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发明公开
基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法有权

公开(公告)号：CN112655073A

公开(公告)日：2021-04-13

申请号：CN201980058138.8

申请日：2019-09-06

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 桥本光治 , 清水进二 , 堀口博司 , 山本真弘

IPC: H01L21/02 , H01L21/304

Abstract: 本发明的目的在于，减少在进行基板处理的装置、系统以及方法中使用的数据量。为了达到上述目的，基板处理装置具有：一个以上的处理单元，对基板进行处理；以及一个以上的运算处理部。一个以上的运算处理部通过使用以分别规定与在一个以上的处理单元中对基板实施的处理相关的处理的条件的多个处理规程中的两个以上的处理规程组合，来制作用以规定关于基板的一连串的处理的流程的流程规程。多个处理规程包括分别既定使用处理液对基板实施的处理的条件的多个液体处理规程。

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