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公开(公告)号:CN1725913A
公开(公告)日:2006-01-25
申请号:CN200510080473.8
申请日:2005-07-05
Applicant: 清华大学 , 北京维信诺科技有限公司
Abstract: 本发明提供了一种高速的形成致密连续的薄膜的方法和由此方法制备的有机电致发光器件。本发明的技术方案是:一种材料的成膜方法,用多个蒸发源同时对同一种材料进行蒸镀。多个蒸发源的蒸镀速率可以不同。一种有机电致发光器件,该器件中至少一种材料是用多源蒸镀的成膜方法制成的。多个蒸镀源中至少两个源的蒸镀速率可以是不同的。本发明的有益效果是成膜速率高,形成的薄膜更加致密连续,由此方法制得的有机电致发光器件的电压低、亮度高、效率高、寿命长。
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公开(公告)号:CN1700824A
公开(公告)日:2005-11-23
申请号:CN200510072373.0
申请日:2005-05-31
Applicant: 清华大学 , 北京维信诺科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种有机电致发光器件,旨在提供一种器件效率高、工作电压低、蒸镀气压低、蒸镀速率快的有机电致发光器件。技术方案为:一种有机电致发光器件,含有阳极缓冲层,阳极缓冲层为可熔融的含氟聚合物。可熔融的含氟聚合物的熔点一般小于327℃,熔融粘度一般小于1010Pa·S,优选温度小于或等于306℃,优选的熔融粘度小于或等于104Pa·S。可熔融含氟聚合物可以为聚四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚、聚全氟乙丙烯或聚三氟氯乙烯-偏氟乙烯等。本发明的有益效果是可熔融的含氟聚合物形成的有机电致发光器件的有效调节了空穴注入,器件的工作电压低,效率高,且可熔融的含氟聚合物蒸镀气压低、蒸镀速率高。
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公开(公告)号:CN1589072A
公开(公告)日:2005-03-02
申请号:CN200410073673.6
申请日:2004-08-31
Applicant: 清华大学 , 北京维信诺科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种含有屏蔽掩膜支撑体的有机电致发光器件及其制备方法,旨在使用红绿蓝屏蔽掩膜制作全彩有机电致发光器件时增强对屏蔽掩膜的支撑作用,该有机电致发光器件包括:基片;形成在基片上的一组第一电极条;形成在第一电极条上的有机发光层;和形成在有机发光层上的一组第二电极条,每个象素由一个第一电极条和一个第二电极条以及夹在两个电极条之间的有机发光层构成,相邻阳极条和/或相邻阴极条之间形成一个或多个用以支撑屏蔽掩膜的支撑体。其制备方法是用光刻的方法形成屏蔽掩膜的支撑体。该器件能延长屏蔽掩膜的使用寿命,减少有机电致发光器件坏点的数量,增强有机电致显示屏的清晰度、色纯度和均匀性。
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公开(公告)号:CN1514678A
公开(公告)日:2004-07-21
申请号:CN03126422.0
申请日:2003-09-28
Applicant: 清华大学 , 北京维信诺科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种单层有机电致发光器件。该器件的单层有机发光层(4)采用小分子材料,小分子材料中掺杂有一种双极性掺杂剂,掺杂浓度为小分子材料的0.01wt%~90wt%。在单层器件的发光层中引入双极性掺杂剂,改善了载流子的传输过程,使得复合发光区域的电子和空穴传输达到平衡,从而提高了器件的发光效率和稳定性。
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公开(公告)号:CN1156198C
公开(公告)日:2004-06-30
申请号:CN01115645.7
申请日:2001-04-29
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明所公开的是一种柔性有机电致发光器件,其结构中依次包括一个柔性基体层,由绝缘材料构成的缓冲层,一个阳极层,至少包括一个电子传输层或空穴传输层的有机发光层,一个阴极层。本发明通过在器件结构中加入一层缓冲层,有效地改善了器件基片与用作阳极的ITO薄膜之间的结合性能,同时大大提高了器件基片的气密性,达到了提高器件的稳定性和延长其寿命的目的。
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公开(公告)号:CN1457105A
公开(公告)日:2003-11-19
申请号:CN03121063.5
申请日:2003-03-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明涉及一种有机电致发光器件。该器件的空穴传输层(4)采用有机量子阱结构,这种量子阱传输结构由宽能带的有机材料A和窄能带的有机材料B两种材料层交替重叠组成,两种有机材料的能级互相匹配(即材料A的能带能实现对材料B的能带的包裹),在量子阱界面处形成空穴的势垒。本发明在空穴传输层采用的有机量子阱结构能够显著控制空穴载流子在空穴传输层中的迁移,实现了发光区域电子和空穴的注入平衡,从而提高了器件的发光效率和发光亮度。如果组成有机量子阱结构的有机材料B为染料C,器件随空穴传输层中的有机量子阱周期数不同而具有不同发光中心,即可以通过控制空穴传输层中的有机量子阱周期数来改变器件中电子和空穴的复合发光区域,进而调整器件的发光中心。
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公开(公告)号:CN1118221C
公开(公告)日:2003-08-13
申请号:CN00120790.3
申请日:2000-07-14
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明涉及一种有机电致发光玻板的清洗方法,首先将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内,通入纯氧气流,使环境压力维持在8×10-3Pa~3×10-2Pa;用离子束以30°~60°轰击玻板,轰击时使束流密度控制在1uA/cm2~10mA/cm2,轰击时离子能量为0.5eV~200eV,作用时间为5秒~60秒,即完成清洗过程。本发明装置为一真空腔,被清洗玻片置于真空腔内上部的支架上,真空腔下部的一侧为离子源,离子源位置使产生的离子束与玻片表面成30°~60°角,离子源与样品之间设有挡板。本方法和装置,降低了被清洗玻片的表面粗糙度和表面污染物的含量,不会对玻片产生腐蚀,且制备成本低。
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公开(公告)号:CN103902117B
公开(公告)日:2018-10-02
申请号:CN201210590900.7
申请日:2012-12-31
Applicant: 昆山维信诺显示技术有限公司 , 清华大学 , 北京维信诺科技有限公司
IPC: G06F3/044
Abstract: 一种电容式触摸屏,包括聚合物基板、ITO层、油墨层以及邦定在聚合物基板上的FPC;所述ITO层包括ITO图案和ITO引线,所述ITO引线用于连接导线;所述聚合物基板为硬度大于或等于4H,所述ITO层直接溅射于所述聚合物基板上。将触控单元(ITO层)和保护盖板集成在同一基板上,无须盖板、OCA光学胶层等部件,结构简单、成本低;减少了盖板贴合的工段、ITO图案层粘合工段,制作工艺简单;所采用的聚合物基板的硬度大于或等于4H,使用效果好。所提供的电容式触摸屏的制备方法,使用低温真空磁控溅射工艺制备ITO层,并进行富氧退火,这样就可以增加ITO层的结晶度和透光率,而且增加ITO层和聚合物基板的附着性,从而提高所述电容式触摸屏的性能。
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公开(公告)号:CN100556899C
公开(公告)日:2009-11-04
申请号:CN200510125952.7
申请日:2005-11-30
Applicant: 清华大学 , 北京维信诺科技有限公司
IPC: C07D285/14 , C09K11/06 , H05B33/14
Abstract: 本发明涉及一种新型化合物和包含该化合物的有机电致发光器件。该化合物的结构通式如下所示,其中Ar和Ar’选自氢原子,取代或未取代的芳香基团、杂环芳香基团、稠环芳香基团、稠杂环芳香基团,且Ar和Ar’不同时为氢原子,R1-R4选自氢原子、卤原子,或选自取代或未取代的烷基、烷氧基、硝基、氰基、烷基氨基、烷硫基、芳香基或杂环芳香基。本发明克服了目前常用的发光材料在色纯度、发光效率等方面存在的问题。本发明的材料可优先用作发光体,包括单独作为发光层,或者作为掺杂的染料而发光,并且同时还可用作电子传输、空穴阻挡材料,利用本发明的材料制备的电致发光器件表现出高色纯度、高亮度、高效率的优越性能。
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公开(公告)号:CN101368264A
公开(公告)日:2009-02-18
申请号:CN200710120335.7
申请日:2007-08-16
Applicant: 清华大学 , 北京维信诺科技有限公司 , 昆山维信诺显示技术有限公司
IPC: C23C16/06 , C23C16/448 , C23C16/52 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/5092 , H01L51/5052 , H01L51/56 , Y10T428/12583
Abstract: 本发明涉及一种Li膜的制备方法,其特征在于所述Li膜是由真空蒸镀条件下直接分解为Li的化合物制成,所述化合物是Li3N,Li3N在蒸镀速率为0.01-0.25nm/s,蒸镀温度为300-450℃的条件下分解得到金属Li,Li的膜厚为0.3-5.0nm。本发明还涉及一种上述Li膜作为电子注入层的有机电致发光器件及其制备方法,和电子注入层为电子传输性材料掺杂由Li3N在真空蒸镀条件下分解为Li的有机电致发光器件及其制备方法。
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