公开(公告)号：CN101041289A

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN200610142975.3

申请日：2006-10-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 大城健一 ,  佐藤强 ,  泽田安彦

IPC: B41J2/01 ,  B41J2/045 ,  B41J3/407

CPC classification number: B41J29/393

Abstract: 本发明提供一种能够在短时间内检测出作为卫星滴的伴随滴的发生、进而可以高精度地求出涂布对象物上的液滴着落位置的液滴喷射检查装置及液滴喷射装置。所述装置配备有：对包含利用从喷嘴喷射液滴的液滴喷射头喷射的液滴着落点区域在内的检查区域的图像进行摄影的摄影部(19b)，以及对摄影的检查区域的图像进行图像处理、判断有无比液滴(E)的主滴(E1)小的伴随着该主滴(E1)的伴随滴(E2)的机构(20a)。

公开(公告)号：CN1721082A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510084066.4

申请日：2005-07-12

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 樱井直明 ,  佐藤强 ,  五十川昌邦

IPC: B05C11/00 ,  B05D3/00

CPC classification number: H05K3/125 ,  B05C9/08 ,  B05C13/02 ,  B41M5/0011 ,  B41M5/0047 ,  B41M5/007 ,  B41M7/0027 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/0783

Abstract: 本发明是有关于一种可使基片上所涂敷的涂敷液的干燥在基片的被涂敷的区域内均匀进行，并可防止涂敷物的不均，且使干燥后的涂敷物的形状有效地均匀形成的涂敷装置及涂敷方法。该涂敷方法在将含有溶质和溶剂的涂敷液在基片上的设定区域上进行涂敷并使溶剂挥发，而在前述基片上形成溶质的固化物的过程中，于结束向前述基片上的设定区域的涂敷之前，使前述基片上进行了涂敷的区域附近的环境，保持为一种对前述溶剂的挥发进行抑制的环境。

公开(公告)号：CN102539522B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201110409325.1

申请日：2011-12-09

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤强

IPC: G01N29/02 ,  B41J2/01

CPC classification number: B41J2/14274 ,  B41J2/0451 ,  B41J2/04581 ,  B41J2002/14354 ,  B41J2202/07 ,  G01N29/02 ,  G01N2291/02433 ,  G01N2291/048 ,  G01N2291/102

Abstract: 本发明提供一种能提高异物检测精度的异物检测装置、异物检测方法、液滴喷出装置和液滴喷出方法。本发明的实施方式涉及的异物检测装置包括信号发生部、发信部、接收部、保存信息的保存部、和检测部。所述信号发生部产生电信号。所述发信部对所述电信号进行变换，使液体中产生压力波。所述接收部接收来自所述液体的反射波并变换成电信号。所述保存部保存与所述液体中未含有异物的状态有关的信息。所述检测部根据对所述反射波进行变换后得到的电信号与基于所保存的所述信息的电信号之差，检测有无所述异物和所述异物大小的至少任一种。

公开(公告)号：CN102836793B

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：CN201210209256.4

申请日：2012-06-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 大城健一 ,  佐藤强

IPC: B05B13/02 ,  B05B13/04 ,  B05D1/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 一种螺旋涂敷装置，具有工作台、旋转机构、涂敷喷嘴、移动机构部、喷嘴位置检测部以及位置调整部。工作台具有载置涂敷对象物的载置面。旋转机构使上述工作台在沿着上述载置面的旋转方向上旋转。涂敷喷嘴对工作台上的上述涂敷对象物喷出材料而进行涂敷。移动机构部使上述工作台和上述涂敷喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向上沿着上述载置面相对移动，并使上述工作台和上述涂敷喷嘴能够在上述旋转的轴方向上相对移动。喷嘴位置检测部检测上述旋转的轴方向上的上述涂敷喷嘴的底面的位置信息。位置调整部根据上述涂敷喷嘴的位置信息，进行上述涂敷喷嘴与上述载置面在上述轴方向的位置调整。

公开(公告)号：CN104056748A

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：CN201410082149.9

申请日：2014-03-07

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 大城健一 ,  佐藤强 ,  小林浩秋

IPC: B05B15/02

CPC classification number: B05B15/025 ,  B05B15/55 ,  B05B15/555 ,  B05C11/08 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明涉及喷嘴清洗单元及喷嘴清洗方法。一实施方式的喷嘴清洗单元具备：清洗喷嘴部，具有在供喷嘴插入的孔的内壁面开口为圆环状的第1喷射孔；气体供给部，向所述第1喷射孔供给气体；以及减压部，对供所述喷嘴插入的孔的、隔着设置有所述第1喷射孔的位置而与所述喷嘴的插入侧相反的一侧的气氛进行减压。

公开(公告)号：CN103008175A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210342345.6

申请日：2012-09-14

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 石原治彦 ,  佐藤强 ,  大城健一

IPC: B05C9/00 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05B13/04 ,  B05D1/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B05D1/26 ,  B05D1/002 ,  B05D3/002 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/104 ,  H01L21/6715

Abstract: 根据实施例，一种涂覆设备包括：台，其支撑被涂覆对象；以及涂覆头，其整体包括材料释放单元和气体喷射单元，所述材料释放单元能够相对于所述台移动并且配置为向所述台上的所述被涂覆对象释放涂覆材料，所述气体喷射单元与所述材料释放单元一起能够相对于所述台移动并且配置为向所述台上的所述被涂覆对象喷射气体。

公开(公告)号：CN104634869B

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201510093143.6

申请日：2011-12-09

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤强

IPC: G01N29/02 ,  B41J2/045 ,  B41J2/14

CPC classification number: B41J2/14274 ,  B41J2/0451 ,  B41J2/04581 ,  B41J2002/14354 ,  B41J2202/07 ,  G01N29/02 ,  G01N2291/02433 ,  G01N2291/048 ,  G01N2291/102

Abstract: 本发明提供一种能提高异物检测精度的异物检测装置、异物检测方法、液滴喷出装置和液滴喷出方法。本发明的实施方式涉及的异物检测装置包括信号发生部、发信部、接收部、保存信息的保存部、和检测部。所述信号发生部产生电信号。所述发信部对所述电信号进行变换，使液体中产生压力波。所述接收部接收来自所述液体的反射波并变换成电信号。所述保存部保存与所述液体中未含有异物的状态有关的信息。所述检测部根据对所述反射波进行变换后得到的电信号与基于所保存的所述信息的电信号之差，检测有无所述异物和所述异物大小的至少任一种。

公开(公告)号：CN103008175B

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN201210342345.6

申请日：2012-09-14

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 石原治彦 ,  佐藤强 ,  大城健一

IPC: B05C9/00 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05B13/04 ,  B05D1/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B05D1/26 ,  B05D1/002 ,  B05D3/002 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/104 ,  H01L21/6715

Abstract: 根据实施例，一种涂覆设备包括：台，其支撑被涂覆对象；以及涂覆头，其整体包括材料释放单元和气体喷射单元，所述材料释放单元能够相对于所述台移动并且配置为向所述台上的所述被涂覆对象释放涂覆材料，所述气体喷射单元与所述材料释放单元一起能够相对于所述台移动并且配置为向所述台上的所述被涂覆对象喷射气体。

公开(公告)号：CN101622076B

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN200880006435.X

申请日：2008-02-27

Applicant: 株式会社东芝 ,  佳能株式会社

Inventor： 佐藤强 ,  近藤弘康 ,  樱井直明 ,  山边纯成 ,  添田胜之 ,  小泉洋 ,  木村修一 ,  木下静雄

IPC: B05C9/14 ,  B05C5/00 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B05D3/105 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6776

Abstract: 在涂布装置(1)中，包括：液滴喷射部，所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴，在涂布对象物(2)上涂布液滴；重新润湿干燥部(6)，所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂，形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体，使形成的第二溶液涂布体干燥。

公开(公告)号：CN102150234A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135993.0

申请日：2009-11-05

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤强 ,  近藤弘康 ,  樱井直明 ,  添田胜之 ,  大城健一 ,  木村修一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  H01L21/31 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种成膜装置(1)，具有：负载涂布对象物(W)的平台(2)，使平台(2)在水平面内旋转的旋转机构(3)，在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的规定区域中涂布材料而形成涂布膜(M)的涂布部(4)，产生能溶解涂布膜(M)的溶剂蒸气的供气部(5)，对在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的涂布膜(M)喷吹由供气部(5)产生的溶剂蒸气的喷吹部(6)，控制由喷吹部(6)喷吹的上述溶剂蒸气量，使其为能溶解涂布膜(M)、涂布膜(M)的表层侧部分的粘度比涂布对象物(W)侧部分的粘度低的量的控制部(9)。