公开(公告)号：CN1260406A

公开(公告)日：2000-07-19

申请号：CN99126967.5

申请日：1999-12-14

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 末光敏行 ,  森达之 ,  横山政秀 ,  山本昌裕

IPC: C23C14/34

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C14/505 ,  C23C14/541 ,  H01J37/34 ,  H01J2237/20214

Abstract: 本发明为实现小型化和简单化的等离子处理装置,从真空容器(1)壁向真空容器内突设基板置放台(10),在设于该基板置放台上的凹部(10a)内配置安装基板(5)的回转支座(8)的同时以密封其外周的状态回转自如地加以支承,在该回转支座的内部设置叶片(9),并将流体的供给口(11)和排出口(12)在基板置放台上形成为对于叶片施加回转力状,由于从供给口供给流体,使基板在回转的同时冷却。

公开(公告)号：CN1133350A

公开(公告)日：1996-10-16

申请号：CN95119064.4

申请日：1995-12-05

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 横山政秀 ,  早田博 ,  森诚一郎 ,  末光敏行 ,  大野锐二

IPC: C23C14/35

CPC classification number: C23C14/35

Abstract: 本发明揭示一种磁控管溅射装置，它在同一中心轴(1)的周围配设多块直径不同的环状平板靶(2、3)；在各靶(2、3)中，沿其内周缘部位置的表侧和里侧分别配设具有相同极性的磁铁(21、22、23、24)，沿其外周缘部位置的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁(23、24、25、26)，并配设成使内周侧与外周侧极性相反。具有不产生靶局部侵蚀的效果。

公开(公告)号：CN1120601A

公开(公告)日：1996-04-17

申请号：CN95108052.0

申请日：1995-06-29

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 横山政秀 ,  早田博

IPC: C23C14/35

CPC classification number: H01J37/3408 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明揭示一种采用环状靶的磁控管溅射装置，在具有环状平板靶2的磁控管溅射装置中，在沿所述靶2的内周缘部位置的所述靶的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁33、31；在沿所述靶的外周缘部位置的所述靶的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁34、32；沿所述靶的内周配置的所述磁铁与沿所述靶外周配置的所述磁铁之间定为隔靶具有相反的极性关系；本发明具有靶利用效率高，膜厚分布随时间变化小的优点。

公开(公告)号：CN102301044B

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201080005664.7

申请日：2010-01-19

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 石川和宜 ,  黑川崇裕 ,  住田宽人 ,  横山政秀

IPC: D01D13/00 ,  D01D5/00 ,  D01F6/00 ,  D04H1/728

CPC classification number: D01D5/18 ,  D01D5/0061 ,  D01D5/0069 ,  D04H1/4291 ,  D04H1/4382 ,  D04H1/728

Abstract: 避免在旋转的流出体和给电电极之间产生磨损，节省零件更换等的手续。一种纳米纤维制造装置(100)，使原料液(300)在空间中延伸而制造纳米纤维(301)，其中，具有：通过离心力使原料液(300)向空间中流出的流出体(115)；使流出体(115)旋转的驱动源(117)；相对于流出体(115)离开规定距离地配置的、经由流出体(115)向原料液(300)供给电荷的供给电极(124)；相对于流出体(115)离开规定距离地配置的、施加与流出体(115)极性相反的电位的带电电极(121)；以及将规定电压施加到供给电极(124)和带电电极(121)之间的带电电源(122)。

公开(公告)号：CN102459720A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN201080027114.5

申请日：2010-06-21

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 黑川崇裕 ,  住田宽人 ,  横山政秀 ,  石川和宜

IPC: D01D5/00

CPC classification number: D01D5/0069 ,  D01D5/003 ,  D04H1/728

Abstract: 提供一种能够稳定地高效率地制造纤维的直径均一的纳米纤维的纳米纤维制造装置(1)以及纳米纤维制造方法。在对原料液在空间中进行电延伸来制造纳米纤维的纳米纤维制造装置(1)中，使由电动机(41)而围绕轴线AL旋转的中空的支撑部(32)，支撑以原料液被储存在内部的状态来进行供给的芯筒(33)，通过以由回转节(43)而被导入的空气对加压部件(38)进行加压，从而使原料液(20)流入到与支撑体(32)一起旋转的流出体(34)的内部空间(34a)，利用由空气产生的加压力与由流出体(34)旋转而产生的离心力的作用，使原料液(20)从流出孔(34c)以放射状流出。据此，能够稳定地控制流出的原料液(20)，并能够稳定地高效率地制造直径均一的纳米纤维。

公开(公告)号：CN1152977C

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：CN97119330.4

申请日：1997-08-28

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 奥田晃 ,  横山政秀 ,  早田博

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/54

CPC classification number: H01J37/32009 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  H01J37/34

Abstract: 一种在放电开始之前通常保持打开的触发气体馈给系统。当产生放电时，即刻关闭触发气体馈给系统，从而使真空室处于溅射压力。在放电完成之后再次打开触发气体馈给系统。持续打开状态直至开始另一次放电。因此，在放电前真空室压力总是保持恒定，并且将真空室恢复到溅射压力的时间缩短。

公开(公告)号：CN1067118C

公开(公告)日：2001-06-13

申请号：CN95108052.0

申请日：1995-06-29

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 横山政秀 ,  早田博

IPC: C23C14/35

CPC classification number: H01J37/3408 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明揭示一种采用环状靶的磁控管溅射装置，在具有环状平板靶2的磁控管溅射装置中，在沿所述靶2的内周缘部位置的所述靶的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁33、31；在沿所述靶的外周缘部位置的所述靶的表侧和里侧分别配置具有相同极性的磁铁34、32；沿所述靶的内周配置的所述磁铁与沿所述靶外周配置的所述磁铁之间定为隔靶具有相反的极性关系；本发明具有靶利用效率高，膜厚分布随时间变化小的优点。

公开(公告)号：CN1119552A

公开(公告)日：1996-04-03

申请号：CN95109206.5

申请日：1995-07-20

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 山西齐 ,  青仓勇 ,  横山政秀 ,  滝泽贵博

IPC: B01D69/00

CPC classification number: H01J37/347 ,  H01J37/3405

Abstract: 本发明揭示一种采用矩形靶进行溅射，在基板上形成薄膜的溅射装置，其特征在于：沿靶的两侧缘，在各侧缘配置多个磁铁，这些磁铁的极性确定为相邻的磁铁为相反关系，同时，隔靶相对的磁铁间的极性确定为相反关系；配置至少两个以上的靶使其靶面与所述基板面形成30°以上、60°以下的角度。该装置用具有多个矩形靶的溅射电极，提高形成于大型基板上的薄膜的膜厚及膜质的均匀性，进而具有高的靶利用效率。