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公开(公告)号：CN103729673B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201410042013.5
申请日：2014-01-28
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种三维码及其制备方法，该三维码包括多个空间复用的二维编码图形，所述空间复用是指将多个二维编码图形以不同的角度记录在记录材料表面的同一空间处，解码时，利用识读引擎以记录时对应的角度进行识读，从而分别解码出特定角度下记录的二维编码图形字符。与二维码相比，该三维码增加空间利用率、提高了信息容量，通过多视角通道的复用和信息的相互验证，提高了二维码使用和识别的安全性。
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公开(公告)号：CN102798918B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
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公开(公告)号：CN105511074A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201610004778.9
申请日：2016-01-06
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B27/00 , G03F7/7045
Abstract: 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统，该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控，通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出，通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。
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公开(公告)号：CN105490166A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201610041567.2
申请日：2016-01-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种微腔激光器阵列，其包括由下至上依次设置的衬底层、泵浦层、增益层和封装层，增益层内设置有多个阵列排布且并行出光的DBR微腔激光器，泵浦层用于连通泵浦源，该泵浦源将泵浦光输入到泵浦层内。本发明还公开了一种包括该微腔激光器阵列的可见光光度计。本发明与现有技术相比，有效地权衡了高分辨率、高效率和制造成本高之间的矛盾，使得微腔激光器阵列既具有高分辨率、高效率的优点，又具有制造成本低的优势。
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公开(公告)号：CN105425409A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201610034105.8
申请日：2016-01-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种投影式裸眼3D显示装置及其彩色化显示装置，该3D显示装置包括指向性光源，包括矩形导光板和光源组，光源组设置于所述矩形导光板的至少一个侧面上；投影装置，包括显示芯片和投影镜头，显示芯片将获取的光源与多视角图像信号调制后由投影镜头放大；指向性投影屏幕，其设置于投影镜头的出光端，将入射的视角图像信号进行位相调制后在指向性投影屏幕的正前方形成会聚视点，获得裸眼3D显示。本发明相较于现有技术，指向性投影屏幕提供空间位相调制，液晶芯片提供视角图像振幅调制，二者结合，具备了全息显示的全部信息，不易产生视觉疲劳，也没有距离限制，而且通过投影镜头放大成型，实现大幅面的裸眼3D显示。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN103279014B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310236124.5
申请日：2013-06-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。
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公开(公告)号：CN104191825A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201410448548.2
申请日：2014-09-04
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B41M3/148 , B41J2/442 , B41M5/267 , G02B3/0056 , G02B5/128
Abstract: 本发明公开了一种彩色动态图的激光打印装置及方法，其中，彩色动态图的激光打印装置包括：光学系统和记录材料，记录材料包括由多个微球或微透镜形成的折光层、形成于多个微球或微透镜焦面上的遮光层；光学系统包括激光器和图形生成器件，激光器发出的激光经图像生成器件处理后，照射到记录材料上，照射到记录材料上的激光经折光层聚焦在遮光层上，当聚焦的激光的能量大于遮光层的蒸发阈值时，遮光层上相应形成聚焦点。通过本发明的彩色动态图的激光打印装置对激光束入射角度的偏转，在记录材料的焦面上形成不同位置的激光聚焦点，实现不同颜料的热堆积。重复入射角度的偏转，形成多通道颜色图形的激光打印，最终形成彩色多通道动态图像的再现。
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公开(公告)号：CN104185410A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410464874.2
申请日：2014-09-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微金属网格的电磁屏蔽罩及其制备方法，该方法包括：通过微纳压印方法，在柔性衬底上形成微金属网格沟槽；将纳米导电浆料通过刮涂方式填充到微金属网格沟槽中，并烧结后形成微金属网格导电薄层；通过电铸沉积后在微金属网格沟槽中形成的微金属网格；将沉积后的微金属网格从柔性衬底的微金属网格沟槽中剥离出来，形成镂空的微金属网格；将镂空的微金属网格与相同尺寸的金属薄片复合，形成复合微金属网格；将复合微金属网格固定于凹形模具上，通过压延将复合微金属网格获得与凹形模具相同的形状；分离复合微金属网格，得到形状与凹形模具相同的电磁屏蔽罩。本发明电磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可实现大批量制备。
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公开(公告)号：CN102621824B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201210114482.4
申请日：2012-04-18
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括：加工平台，实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动；空间光调制器，产生设计图形；投影光学系统，包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器，所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上。申请的光学加工系统和方法实现的灰度等级不依赖于曝光时间和曝光次数，可以在极短曝光时间内和单次曝光的条件下实现准确的灰度等级，因而完全适用于飞行曝光加工方式，加工效率和定位精度高。
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