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公开(公告)号：CN117666292A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202211462987.X
申请日：2022-11-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统，所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件；所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束；所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件，两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转，所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面；所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制，使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光，进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统，通过控制分光组件和偏振组件，能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量，与偏振感光材料进行光化学作用，形成特定的偏振图形分布，偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件，控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位，进行光场拼接光刻，在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。
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公开(公告)号：CN116750712A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202210051875.9
申请日：2022-01-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种多层微结构仿生干黏附结构、模具及其制备方法，多层微结构仿生干黏附结构包括多个多层微结构单元，每一所述多层微结构单元包括底层的微米级柱体结构、中间层的微米级蘑菇头结构，以及顶层的纳米阵列结构，其中纳米阵列结构为纳米柱阵列结构或者纳米孔阵列结构。本发明提供的多层微结构仿生干黏附结构、模具及其制备方法，通过设置顶层的纳米阵列结构，使得微结构与物体面之间的接触端由微米量级的蘑菇头“面结构”变成纳米量级的纳米珠阵列或纳米孔阵列的“点结构”，增加了接触面积，进一步提升产品的黏附性能，结构稳定性更强。
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公开(公告)号：CN116068856A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202111277340.5
申请日：2021-10-29
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种蘑菇状微结构、模具、蘑菇状干黏附结构及制备方法，蘑菇状微结构的制备方法，包括：提供基板；在所述基板表面涂布光刻胶；软烘所述光刻胶；图形化紫外曝光所述光刻胶，包括：使所述光刻胶表面吸附一定量的碱性分子形成一层显影钝化层，所述碱性分子能与由紫外曝光所产生的酸性分子发生中和反应而消耗一部分酸性分子，以及对形成了显影钝化层的所述光刻胶进行图形化紫外曝光；显影图形化紫外曝光后的所述光刻胶，利用所述显影钝化层的显影速率低于中间层和底层光刻胶，去掉部分所述光刻胶，保留的所述光刻胶形成所述蘑菇状微结构。本发明工艺复杂程度低、步骤简单，而且蘑菇头几何尺寸精度可控、可大面积稳定加工，有助于大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN115993755A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202111215136.0
申请日：2021-10-19
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种蘑菇状微结构、模具、蘑菇状干黏附结构及制备方法，蘑菇状微结构的制备方法包括：提供基板；在所述基板表面涂布光刻胶；软烘所述光刻胶，涂布完成后快速将让带所述光刻胶的所述基板放置于预定温度的烘箱内部进行快速烘烤，在所述光刻胶表面形成一层曝光钝化层，同时所述光刻胶中间层和底层处于正常曝光所需的半固态，从而使所述光刻胶由上而下、由表及里是溶剂含量逐层减少，硬度逐层降低；图形化曝光显影，利用所述曝光钝化层的光化学反应程度低于中间层和底层光刻胶，去掉部分所述光刻胶，保留的所述光刻胶形成所述蘑菇状微结构。本发明工艺复杂程度低、步骤简单，而且蘑菇头几何尺寸精度可控、可大面积稳定加工，有助于大规模产业化应用。
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公开(公告)号：CN107310288B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN201710543818.1
申请日：2017-07-05
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种防伪烫印膜，包括在光照下可透光的第一颜色层、防伪信息层、光学保护层和不透光的第二颜色层，第一颜色层与第二颜色层相对设置，防伪信息层和光学保护层设置于第一颜色层与第二颜色层之间。本发明的防伪烫印膜不受面积占比限制，可大幅面排布防伪信息，且在不光照的条件下不呈现防伪标记，不影响号牌基础功能，视觉整体性好，在特定角度光照即可识别，简便有效。本发明还涉及一种防伪烫印膜的制作方法和机动车号牌。
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公开(公告)号：CN115447125A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202110644177.5
申请日：2021-06-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B29C59/16
Abstract: 一种模板与模具版的制作方法及模板与模具版，所述模板的制作方法包括：S1，提供基板，在所述基板第一表面涂布树脂层，在所述树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构；S2，进一步处理所述基板第一表面，去除微图文位置以外的镭射效果微结构，保留微图文位置的镭射效果微结构，得到微图文具有镭射效果微结构的模板。所述模具版的制作方法包括：根据如上所述的制作方法制得微图文具有镭射效果微结构的模板；S3，将上述步骤得到的模板制得母版，再利用母版制得批量生产用的模具版。本发明制作简单、成本低，能使得微图文叠加镭射效果的防伪产品得到广泛应用。
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公开(公告)号：CN113359294B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202010152276.7
申请日：2020-03-06
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B27/01
Abstract: 本发明所涉及的微型光学系统包括照明光学系统和目镜，照明光学系统自光源至LCOS反射面依序包括：第一透镜，第二透镜，二向色镜组，复眼透镜，第三透镜，第四透镜，偏振分光棱镜；目镜自物侧至像侧依序包含：第五透镜，第六透镜，第七透镜，第八透镜，第九透镜，第十透镜。该微型光学系统体积小、满足高分辨率要求、LCOS芯片表面均匀性高、以及可提供需要的各视场角下的平行光和足够的光通量。
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公开(公告)号：CN113970809A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202010724752.8
申请日：2020-07-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种具有倾斜纳米结构的波导镜片的制作方法，该方法包括，提供一波导基底；在所述波导基底的表面选择至少2个区域，在所述区域制备不连续的覆盖层；采用倾斜刻蚀的方式对所述区域未被所述覆盖层遮挡的部分进行蚀刻，在所述区域内形成多个倾斜纳米结构；除去所述覆盖层。本发明还公开了一种具有倾斜纳米结构的波导镜片，包括波导基底，在所述波导基底的表面至少设有2个区域，每一区域包括多个所述倾斜纳米结构。该方法利用覆盖层作为刻蚀掩模，实现倾斜纳米结构制备，采用常规刻蚀材料，降低制备难度，且具备高可控度。
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公开(公告)号：CN113376721A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202110449639.8
申请日：2021-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种工程扩散片及其设计、制作方法，所述工程扩散片包括光学衬底、于所述光学衬底上形成的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干排布的菲涅尔微透镜，若干菲涅尔微透镜中各个所述菲涅尔微透镜的边界随机，和/或若干菲涅尔微透镜中各个菲涅尔微透镜的初始相位随机，排成一排或一列的菲涅尔微透镜的中心点在一条直线两侧的预定范围内随机分布，所述光学衬底为透明衬底，于所述光学衬底的一侧表面上随机刻蚀形成若干个所述菲涅尔微透镜，若干个所述菲涅尔微透镜在所述光学衬底上紧密排列。本发明所述工程扩散片通过菲涅尔微透镜阵列提高了工程扩散片表面的填充率，提高了扩散片的光学性能，且降低了加工难度。
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公开(公告)号：CN112817150A
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201911127324.0
申请日：2019-11-18
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及图像显示技术，特别涉及用于增强现实显示的装置和包含该装置的用于实现增强现实显示的系统。用于增强现实显示的装置包含：光波导镜片；设置于光波导镜片表面的第一～第三光学功能结构，其中，第二光学功能结构位于第一光学功能结构与第三光学功能结构之间，入射至第一光学功能结构的光线在第一光学功能结构的作用下形成第一光束和第二光束，其中，第一和第二光束在光波导镜片内经全反射方式传播至第二光学功能结构，并且在第二光学功能结构的作用下，第一和第二光束在光波导镜片内经全反射方式传播至第三光学功能结构，并经第三光学功能结构融合后出射。
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