一种肖特基二极管的制备方法及器件

    公开(公告)号:CN116153780A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202310036801.2

    申请日:2023-01-10

    Abstract: 本发明公开了一种肖特基二极管的制备方法及器件,其中的方法包括如下步骤:在衬底上生长半导体结构层;半导体结构层包括依次生长的高阻层、P型埋层、沟道层和势垒层;刻蚀半导体结构层,以在其两端分别形成到达P型埋层的第一生长台阶和第二生长台阶;在第一生长台阶处的P型埋层内注入阻挡离子形成离子注入区,离子注入区贯穿P型埋层并延伸至第一生长台阶外;分别在第一生长台阶和第二生长台阶上生长阴电极和阳电极。本发明中的方法,能够制备得到反向耐压值较高,漏电电流较低,且其结构简,内部各个结构层的结晶质量较高的肖特基二极管。

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