公开(公告)号：CN118516652B

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202410997168.8

申请日：2024-07-24

Applicant: 武汉工程大学

Inventor： 赵洪阳 ,  王世奥 ,  周焱文 ,  马志斌 ,  付秋明 ,  杨思捷 ,  吴俊

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种具有致密性和耐刻蚀性Y2O3薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、将衬底清洗，吹干，置于UV光清洗机中进行活化处理；S2、将步骤S1中衬底置于磁控溅射镀膜机内，边抽真空边加热，达到本底真空后通入氩气，对Y2O3靶材进行预溅射，预溅射完成后打开挡板，调节腔体气压，正式溅射开始，溅射完毕后取出衬底；S3、将步骤S2中衬底在800~1000℃条件下进行真空退火，退火过程中持续通入O2，退火完成后在真空环境下自然降温，即完成Y2O3薄膜的制备。本发明制备的Y2O3薄膜具有致密性和耐刻蚀性，可以应用于刻蚀设备，提高设备使用寿命的同时还可提升设备性能。

公开(公告)号：CN118516652A

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN202410997168.8

申请日：2024-07-24

Applicant: 武汉工程大学

Inventor： 赵洪阳 ,  王世奥 ,  周焱文 ,  马志斌 ,  付秋明 ,  杨思捷 ,  吴俊

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种具有致密性和耐刻蚀性Y2O3薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、将衬底清洗，吹干，置于UV光清洗机中进行活化处理；S2、将步骤S1中衬底置于磁控溅射镀膜机内，边抽真空边加热，达到本底真空后通入氩气，对Y2O3靶材进行预溅射，预溅射完成后打开挡板，调节腔体气压，正式溅射开始，溅射完毕后取出衬底；S3、将步骤S2中衬底在800~1000℃条件下进行真空退火，退火过程中持续通入O2，退火完成后在真空环境下自然降温，即完成Y2O3薄膜的制备。本发明制备的Y2O3薄膜具有致密性和耐刻蚀性，可以应用于刻蚀设备，提高设备使用寿命的同时还可提升设备性能。

公开(公告)号：CN103977716B

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201410218353.9

申请日：2014-05-22

Applicant: 武汉工程大学

Inventor： 陈喆 ,  王志 ,  付秋明

IPC: B01D71/16 ,  B01D71/06 ,  B01D69/12 ,  B01D69/10 ,  B01D67/00 ,  C02F1/44 ,  C02F1/62

Abstract: 本发明公开了一种过滤重金属离子的分离膜，所述分离膜是由无纺布层、涂覆于无纺布上的多孔支撑层和多孔支撑层表面的海藻酸钠层构成，所述多孔支撑层是由醋酸纤维素、致孔剂和溶剂混合形成的膜层。本方法制备而成的分离膜，对水溶液中的重金属离子(如Cd(II)，Cu(II)，Fe(III))有良好的截留作用，可应用于化工行业废水处理。