公开(公告)号：CN109411389A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201810934866.8

申请日：2018-08-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵旼熙 ,  刘在赫 ,  吴世勋 ,  金兑根 ,  延蕊林 ,  吴海琳 ,  郑址洙

IPC: H01L21/67

Abstract: 公开涉及一种用于将清洁液供应到基板的装置。清洁液供应单元包括：混合容器，在其内部具有液体混合空间；第一供应构件，其被构造成将第一液体供应到液体混合空间中；第二供应构件，其被构造成将不同于第一液体的第二液体供应到液体混合空间中；以及混合构件，其被构造成将供应到液体混合空间中的第一液体和第二液体进行混合，并且混合构件可包括：循环管线，供在液体混合空间中的液体循环；和压力调节构件，其被构造成向液体提供压力，使得液体混合空间中的液体流入循环管线中，并且被构造成调节压力。

公开(公告)号：CN109244000A

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201810752460.8

申请日：2018-07-10

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李梦龙 ,  曹美英 ,  延蕊林 ,  A·科里阿金

IPC: H01L21/67

Abstract: 公开了一种基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理方法包括将含有单体物质的处理液涂覆到要清洁的基板上，通过向处理液照射光并使单体物质聚合以将处理液固化为清洁膜，并去除清洁膜。