叠加方差稳定化方法及系统

    公开(公告)号:CN108885407A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201780021326.4

    申请日:2017-01-26

    Abstract: 本发明提供用于提供叠加校正的方法及系统。一种方法可包含:选择经配置以对晶片执行叠加建模的叠加模型;从所述叠加模型获得第一组经建模结果,所述第一组经建模结果指示适用于所述叠加模型的多个项系数的调整;计算指示所述多个项系数的有效性的有效性矩阵;基于所述经计算有效性矩阵而识别所述多个项系数当中的至少一个较低有效项系数;从所述叠加模型获得第二组经建模结果,所述第二组经建模结果指示适用于除所述经识别至少一个较低有效项系数之外的所述多个项系数的调整;及提供所述第二组经建模结果以促进叠加校正。

    用于使用灵活取样的过程控制的方法及系统

    公开(公告)号:CN108028210A

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201680052263.4

    申请日:2016-09-14

    CPC classification number: G03F7/70616 H01L22/12 H01L22/20

    Abstract: 产生灵活的稀疏度量取样图包含:从度量工具接收来自一或多个晶片的度量信号全集;基于所述度量信号全集来确定一组晶片性质,且计算与所述组晶片性质相关联的晶片性质度量;基于所述度量信号全集来计算一或多个独立特性度量;以及基于所述组晶片性质、所述晶片性质度量及所述一或多个独立特性度量来产生灵活的稀疏取样图。使用来自所述灵活的稀疏取样图的度量信号来计算的所述一或多个性质的所述一或多个独立特性度量是在选自使用所述度量信号全集来计算的所述一或多个性质的一或多个独立特性度量的阈值内。

Patent Agency Ranking