表面钝化的光生伏打器件
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1862840A

    公开(公告)日:2006-11-15

    申请号:CN200610082694.3

    申请日:2006-05-12

    Abstract: 提供了一种包括光生伏打单元(12)的光生伏打器件(10)。光生伏打单元(12)包括包含结晶半导体材料的发射层(16)和邻接发射层(16)设置的轻掺杂结晶衬底(22)。轻掺杂结晶衬底(22)和发射层(16)相反地掺杂。而且,光生伏打器件(10)包括耦接至光生伏打单元(12)的背面钝化结构(14)。该结构包括邻接轻掺杂结晶衬底(22)设置的重掺杂背面场层(24)。重掺杂背面场层(24)包括非晶或微晶半导体材料,其中重掺杂背面场层(24)和轻掺杂结晶衬底(22)相同地掺杂,以及其中重掺杂背面场层(24)的掺杂水平比轻掺杂结晶衬底(22)的掺杂水平高。另外,该结构还可包括邻接轻掺杂结晶衬底(22)设置的本征背面钝化层(26),其中本征背面钝化层(26)包括非晶或微晶半导体材料。

    对物件进行等离子体处理的装置和方法

    公开(公告)号:CN1943002A

    公开(公告)日:2007-04-04

    申请号:CN200480042839.6

    申请日:2004-03-01

    CPC classification number: H01L27/14689 H01L27/14647 H01L31/101

    Abstract: 本发明提供了一种等离子体源(102),其中,可以响应等离子体室(104)内的选定条件而将间隙(110)(即阴极与阳极之间距离)实时地调节为所希望的距离。至少一个传感器(116)监视并检测等离子体室(104)内的所述条件的任何变化。包括至少一个等离子体源(102)的装置(100)产生至少一种稳定的、并可实时调节的等离子体。在一个实施例中,装置(100)包括多个等离子体源(102),可以实时地将这些等离子体源(102)“调谐”,以产生互相类似的等离子体,或者相反地,可以将它们“去调谐”,以产生不相类似的等离子体。装置(100)可用于等离子体处理(例如但不限于物件(160)的镀膜、蚀刻和激活)。也公开了提供所述等离子体以及使用所述等离子体处理物件(160)的方法。

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