公开(公告)号：CN1212648C

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN02120051.3

申请日：2002-05-17

Applicant: 日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 沟端一国雄 ,  村冈祐介 ,  斉藤公続 ,  北门龙治 ,  井上阳一 ,  坂下由彦 ,  渡邉克充 ,  山形昌弘

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/461 ,  B08B3/00

CPC classification number: B08B9/0321 ,  B08B7/0021 ,  Y10S134/902

Abstract: 当基板清洗腔(5)的盖子打开，在腔中放置基板时，阀门V1，V2，V3，V4，和V6都关闭，只有阀门V5打开。于是，向基板清洗腔(5)提供气体CO2以防止环境空气成分进入腔及进行腔的净化。随着基板清洗腔(5)的盖子关闭，阀门V6打开以形成基板清洗腔(5)的排出管线。于是，在基板清洗腔(5)和导管中的气体残余受到CO2气体的排斥而进入环境空气中，从而进行了腔的净化而防止了任何不需要的环境空气成分的滞留。随后，使用超临界CO2清洗基板。当清洁循环线时，向循环线提供超临界CO2。超临界CO2流向基板清洗腔(5)。在流过包括循环管道(11)的所有循环线之后，超临界CO2通过旁路管道(12)流向减压器(7)。滞留在循环线中的任何化学试剂或有机物质与超临界CO2流体一起连续地流入到分离/回收槽(8)。

公开(公告)号：CN1501439A

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：CN200310103884.5

申请日：2003-11-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  岩田智巳 ,  深津英司 ,  溝端一国雄 ,  上野博之 ,  奥山靖夫 ,  蒲隆 ,  坂下由彦 ,  渡边克充 ,  宗政淳 ,  大柴久典 ,  猿丸正悟

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G11B7/261 ,  G11B7/265 ,  H01L21/67028 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。