与栅极线交叉的数据线、源极、漏极、和数据衬垫的数据布线。接着,将保护层和有机绝缘层沉积在基片上。将有机绝缘层进行曝光和显像,从而形成分别露出漏极、栅极衬垫、及数据衬垫上部保护层的接触孔。接着,将有机绝缘层作为掩膜蚀刻露出的保护层,露出漏极、栅极衬垫、以及数据衬垫。接着,通过固化收缩或回流有机绝缘层,以便在接触区域除去底切结构。在固化步骤之前抛光有机绝缘层。接着,将ITO或IZO沉积在有机绝缘层上,并制作布线图案以形成分别与漏极、栅极衬垫、及数据衬垫连接的像素电极、辅助栅极衬垫、及辅助数据衬垫。

    制造薄膜晶体管基板的方法

    公开(公告)号:CN100580906C

    公开(公告)日:2010-01-13

    申请号:CN200610099446.X

    申请日:2006-07-20

    Inventor: 曹义植 金彰洙

    CPC classification number: H01L27/1248 G02F1/1368 H01L27/1255

    Abstract: 本发明提供了一种制造薄膜晶体管(TFT)基板的方法,用于最小化与存储电极重叠的有机层的粗糙表面。该方法包括在具有存储电极的基板上形成钝化层;形成覆盖钝化层的有机层;通过部分去除有机层与存储电极重叠的部分来形成凹陷部分;平坦化位于凹陷部分的底部上的粗糙图案;以及通过从凹陷部分去除平坦化有机层来形成延伸至钝化层表面的开口。

    制造薄膜晶体管基板的方法

    公开(公告)号:CN1901158A

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200610099446.X

    申请日:2006-07-20

    Inventor: 曹义植 金彰洙

    CPC classification number: H01L27/1248 G02F1/1368 H01L27/1255

    Abstract: 本发明提供了一种制造薄膜晶体管(TFT)基板的方法,用于最小化与存储电极重叠的有机层的粗糙表面。该方法包括在具有存储电极的基板上形成钝化层;形成覆盖钝化层的有机层;通过部分去除有机层与存储电极重叠的部分来形成凹陷部分;平坦化位于凹陷部分的底部上的粗糙图案;以及通过从凹陷部分去除平坦化有机层来形成延伸至钝化层表面的开口。

    液晶显示器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1680863B

    公开(公告)日:2010-04-28

    申请号:CN200510074170.5

    申请日:2005-03-31

    Inventor: 金彰洙 秋玟亨

    Abstract: 本发明的一种液晶显示器,包括一第一基板,一第二基板以及一注入其中的液晶层。第一基板包括栅极线,一形成在栅极线之上的数据线,一与栅极线和数据线电连接的开关元件,一与开关元件电连接的像素电极,一形成在像素电极上的划分液晶域的元件,形成在域划分元件上的第一取向层。第二基板包括公共电极,形成在公共电极上的一第一突起部和一第二突起部。第一突起部和第二突起部具有不同的高度。一第二取向层形成在上述突起部上。

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