氮化物半导体发光元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN100413103C

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200510088496.3

    申请日:2005-08-02

    CPC classification number: H01L33/32 B82Y20/00 H01L33/06

    Abstract: 本发明提供一种氮化物半导体发光元件,在支撑基体上设置第1导电型氮化物半导体层,此外在支撑基体上设置第2导电型氮化物半导体层。发光区域,设在第1导电型氮化物半导体层和第2导电型氮化物半导体层之间。发光区域,含有InX1AlY1Ga1-X1-Y1N势阱层(1>X1>0、1>Y1>0)及InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层(1>X2>0、1>Y2>0)。InX3AlY3Ga1-X3-Y3N缓冲层(1>X3>0、1>Y3>0),设在发光区域和第1导电型氮化物半导体层之间。InX1AlY1Ga1-X1-Y1N势阱层的铟组成X1,小于InX3AlY3Ga1-X3-Y3N缓冲层的铟组成X3。InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层的铟组成X2小于InX3AlY3Ga1-X3-Y3N缓冲层的铟组成X3。

    氮化物半导体发光元件及制造氮化物半导体发光元件的方法

    公开(公告)号:CN1734802A

    公开(公告)日:2006-02-15

    申请号:CN200510088496.3

    申请日:2005-08-02

    CPC classification number: H01L33/32 B82Y20/00 H01L33/06

    Abstract: 本发明提供一种氮化物半导体发光元件,在支撑基体上设置第1导电型氮化物半导体层,此外在支撑基体上设置第2导电型氮化物半导体层。发光区域,设在第1导电型氮化物半导体层和第2导电型氮化物半导体层之间。发光区域,含有InX1AlY1Ga1-X1-Y1N势阱层(1>X1>0、1>Y1>0)及InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层(1>X2>0、1>Y2>0)。InX3AlY3Ga1-X3-Y3N缓冲层(1>X3>0、1>Y3>0),设在发光区域和第1导电型氮化物半导体层之间。InX1AlY1Ga1-X1-Y1N势阱层的铟组成X1,小于InX3AlY3Ga1-X3-Y3N缓冲层的铟组成X3。InX2AlY2Ga1-X2-Y2N势垒层的铟组成X2小于InX3AlY3Ga1-X3-Y3N缓冲层的铟组成X3。

    量子级联激光元件
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103797668A

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201280042684.0

    申请日:2012-08-01

    Abstract: 本发明的课题是制作一种减小了阈值电流密度(Jth)、提高了最高工作温度(Tmax)的量子级联激光元件。解决的手段是:在本发明的一个实施方式中,提供一种具有QCL结构(100)的THz-QCL元件(1000),该QCL结构(100)为被一对电极(20、30)夹持的半导体超晶格结构(100A)。半导体超晶格结构(100A)(QCL结构100)具有活性区域(10),该活性区域(10)例如通过在一对电极之间被施加了电压时的子带间的电子跃迁来发射THz波段的电磁波。该活性区域具有在厚度方向方向上重复设置的具有一定厚度的单位结构(10U),该单位结构(10U)包括几个交替层叠的势阱层(10W)和势垒层(10B),势阱层(10W)由作为AlAs和GaAs的混晶的AlxGa1-xAs(0

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