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公开(公告)号:CN116540503A
公开(公告)日:2023-08-04
申请号:CN202310797264.3
申请日:2023-07-03
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种激光直写样品的固定装置及工作方法,固定装置包括样品台框架,还包括能够可拆卸地设于所述样品台框架上的适配常规刻写模式的第一固定组件,或适配大尺寸浸入式刻写模式的第二固定组件,或适配光纤端面刻写模式的第三固定组件;第一固定组件为边沿限位式定位槽结构;第二固定组件为三层叠套筒式定位槽结构,以此实现晶圆的定位及光刻胶装载;第三固定组件为双板夹角式定位槽结构,以此实现光纤夹持定位。与现有技术相比,本发明提供了一种结构简单,普适性高,易于操作的一种激光直写样品的固定装置及其工作方法,以实现不同形状、尺寸激光直写样品的固定和定位,适配多种加工场景,可广泛应用于激光直写光刻领域。
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公开(公告)号:CN116540494A
公开(公告)日:2023-08-04
申请号:CN202310563509.6
申请日:2023-05-18
Abstract: 本发明公开一种液态金属导电光刻胶及基于该光刻胶的双光子图案化方法。所述液态金属导电光刻胶的组成包括液态金属、活性单体、成膜树脂、分散剂、双光子光敏剂及溶剂。本发明还提供了一种基于该液态金属导电光刻胶的双光子图案化方法。本发明将液态金属引入到光刻胶中,在光刻胶聚合交联的同时将液态金属固定下来,可以实现液态金属的锚定及图案化;光刻胶中的其他组分可以与液态金属形成弱键相互作用,可以充分分散液态金属,获得纳米级分散程度,有利于液态金属的高精度图案化加工。本发明基于双光子聚合光刻技术实现了液态金属光刻胶的图案化,加工精度显著提高,同时保持了良好的电导率,极大提升了液态金属微纳器件的集成度。
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公开(公告)号:CN116500869A
公开(公告)日:2023-07-28
申请号:CN202310572492.0
申请日:2023-05-18
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光刻写方法、装置和系统。所述方法包括:获取目标结构的二维灰度图像以及激光刻写设备的刻写通道数;根据所述二维灰度图像,生成灰度刻写数据;将所述灰度刻写数据根据所述刻写通道数,拆分成对应不同刻写通道的单通道刻写数据;获取位移台的位置信息;基于所述位置信息,将对应每个所述刻写通道的所述单通道刻写数据发送至调制器阵列,以使激光刻写设备基于多个单通道刻写数据进行目标结构的刻写。采用本方法能够在大幅提升扫描速度的同时,还实现了表面粗糙度的提升,有效改善了传统3D激光直写方法刻写速度与刻写质量难以兼顾的问题。
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公开(公告)号:CN116448728A
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN202310335777.2
申请日:2023-03-31
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开一种基于振镜扫描的双光束场干涉光片显微成像方法,包括:激光分成两路线偏振光经过柱透镜整形形成线状线偏振光;经过激发物镜投射到荧光样品上发生相互干涉产生条纹结构光照明图样;利用电光调制器改变干涉条纹相位,在结构光模式下,实现用步进相移的干涉条纹对样品进行结构光照明,在抖动模式下,使干涉条纹快速抖动,实现用均匀的光片对样品进行照明;探测物镜收集样品发出的荧光信号,得到荧光强度信息,重构得到高分辨率的光片显微图像。本发明还公开基于振镜扫描的双光束场干涉光片显微成像装置。本发明对入射光能量利用率高,干涉条纹对比度高,可以在低入射光功率条件下,获得超过衍射极限的分辨率。
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公开(公告)号:CN115639729B
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN202211053614.7
申请日:2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于全息相位分束的光纤并行激光直写方法和系统,本发明将一水平偏振方向的激光入射至空间光调制器的液晶面元,所述的空间光调制器加载不同的全息相位图实现对入射光束的分束并调整分束后各个子光束的位置,从而实现良好地耦合进光纤阵列。光纤阵列通过光开光模块实现每一路光的开关。通过每路光的开关以及三维位移台的移动,实现三维大面积的微纳结构直写,本发明的直写效果更加丰富,直写效率进一步提高,有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号:CN113189846B
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN202110388124.1
申请日:2021-04-12
IPC: G03F7/20 , G03F1/68 , B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/066 , B23K26/067
Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置,属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块;抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块;直写光在直写路波前调控模块中被调制,抑制光在抑制路波前调控模块中被调制,两路光合束后,形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性,在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑,同时实现每个光斑能量的独立调控,将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
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公开(公告)号:CN116224575A
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN202310521844.X
申请日:2023-05-10
IPC: G02B26/08
Abstract: 本发明公开了一种带有滤波功能的光束漂移矫正装置及方法,入射光束经第一压电反射镜架、第二压电反射镜架上的反射镜再经过依次布置的第一透镜、针孔和第二透镜进行滤波,然后一部分光束经第一固定反射镜架上的反射镜透射至能量探测PD上,一部分光束经第二固定反射镜架上的反射镜出射至位置探测CCD的探测面上;通过调整第一压电反射镜架使能量探测PD上的光强保持最大值,以矫正光束位置漂移量;通过调整第二固定反射镜架使位置探测CCD的光斑形心坐标与初始光斑形心坐标相同,实现光束漂移矫正。本发明装置不仅可以完成光束大范围位置漂移和角度漂移矫正,还可以进行滤波,提供光束质量,为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持。
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公开(公告)号:CN116183568A
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202310020503.4
申请日:2023-01-06
Abstract: 一种三维结构光照明超分辨显微成像的高保真重构的方法,包括:将一束平行光分为强度相等、偏振方向一致的三束平行光束,在样品上进行干涉形成三维非均匀照明光场,样品受到非均匀照明光场调制后频谱产生频移;由物镜接收样品发出的荧光信号后,经过场镜汇聚到成像像面,用探测器接收该荧光信号,得到一张混有样品高低频信息的低分辨率图像;多次改变照明光场的空间位移和方向,再次拍摄受光场调制的荧光信号,得到一系列混有样品高低频信息的低分辨率图像,作为原始图像。再将原始图像进行后续图像处理,首先进行照明光场的初始相位和空间频率的参数估计,然后再对样品各个频带进行分离,最后将各频谱进行组合重构出样品的高保真超分辨图像。
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公开(公告)号:CN116165850A
公开(公告)日:2023-05-26
申请号:CN202310119397.5
申请日:2023-01-17
Abstract: 本说明书公开了一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头,该物镜镜头包括:光焦度为负的第一透镜组、光焦度为负的第二透镜组以及光焦度为正的第三透镜组,第一透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、负、正的透镜;第二透镜组包含三个光焦度依次为负、正、负的透镜;第三透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、正、正的透镜;第一透镜组负责接收光源,并将光源折射至第二透镜组,第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线,并将收集的光线折射至第三透镜组,第三透镜组将光线将聚焦于基底,物镜镜头中的透镜均处于同一光轴,本说明书中的物镜镜头能够校正多种像差,特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号:CN116124740A
公开(公告)日:2023-05-16
申请号:CN202211623560.3
申请日:2022-12-16
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
Abstract: 本发明公开一种基于随机相位调制的极紫外相干衍射叠层成像方法,通过随机相位板的极紫外相位调制叠层成像光路实现,成像光路包括高次谐波光源、针孔、相位板及光电耦合探测器,高次谐波光源发出光照探针,针孔和相位板之间设置待测样本,相位板用于进行相位调制,光照探针经针孔照射到待测样本上,传播预设距离后经相位板到光电耦合探测器平面,得到待测样本的衍射图样,通过出射光第一振幅信息、逆向传播第二振幅信息、第一衍射图样光场及第一衍射图样光斑进行迭代处理;得到最佳待测样本图样,进而分离得到最佳待测样本信息与最佳光照探针信息。可实现无透镜成像,避免了使用透镜引入的像差和孔径限制,具有更简单的系统与更低的成本。
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