-
公开(公告)号：CN1785674A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510131041.5
申请日：2005-12-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/1634 , B41J2/16 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1642 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , B41J2002/043 , Y10T29/42 , Y10T29/49401 , Y10T156/1056
Abstract: 提供一种制造中硅基板不会产生裂纹或缺陷，而且成品率也高的液滴喷头的制造方法。本发明的液滴喷头的制造方法，具有：对硅基板(30)的一面蚀刻，形成成为喷嘴(8)的凹部的工序；在形成有成为硅基板(30)的喷嘴(8)的凹部的面上粘合支持基板(40)的工序；从硅基板(30)的粘合了支持基板(40)面的反面将硅基板(30)薄板化的工序；和在硅基板薄板化后将支持基板(40)与硅基板(30)剥离的工序。
-
公开(公告)号：CN1294540A
公开(公告)日：2001-05-09
申请号：CN00800219.3
申请日：2000-02-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B23K26/38 , H01L21/302 , H01L21/3205 , B81C5/00 , B41J2/16
CPC classification number: B81C1/00087 , B23K26/009 , B23K26/066 , B23K26/18 , B23K26/384 , B41J2/16 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1645 , B81C2201/0143 , H01L21/486 , H01L21/76898 , H01L23/481 , H01L2223/54453 , H01L2224/13 , H01L2224/13009 , H01L2224/14181 , H01L2224/16 , H01L2224/16146 , H01L2224/81
Abstract: 本发明涉及一种利用激光加工形成高长度直径比的加工孔的加工被加工物的方法。在硅基板(1)的表面和背面分别形成氧化硅膜(2)作为保护膜,经该保护膜(2)向硅基板(1)照射激光进行开孔加工。或者,向硅基板(1)照射圆偏振或随机偏振的激光。由此获得高长度直径比的加工孔,而且,加工孔形状也成为真正笔直的孔,提高了加工精度。
-
公开(公告)号：CN103885109B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201310696048.6
申请日：2013-12-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 荒川克治
IPC: G02B5/28
CPC classification number: G02B26/001 , G02B5/28
Abstract: 本发明涉及波长可变干涉滤波器、及其制造方法、光模块以及电子设备。其中，波长可变干涉滤波器的可动基板（52）具备可动部，以及在从基板厚度方向观察可动基板（52）的俯视观察中设置在可动部外侧的槽（526），槽（526）具有槽的深度尺寸相同的底面（526C）和与底面（526C）连续的侧面，侧面在沿着基板厚度方向截断可动基板（52）的截面观察中由圆弧形的第一曲面部（526A）和第二曲面部（526B）构成。
-
公开(公告)号：CN103885109A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201310696048.6
申请日：2013-12-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 荒川克治
IPC: G02B5/28
CPC classification number: G02B26/001 , G02B5/28
Abstract: 本发明涉及波长可变干涉滤波器、及其制造方法、光模块以及电子设备。其中，波长可变干涉滤波器的可动基板（52）具备可动部，以及在从基板厚度方向观察可动基板（52）的俯视观察中设置在可动部外侧的槽（526），槽（526）具有槽的深度尺寸相同的底面（526C）和与底面（526C）连续的侧面，侧面在沿着基板厚度方向截断可动基板（52）的截面观察中由圆弧形的第一曲面部（526A）和第二曲面部（526B）构成。
-
公开(公告)号：CN102636828A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201210028988.3
申请日：2012-02-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B26/001 , B81B7/0035 , G01J3/26
Abstract: 本发明提供了一种波长可变干涉滤波器及其制造方法、光模块、光分析装置，该波长可变干涉滤波器包括：第一基板，具有固定镜；第二基板，与第一基板接合，包括可动部和固定在可动部上的可动镜；第三基板，在与第一基板相反的一侧上与第二基板接合；以及静电致动器，使可动部沿基板相对方向移位，其中，形成有使第一基板和第二基板之间的出射侧空间以及第二基板和第三基板之间的入射侧空间与外部连通的贯通孔，贯通孔被密封材料密封，以将各空间密闭为减压状态。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101157299A
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200710162266.6
申请日：2007-09-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/14314 , B41J2/16 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1642 , B41J2/1646
Abstract: 本发明提供一种可实现喷嘴的高密度化且能防止喷嘴间的压力干涉的液滴喷头、液滴喷头的制造方法等。液滴喷头(10)至少具有：喷嘴基板(1)、具有喷出室(31)的腔室基板(3)、具有成为存液器(23)的存液器凹部(23a)的存液器基板(2)，在存液器凹部(23a)的内表面整体、和在存液器凹部(23a)的开口的周围形成有深度比存液器凹部(23a)浅的浅凹部(23c)的底面上，具有通过成膜形成的树脂薄膜(111)，成膜在浅凹部(23c)的底面上的树脂薄膜(111)，被切断成包围存液器凹部(23a)的环绕状，成膜在存液器凹部(23a)的底面上的树脂薄膜(111)的一部分成为缓冲压力变动的隔膜部(100)。
-
公开(公告)号：CN1200793C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN00800219.3
申请日：2000-02-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B23K26/38 , H01L21/302 , H01L21/3205 , B81C5/00 , B41J2/16
CPC classification number: B81C1/00087 , B23K26/009 , B23K26/066 , B23K26/18 , B23K26/384 , B41J2/16 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1645 , B81C2201/0143 , H01L21/486 , H01L21/76898 , H01L23/481 , H01L2223/54453 , H01L2224/13 , H01L2224/13009 , H01L2224/14181 , H01L2224/16 , H01L2224/16146 , H01L2224/81
Abstract: 本发明涉及一种利用激光加工形成高长度直径比的加工孔的加工被加工物的方法。在硅基板(1)的表面和背面分别形成氧化硅膜(2)作为保护膜，经该保护膜(2)向硅基板(1)照射激光进行开孔加工。或者，向硅基板(1)照射圆偏振或随机偏振的激光。由此获得高长度直径比的加工孔，而且，加工孔形状也成为真正笔直的孔，提高了加工精度。
-
公开(公告)号：CN1604286A
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN200410085730.2
申请日：2004-09-30
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/6838 , C23F1/08
Abstract: 表面处理装置1构造为当对基片10的背面101执行表面处理时保持基片10。所述表面处理装置1包括：至少一个封闭空间，每个封闭空间都由凹入部分32和基片10的正面102限定；以及O形环2(接触部分)，适于与基片10的正面102密封，以与O形环2和基片10的正面102协作而产生负压。所述表面处理装置1如此构造，通过使减压室中的封闭空间减压，然后将基片从减压室的内部取出到大气压力下的环境中，使得基片利用负压和大气压力之差吸到表面处理装置1上。
-
公开(公告)号：CN102636828B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201210028988.3
申请日：2012-02-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B26/001 , B81B7/0035 , G01J3/26
Abstract: 本发明提供了一种波长可变干涉滤波器及其制造方法、光模块、光分析装置，该波长可变干涉滤波器包括：第一基板，具有固定镜；第二基板，与第一基板接合，包括可动部和固定在可动部上的可动镜；第三基板，在与第一基板相反的一侧上与第二基板接合；以及静电致动器，使可动部沿基板相对方向移位，其中，形成有使第一基板和第二基板之间的出射侧空间以及第二基板和第三基板之间的入射侧空间与外部连通的贯通孔，贯通孔被密封材料密封，以将各空间密闭为减压状态。
-
公开(公告)号：CN102152633A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010578368.8
申请日：2010-12-03
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 荒川克治
CPC classification number: B41J2/14314 , B41J2/16 , B41J2/1606 , B41J2/162 , B41J2/1623 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1632 , B41J2/1642 , B41J2/1646
Abstract: 本发明提供一种头的可靠性提高的喷嘴板、喷出头及其制造方法以及喷出装置。喷嘴板具有金属制的喷嘴板主体(38a)，该喷嘴板主体(38a)具有由在厚度方向上贯通的并列的喷嘴(36)构成的喷嘴列，喷嘴板主体(38a)的液滴喷出面(78)的喷嘴(36)的周缘部设有疏水膜(48)，除了疏水膜(48)以外的喷嘴板主体(38a)的液滴喷出面(78)的外周部的至少一部分被底涂处理。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
25
records
(took 0.033 seconds)
