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公开(公告)号：CN102418302A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: D21H21/48
Abstract: 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
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公开(公告)号：CN113515021A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110667771.6
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构。所述三维微纳形貌结构包括:基体；形成于所述基体上的至少一个三维微纳形貌单元，其中每个三维微纳形貌单元包括至少一个视觉高点，所述每个三维微纳形貌单元包括复数个从视觉高点开始斜坡形貌斜率按预设规律变化的环带。所述三维微纳形貌结构具有非常逼真的立体视觉。
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公开(公告)号：CN112684677A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN105445834A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: G02B5/1857 , G03F7/2022 , G03F7/2051
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN102392374A
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN201110189748.7
申请日：2011-07-07
Applicant: 苏州大学
IPC: D06P5/15 , D06M15/233 , D06M15/356 , D06M15/53 , C12S11/00
Abstract: 本发明涉及一种纺织品染整加工用的助剂，公开了一种用于牛仔服装酶洗的防返沾色剂，按质量百分比，它包括：苯乙烯/马来酸酐共聚物的碱水解产物10～35%，聚乙烯吡咯烷酮2～10%，脂肪胺聚氧乙烯醚2～10%，脂肪醇聚氧乙烯醚5～25%，其余为水。采用高分子表面活性剂苯乙烯/马来酸酐共聚物的碱水解产物作为防返沾色剂的主要成份，其对不溶性靛蓝染料具有优异的吸附和分散作用，可较好地将酶洗下来的染料分散在洗涤液中，达到防返沾色的效果；将它与其他表面活性剂复配后，可以进一步提高防返沾色效果。本发明所提供的防返沾色剂对纤维素酶的活力没有明显影响，不降低酶洗效果，且具有较好的生物降解性，有利于保护环境。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118915203A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202310500978.3
申请日：2023-05-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B3/00 , G02F1/1333 , G02F1/1337
Abstract: 本申请属于安全防伪技术领域，提出了一种基于液晶微透镜阵列的可切换光场防伪薄膜及其制备方法；该防伪薄膜包括基材层，基材层的上表面设置有配向层；所述配向层上设置有液晶微透镜阵列，所述液晶微透镜阵列包含复数个液晶微透镜；所述液晶微透镜会聚某一旋向圆偏振光，发散相反旋向圆偏振光；所述基材层下表面设置有由复数个微结构单元组成的图文微结构层；所述液晶微透镜与所述微结构单元一一对应。与普通微透镜相比，液晶微透镜能够满足切换不同圆偏振态的光，人眼观察到不同的像，达到可切换的光场防伪效果。
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公开(公告)号：CN118131476B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410565419.5
申请日：2024-05-09
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
Abstract: 本申请提供一种空间光场成像器件及其制备方法。该空间光场成像器件包括：基材；单层微纳结构，设置于基材的一侧，单层微纳结构包括具有目标相位分布图的成像结构；其中，目标相位分布图被配置为由目标光场经初始成像结构形成目标中间像后，目标中间像逆向传播至透过初始成像结构时于初始成像结构的表面形成的相位分布图与初始成像结构的相位分布图相与或相切形成。上述空间光场成像器件有利于实现“消色差”的空间光场成像，保证成像的清晰度，并且不仅可实现近距离三维空间成像效果，也可以实现远距离空间投影成像效果。
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公开(公告)号：CN110752753A
公开(公告)日：2020-02-04
申请号：CN201911074290.3
申请日：2019-11-04
Applicant: 苏州大学
IPC: H02M3/335
Abstract: 本申请公开了一种逆变升压电路，包括：第一可控开关、变压器、N个第二可控开关、N个第三可控开关和用于产生预设PWM波，并根据预设PWM波通过第一可控开关分时交替控制一个第二可控开关和一个第三可控开关同时进行导通的控制器；第一可控开关的控制端与控制器相连，第一可控开关的第一端与变压器的初级的第一端相连，可控开关的第二端接地，变压器的初级的第二端与目标直流电源相连，变压器的次级的第一端分别与N个第二可控开关的第一端相连，变压器的次级的第二端分别与N个第三可控开关的第一端相连，N个第二可控开关的第二端分别与N个电容的正极相连，N个第三可控开关的第二端分别与N个电容的负极相连。通过该逆变升压电路可以减小变压器的体积。
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公开(公告)号：CN105374467B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201510696751.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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公开(公告)号：CN210820931U
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201920579789.9
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本实用新型提供一种三维打印系统，其包括传送机构、透明支撑板、载物机构和成像机构。所述传送机构用于输送透明薄膜传送带，所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置。所述透明支撑板设置于机台的投影窗口上方，且位于所述透明薄膜传送带的下方。所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带。所述成像机构，位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本实用新型提供的三维打印系统可以实现三维打印，可满足生物医药领域对打印精度的要求。
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