公开(公告)号：CN1886410A

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：CN200480034903.6

申请日：2004-10-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村功 ,  山原登 ,  田中正人 ,  下川努

IPC: C07F7/18 ,  C08G77/14 ,  G03F7/075 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供适合作为I－D偏差、焦点会聚范围(DOF)等特别优异的化学放大型抗蚀剂中的树脂成分的新型聚硅氧烷，作为合成该聚硅氧烷的原料等有用的新型硅烷化合物，和含有该聚硅氧烷的放射线敏感性树脂组合物。硅烷化合物用下述式(I)表示。聚硅氧烷具有下述式(1)表示的结构单元(R表示烷基，R1与R2表示氟原子、低级烷基或低级氟代烷基，n是0或1，k是1或2，i是0～10的整数)。放射线敏感性树脂组合物含有该聚硅氧烷和放射线敏感性酸发生剂。

公开(公告)号：CN1732408A

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：CN200380107753.2

申请日：2003-12-24

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村功 ,  藤原考一 ,  小林英一 ,  下川努 ,  中村敦 ,  米田英司 ,  王勇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F4/00

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2006

Abstract: 提供一种辐射敏感性树脂组合物，该辐射敏感性组合物含有由活性自由基聚合得到的含有能电离出酸性基团的树脂和辐射敏感性酸产生剂，该含有能电离出酸性基团的树脂具有通过碱不溶性或碱难溶性酸作用获得碱易溶性的特定构造，上述含有能电离出酸性基团的树脂的重均分子量和数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)小于1.5。

公开(公告)号：CN1332205A

公开(公告)日：2002-01-23

申请号：CN01124927.7

申请日：2001-06-15

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  山原登 ,  山本将史 ,  梶田徹 ,  下川努 ,  伊藤洋

IPC: C08L101/08 ,  C08K5/10

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构,其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基,或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基,X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基,R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基,或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基、该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状,可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。

公开(公告)号：CN111533838B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202010057896.2

申请日：2020-01-19

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 下川努 ,  胜井宏充 ,  栗山敬祐

IPC: C08F212/14 ,  C08F220/32 ,  C08F226/06 ,  C08F212/32 ,  C09K11/06 ,  C09D125/18 ,  C09D5/22

Abstract: 本发明提供一种有机电致发光发光性聚合物、热活化延迟荧光性聚合物、聚合物、聚合物组合物及发光元件，其可通过简单的液相工艺形成发光元件中的发光层，并且在通过液相工艺形成发光层的情况下显示出长的发光寿命。提供一种热活化延迟荧光性聚合物，包括：具有电子给体结构的结构单元(a)、具有电子受体结构的结构单元(b)、以及具有交联性基的结构单元(c)。另外，提供一种发光元件，其包括使用所述热活化延迟荧光性聚合物而形成的发光层。

公开(公告)号：CN111566554B

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN201980006990.0

申请日：2019-01-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中田正一 ,  樫下幸志 ,  下川努

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种对微细凹凸结构的涂布性及连续印刷性良好，在膜形成时的加热时不易受到温度不均的影响，且可获得密封剂周边的显示不均少的液晶元件的液晶取向剂、液晶取向膜、液晶元件及其制造方法。液晶取向剂含有聚合体成分与[A]化合物。[A]选自由具有羰基的一价基团键结于含氧杂环的环部分的化合物[A1]、以及具有酮性羰基及氧有机基的化合物[A2]所组成的群组中的至少一种化合物。

公开(公告)号：CN102089709A

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200980127305.6

申请日：2009-07-13

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 下川努 ,  江畑琢磨 ,  酒井香织 ,  大泉芳史 ,  征矢野晃雅 ,  大塚昇

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其可形成分辨性能优异且纳米边缘粗糙度小的化学增幅型抗蚀剂。该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下述通式(1)所示的部分结构的放射线敏感性酸产生剂、和(B)树脂。通式(1)中，R1表示1价烃基等。

公开(公告)号：CN101215421A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200810002129.0

申请日：2001-06-15

Applicant: JSR株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： 西村幸生 ,  山原登 ,  山本将史 ,  梶田徹 ,  下川努 ,  伊藤洋

IPC: C08L101/06 ,  C08K5/16 ,  G03F7/004 ,  C08F232/08 ,  C08F222/06 ,  C08F220/12 ,  C08G61/08

Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基，X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。

公开(公告)号：CN1505651A

公开(公告)日：2004-06-16

申请号：CN02809212.0

申请日：2002-04-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 岩泽晴生 ,  林明弘 ,  下川努 ,  山本将史

IPC: C08G77/24 ,  C08L83/08 ,  G03F7/075 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08G77/08 ,  C08G77/24 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0757

Abstract: 一种甚至在193nm(特别是157nm)或更短波长下也表现出高透光度和极佳抗干蚀性的聚硅氧烷树脂，其包含通式(I)和/或通式(II)所示单元而且有酸解离基团：(I)(II)(其中R1为氟化或氟烷基化的一价芳基或氟化或氟烷基化的一价脂环基；R2为上述一价芳基、上述一价脂环基、氢、卤素、一价烃基、卤烷基、或氨基)。一种灵敏度和分辨率极佳的辐射敏感树脂组合物，包括(A)上述树脂和(B)光致产酸剂。