公开(公告)号：CN102741985B

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201180007853.2

申请日：2011-01-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  吉尾浩平 ,  山中达也 ,  金野智久

IPC: B24B13/01 ,  B24B29/02 ,  B24B37/04 ,  C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC classification number: B24B13/015 ,  B24B29/02 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明所涉及的化学机械研磨用水系分散体，其特征在于，含有（A）具有选自磺基及其盐中的至少1种官能团的二氧化硅粒子、和（B）酸性化合物。

公开(公告)号：CN102736408A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201210094140.0

申请日：2012-03-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  大喜多健三

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明涉及一种像素图案的形成方法、滤色片和显示元件。本发明在于提供：使用染料或色淀颜料作为着色剂时，为了尽量显现出染料或色淀颜料优异的色度性质的像素图案的形成方法。一种像素图案的形成方法，其特征在于：包括(1)在衬底上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜的工序，该组合物包含从由染料和色淀颜料构成的群组中选出的至少一种，以及(2)用放射线照射前述涂膜的至少一部分的工序；前述放射线的分光分布在350nm～450nm的范围内具有多个峰，而且前述放射线不到350nm时的最大强度为350nm～450nm中的最大峰强度的50％以下。

公开(公告)号：CN1498931A

公开(公告)日：2004-05-26

申请号：CN200310104711.5

申请日：2003-10-31

Applicant: JSR株式会社 ,  株式会社东芝

Inventor： 西元和男 ,  坂野达章 ,  竹村彰浩 ,  服部雅幸 ,  川桥信夫 ,  宫下直人 ,  重田厚 ,  松井嘉孝 ,  井田和彦

IPC: C09G1/04

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  H01L21/02024

Abstract: 本发明提供了一种使所要抛光的表面平面化和具有高储存稳定性的用于化学机械抛光的水分散体，一种在抛光不同材料的表面时具有优异的选择性的化学机械抛光工艺，和一种半导体设备生产工艺。第一水分散体包含水溶性季铵盐，无机酸盐，磨料颗粒和水介质。第二水分散体包含至少一种水溶性季铵盐，非水溶性季铵盐的另一碱性有机化合物，无机酸盐，水溶性聚合物，磨料颗粒和水介质。第二水分散体由通过将水溶性季铵盐和无机酸盐混入水介质而得到的第一水分散体材料(I)，和通过将水溶性聚合物和非水溶性季铵盐的另一碱性有机化合物混入水介质而得到的第二水分散体材料(II)组成。磨料颗粒包含在至少一种水分散体材料中。