公开(公告)号：CN107205690A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680009752.1

申请日：2016-02-19

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 阿部充志 ,  榊原健二 ,  藤川拓也 ,  花田光

IPC: A61B5/055

Abstract: 根据磁场测量值，假定虚拟配置并包围测量位置的电流面，通过电流电位再现能再现测量磁场的电流分布(或者磁矩分布)。使用这些，在现实中使用的离散配置匀场托盘和理想虚拟连续配置的匀场托盘进行采用截断奇异值分解法的匀场计算，以进行均匀度的匀场接近理想匀场的匀场条件执行匀场。

公开(公告)号：CN111973187A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN202010082916.1

申请日：2020-02-07

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 今村幸信 ,  黑目明 ,  星野伸 ,  八尾武 ,  藤川拓也

IPC: A61B5/055 ,  G01R33/3815

Abstract: 本发明提供能抑制伴随辐射屏蔽件的振动而产生涡流并能减少画像质量降低的磁共振成像装置及超导磁铁。磁共振成像装置用的超导磁铁(1)具有大致圆筒形状的真空容器(11)、配置在真空容器(11)内的大致圆筒形状的辐射屏蔽件(12)、以及配置在辐射屏蔽件(12)内的超导线圈(10)。辐射屏蔽件(12)具有位于超导线圈(10)的径向内侧的内筒(12a)。在辐射屏蔽件(12)的内筒(12a)设有沿以该内筒(12a)的中心轴(8)为中心的圆周方向形成的圆环状的肋(17)。

公开(公告)号：CN107205689A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680007259.6

申请日：2016-01-27

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 榊原健二 ,  藤川拓也 ,  阿部充志 ,  花田光

IPC: A61B5/055 ,  G01R33/3873

Abstract: 即使在垫片托盘的各位置可配置的磁性体片的量具有限制，也可达成高的磁场均匀度，为此测量静磁场发生装置生成的静磁场的分布，计算静磁场的分布与目标磁场之间的误差磁场，一边使目标磁场在预定的磁场范围内变化，一边分别计算在垫片托盘的多个位置中的一个以上的位置配置了磁性体片时可达到的磁场均匀度。选择垫片托盘的各位置的磁性体片的量为预定的上限值以下且可达到的磁场均匀度为预定值以下的目标磁场，在垫片托盘中配置与该目标磁场相对应的磁性体片的量。