公开(公告)号：CN102636967A

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：CN201210116763.3

申请日：2012-04-19

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王钦华 ,  陈根华 ,  楼益民 ,  曹冰 ,  许富洋

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开了一种表面等离子体纳米光刻结构，包括上基底层、下基底层、共振腔和金属光栅层，所述共振腔和金属光栅层设于所述上基底层和下基底层之间，所述共振腔包括第一金属层、第二金属层和光刻胶层，所述光刻胶层设于所述第一金属层和第二金属层之间，所述金属光栅层包括第一光栅层和第二光栅层，所述第一光栅层位于所述上基底层和第一金属层之间，所述第二光栅层位于所述下基底层和第二金属层之间。本发明还公开了一种表面等离子体纳米光刻方法。利用第一光栅层和第二光栅层来激发第一金属层与光刻胶层以及第二金属层与光刻胶层界面的表面等离子波，从而可以大大提高光刻技术的分辨率；另外，本发明采用双光束曝光，可以实现良好的曝光深度和可见度。

公开(公告)号：CN204758858U

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201520359910.9

申请日：2015-05-29

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王钦华 ,  胡敬佩 ,  李瑞彬 ,  赵效楠 ,  王淼 ,  陈玲华 ,  许富洋 ,  曹冰

IPC: G02B5/30 ,  G02B5/18

Abstract: 本实用新型提供一种亚波长反射式一维金属波片，能够在不同度的波段实现二分之一和四分之一波片的功能，所述波片包括介质光栅和设置在其上的金属层；纳米介质光栅结构设置上一层类光栅金属层，介质光栅的周期为80～350nm, 占空比为0.3～0.8，厚度为50～200nm，金属层的厚度比介质光栅厚度30nm以上（层间距大于30nm）。本实用新型具有结构简单，易于制作等优点，在以后的光学传感系统、先进的纳米光子器件以及集成光学系统中，具有很大的应用价值。