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公开(公告)号:CN101924132A
公开(公告)日:2010-12-22
申请号:CN201010144886.9
申请日:2010-03-18
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明提供一种功率用半导体器件,其特征在于,具备:在n+漏层之上,横向交替配置的n柱层以及p柱层;设置在p柱层的表面的p基层;形成在p基层的表面的n源层;横向交替设置的表面p柱层以及表面n柱层;与n+漏层电连接的漏电极;在p基层、表面p柱层、以及表面n柱层之间隔着绝缘膜形成的栅电极;以及与p柱层和n源层的表面接合的源电极,表面p柱层设置在两个p基层之间设置的至少一个p柱层之上,设置在表面p柱层之下的p柱层的杂质浓度高于设置在p基层之下的p柱层的杂质浓度。