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公开(公告)号：CN118298419A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202310015099.1
申请日：2023-01-05
Applicant: 清华大学 , 北京与光科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种水果品质检测方法、装置、电子设备及存储介质，应用于水果图像采集模组，其中，水果图像采集模组包括微纳结构调制层和图像传感器层，微纳结构调制层包括多个微纳结构单元，所述方法包括：获取基于水果图像采集模组采集的待检测水果的待处理图像，其中，待处理图像为基于微纳结构调制层对待检测水果反射出的光信息进行调制得到调制后光信息，并基于图像传感器层对调制后光信息进行处理而形成的灰度值图像；基于坐标位置和待处理图像中各个像素点的灰度值，确定与微纳结构单元对应的特征值；将特征值输入至水果品质检测模型得到水果品质检测结果。实现了低成本、无损且高精度得对水果品质进行检测。
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公开(公告)号：CN114779373B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202210247969.3
申请日：2022-03-14
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明涉及分束器技术领域，提供一种光功率分束器及其制备方法。其中，光功率分束器包括衬底和设置于衬底表面的多个呈柱状的超原子结构；其中，各个超原子结构的横截面积均基于超原子结构在衬底的位置r、子光束个数n、子光束幅度比An、子光束相对于入射光的横向波矢偏转量kn及子光束在衬底的投影位置Rn确定，且多个超原子结构的横截面积的范围能够使入射光的相位延迟覆盖0‑2π的变化范围。如此形成的光功率分束器能够按照预设功率分束比和预设子光束空间排布结构对入射光进行分束。同时，衬底和超原子结构形成的超表面具有平面化小型化的优点，可方便地集成于光路系统中。
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公开(公告)号：CN117726520A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202211085956.7
申请日：2022-09-06
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提供一种炉口火焰的光谱图像恢复方法、装置及电子设备，其中，所述炉口火焰的光谱图像恢复方法可以包括：实时获取所述炉口火焰的火焰光谱经光谱相机调制后的数据集合；基于所述数据集合，通过压缩感知处理确定与所述数据集合对应的光谱图像。通过本发明提供的炉口火焰的光谱图像恢复方法，可以实现更加准确和低成本的对炉口火焰的光谱图像进行实时恢复，进而能够更加准确的对转炉炼钢终点进行控制。
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公开(公告)号：CN117705278A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202211105378.9
申请日：2022-09-09
Applicant: 清华大学 , 北京与光科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种光谱芯片中随机形状单元的生成方法、装置及光谱芯片，其中的方法包括：生成初始矩阵，并对初始矩阵进行傅里叶逆变换，获取与初始矩阵相应的水平集函数；基于水平集函数，生成光谱芯片中的随机形状单元。由于各组微纳结构阵列都是由生成的随机形状单元组成，因此，对于包括多组微纳结构阵列的光调制层而言，包含了该方法生成的各种不同的随机形状单元，使得光调制层对入射光具备丰富的光谱调制特性，从而有利于克服光谱恢复精度的限制，实现对入射光频谱的高精度测量，有效提高了光谱恢复的精度，并且还能够减小光谱器件的体积和成本。
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公开(公告)号：CN117664332A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202211066450.1
申请日：2022-08-31
Applicant: 清华大学 , 北京与光科技有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光谱成像芯片、设备及光谱成像方法，涉及光谱设备技术领域。光谱成像芯片包括依次层叠设置的光调制层、图像传感器层和信号处理电路层，光调制层上分布有多个微纳结构阵列，多个微纳结构阵列沿第一方向排布形成微纳结构阵列组；在第一方向上，任意一个微纳结构阵列与其他微纳结构阵列不相同。本发明提供的光谱成像芯片、设备及光谱成像方法，可以实现光谱成像设备的小型化，降低成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117478867A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202210869460.2
申请日：2022-07-22
Applicant: 清华大学 , 北京与光科技有限公司
IPC: H04N17/00
Abstract: 本发明实施例提供一种用于成像系统的终端检测系统及方法和远程光谱成像系统，其中系统包括：显示终端、测色仪和校准模块；所述显示终端用于显示预设的参考图像；所述测色仪用于获取显示图像的颜色数据，所述显示图像为所述参考图像的实际显示画面；所述校准模块用于基于所述参考图像的颜色数据与所述显示图像的颜色数据，获取所述参考图像和所述显示图像之间的映射关系；所述校准模块还用于基于所述映射关系对所述显示终端进行颜色校准。本发明实施例提供的用于成像系统的终端检测系统及方法和远程光谱成像系统，避免了显示终端的颜色显示误差，进一步提升成像系统的精准度。
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公开(公告)号：CN112529790B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202011270735.8
申请日：2020-11-13
Applicant: 清华大学
IPC: G06T5/00
Abstract: 本发明实施例提供一种用于光谱恢复的图像光强校正方法及装置，所述方法包括：对拍照图像进行特征提取，获取拍照图像的特征点组；对成像图像进行特征提取，获取成像图像的特征点组；基于拍照图像的特征点组和成像图像的特征点组，获取拍照图像和成像图像之间的位移信息和旋转偏差信息；基于拍照图像和成像图像之间的位移信息和旋转偏差信息，对拍照图像进行偏差修正处理，获取偏差修正后的拍照图像；基于偏差修正后的拍照图像，获取光强校正后的成像图像。通过以成像图像的光强值除以偏差修正后的拍照图像的光强值，获取光强校正后的成像图像，消除了作为光谱恢复对象的图像存在分布不均匀的光强值的缺陷，提高了光谱恢复和光谱成像的效果。
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公开(公告)号：CN116240328A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202111468068.9
申请日：2021-12-03
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提供一种转炉炼钢终点控制方法、系统、装置、设备、介质及产品，方法包括：获取当前时刻转炉炉口对应的至少一张光谱图像；分别提取每张所述光谱图像中的目标图像区域，将所述目标图像区域作为目标光谱图像；对所述目标光谱图像进行降维处理，得到待处理光谱图像；将所述待处理光谱图像输入预测模型，得到通过所述预测模型输出的转炉钢水温度和转炉碳含量；当确定所述转炉钢水温度和所述转炉碳含量达到预设范围时，生成停止冶炼指令。本发明用以解决现有技术中通过人工经验判定转炉内的转炉钢水温度和转炉碳含量来停止炼钢，导致准确率低的缺陷。
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公开(公告)号：CN115181953B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202211099082.0
申请日：2022-09-09
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明提供一种表面等离激元薄膜的制备方法和制备多层膜超材料的方法，所述表面等离激元薄膜的制备方法包括：在磁控溅射过程中，通过调控溅射速度和原子沉积动能，制备平整度为原子级的表面等离激元薄膜，其中所述溅射速度控制在2‑5nm/min，所述原子沉积动能控制在5‑20eV。本发明通过调控溅射速度和原子沉积动能，从而可以制备出平整度为原子级、厚度可低至10nm的金属薄膜。本发明的制备方法为基于表面等离激元的集成光电子器件的生产与应用提供了重要的技术支持。另外，基于本发明的制备方法可以制备出在光频段等效折射率大于70的多层膜高折射率超材料，应用前景广阔。
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公开(公告)号：CN115404552A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202211353501.9
申请日：2022-11-01
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明涉及微细加工技术领域，尤其涉及一种极低气压反应腔下的侧壁钝化侧蚀动态平衡深刻蚀光子晶体结构制备方法。具体的，在刻蚀过程中，保持趋近于1，并在0.05~0.1Pa的压力下进行刻蚀；其中，代表反应物析出速度和沉积速度的比值，代表刻蚀孔开口处的反应物析出速度和沉积速度的比值。上述干法刻蚀方法能够克服Ⅲ‑Ⅴ族半导体材料干法刻蚀产物饱和蒸气压低、难以挥发的问题，实现了高深宽的Ⅲ‑Ⅴ族半导体有源光子晶体刻蚀效果，同时兼顾实现了圆孔及狭缝等不同结构垂直侧壁刻蚀技术。此外，所述干法刻蚀方法刻蚀表面粗糙度低，刻蚀小孔/槽均匀。
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