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公开(公告)号：CN1896039A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200610100399.6
申请日：2003-08-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C08F36/20 , C08F36/16 , C08F214/18 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供了含氟化合物，其特征在于，由式(3)表示，CF2＝CFCF2C(CF3)(OR9)－CH2－CR10＝CH2(3)式中，R9表示氢原子、可具有醚系氧原子或环状脂肪族烃基的碳原子数小于等于10的烷基或碳原子数小于等于6的烷氧基羰基；R10表示环状脂肪族烃基。
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公开(公告)号：CN1871196A
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200480031538.3
申请日：2004-10-29
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 提供了官能团浓度高、可得到充分的官能团特性的，在宽波长范围具有高透明性的含氟化合物、含氟聚合物及其制造方法。提供了下式(1)所示的含氟二烯。CF2＝CFCH2CH(C(R1)(R2)(OH))CH2CH＝CH2(1)，式中，R1和R2分别独立地表示氟原子或碳原子数小于等于5的氟烷基。
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公开(公告)号：CN1286867C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN03819683.2
申请日：2003-08-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C08F36/20 , C08F36/16 , C08F214/18 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供了官能团浓度高、可获得充分的官能团特性、且Tg不会下降的含氟聚合物。该聚合物是具有通过式(1)CFR1＝CR2-Q-CR3＝CHR4-(1)表示的含官能团的含氟二烯的环化聚合而形成的单体单元的含氟聚合物。式中，R1～R4互相独立，表示氢原子、氟原子、碳原子数小于等于8的烷基或环状脂肪族烃基，其中至少1个为环状脂肪族烃基，烷基及环状脂肪族烃基中的氢原子可被氟原子、烷基或氟烷基取代；Q表示2价有机基团，该基团是具有通过酸可显现酸性基的嵌段化酸性基或可转变为该嵌段化酸性基的基团的有机基团。
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公开(公告)号：CN1277854C
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN02804537.8
申请日：2002-01-31
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08F136/20 , C07C33/42 , C07C43/17
CPC classification number: C07C43/17 , C07C33/423 , C07C43/313 , C07C69/734 , C08F36/20
Abstract: 本发明提供高Tg且含有可体现特性的充分的官能团浓度的、主链为含氟脂肪族环结构的聚合物及其制造方法。即含有包含以下式(1)表示的官能团的含氟二烯经环化聚合生成的重复单元的含氟聚合物及使上述二烯进行自由基聚合的制造方法：CF2＝CR1-Q-CR2＝CH2(1)式中，R1、R2分别独立表示氢原子、氟原子、碳原子数在3以下的烷基或3以下的氟代烷基，Q表示含有官能团的2价有机基。
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公开(公告)号：CN1711504A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380102724.7
申请日：2003-11-06
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027 , C08F16/02 , C08F16/24 , C08F8/02
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F14/18 , C08F36/16 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 提供抗蚀组合物，该组合物易形成抗蚀图案，对F2激基缔合物(excimer)激光等真空紫外线透明性、干蚀刻性能优良，且感光度、析像度、平坦性、耐热性等也良好。该抗蚀组合物的特征在于包括含氟聚合物(A)、受光照射产生酸的产酸化合物(B)以及有机溶剂(C)，该含氟聚合物(A)含有一个被保护基保护的酸性基，该保护基含有环烷基、有一个或多个环烷基的有机基、双环烷基等。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103718105A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201280036649.8
申请日：2012-07-27
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 武部洋子
IPC: G03F1/62
Abstract: 本发明提供具有对于波长250nm以下、特别是200nm以下的光的耐光性良好的防尘薄膜的光刻用薄膜、使用该薄膜的带薄膜的光掩模及曝光处理方法。光刻用薄膜是具有包含由含氟聚合物(A)形成的膜和由含氟聚合物(B)形成的膜的多层薄膜的光刻用薄膜，其中，含氟聚合物(A)含有将含1个醚性氧原子的全氟二烯环化聚合而得的重复单元作为主要成分，含氟聚合物(B)具有环结构内含互不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构，其特征在于，所述由含氟聚合物(B)形成的膜的总膜厚在所述由含氟聚合物(A)形成的膜的总膜厚的40％以下。
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公开(公告)号：CN102971283A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201180033459.6
申请日：2011-07-06
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C07C43/225 , C07D333/18 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0062 , C07C43/225 , C07D333/18 , C09B57/00 , H01L51/0058 , H01L51/0068 , H01L51/5052
Abstract: 本发明提供一种有机半导体材料，其将能够实际用作有机半导体材料的π共轭化合物作为电荷输送材料使用、液晶性优异且能够容易地应用于涂装工艺。本发明提供由式：Q（W－ArF（Z）k）n表示的含氟芳香族化合物。式中，Q是从苯环或杂环的单环结构或者多环集合结构或稠合多环结构中除去n（n＝2或3）个氢原子而得的n价的芳香族烃基。W是具有碳原子数为2的不饱和键的烃基。ArF是k＋1价（k＝1～3）的含氟芳香族烃基。Z是选自－R、－OR、－Rf等中的1价有机基团。其中，R是碳原子数1～12的烷基，Rf是碳原子数1～12的氟取代烷基。
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公开(公告)号：CN102549714A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080038908.1
申请日：2010-09-01
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7096 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/7095 , G03F7/70958 , Y10T428/3154
Abstract: 本发明涉及浸液曝光装置用涂布材料组合物，用于在照射曝光光束并经由液体将基材曝光的浸液曝光装置的构件表面形成斥液层，其含有在主链上具有重复单元的含氟聚合物，所述重复单元具有在环结构内包含彼此不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构。
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公开(公告)号：CN101646696B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200880010074.6
申请日：2008-02-20
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C07C57/32 , C07C69/65 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/20 , C08F14/18 , C08F36/20 , C08F214/18 , Y10S430/146 , C08F2/00
Abstract: 本发明提供新的含氟化合物、含氟聚合物及其制造方法。式：CF2＝CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR＝CHR表示的化合物(其中，X为氢原子、氰基或式-C(O)OZ表示的基团，Z为氢原子或碳数1～20的1价有机基团，n为0、1或2，R为氢原子或碳数1～20的1价有机基团、其制造方法以及使该化合物聚合而得的含氟聚合物。
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公开(公告)号：CN101421673A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200780013266.8
申请日：2007-03-30
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/24 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料。包含聚合物(F)的碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料，所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。例如，重复单元(FU)为通过选自下述化合物(f1)～(f4)的化合物(f)的聚合而形成的重复单元；RF表示H、F、碳数1～3的烷基或碳数1～3的氟代烷基，XF表示F、OH或CH2OH。
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