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公开(公告)号:CN104662418B
公开(公告)日:2018-05-15
申请号:CN201380050432.7
申请日:2013-09-25
Applicant: 杰富意钢铁株式会社
IPC: G01N27/72 , C21D8/12 , G01R33/032 , H01F1/16
CPC classification number: G01N21/21 , C21D1/34 , C21D1/38 , C21D8/12 , C21D8/1244 , C21D8/1294 , C21D9/46 , C21D11/00 , C22C38/00 , G01N21/86 , G01N27/82 , G01N2021/8609 , G01R33/032 , H01F1/16 , H01F41/02
Abstract: 本发明提供钢板检查装置、钢板检查方法、以及钢板制造方法。本发明涉及的钢板检查装置(1)的特征在于,具备:将作为检查对象的钢板(S)的磁畴构造转换为作为光学特性能够检测的光学特性的磁光元件(5)、向磁光元件(5)照射直线偏振光的光源(7)、对与转印到磁光元件(5)的钢板(S)的磁畴构造对应地使偏振面旋转后的直线偏振光进行检测的检测器(12)、以及至少驱动磁光元件(5)以使钢板(S)与磁光元件(5)接触分离的驱动机构。由此,在磁畴细分化处理不久之后对钢板的磁畴构造进行可视化检查由此能够改善成品率。
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公开(公告)号:CN104662418A
公开(公告)日:2015-05-27
申请号:CN201380050432.7
申请日:2013-09-25
Applicant: 杰富意钢铁株式会社
IPC: G01N27/72 , C21D8/12 , G01R33/032 , H01F1/16
CPC classification number: G01N21/21 , C21D1/34 , C21D1/38 , C21D8/12 , C21D8/1244 , C21D8/1294 , C21D9/46 , C21D11/00 , C22C38/00 , G01N21/86 , G01N27/82 , G01N2021/8609 , G01R33/032 , H01F1/16 , H01F41/02
Abstract: 本发明提供钢板检查装置、钢板检查方法、以及钢板制造方法。本发明涉及的钢板检查装置(1)的特征在于,具备:将作为检查对象的钢板(S)的磁畴构造转换为作为光学特性能够检测的光学特性的磁光元件(5)、向磁光元件(5)照射直线偏振光的光源(7)、对与转印到磁光元件(5)的钢板(S)的磁畴构造对应地使偏振面旋转后的直线偏振光进行检测的检测器(12)、以及至少驱动磁光元件(5)以使钢板(S)与磁光元件(5)接触分离的驱动机构。由此,在磁畴细分化处理不久之后对钢板的磁畴构造进行可视化检查由此能够改善成品率。
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公开(公告)号:CN104603610A
公开(公告)日:2015-05-06
申请号:CN201380046143.X
申请日:2013-09-25
Applicant: 杰富意钢铁株式会社
IPC: G01N27/72 , G01R33/032
CPC classification number: G01N21/21 , G01N2201/062 , G01R33/032 , H01J29/48
Abstract: 本发明的电子枪异常检测装置(1),检测具备多个电子枪(3a)、(3b)、(3c)、(3d)的电磁钢板的磁畴细化装置(2)的电子枪(3)的异常,其具备:磁光元件(5),与以包括多个电子枪(3a)、(3b)、(3c)、(3d)在电磁钢板表面照射电子束而产的生磁畴不连续部(L)的边界的方式设定的检查区域(R1)、(R2)、(R3)接触或脱离而检测检查区域(R1)、(R2)、(R3)中的钢板(S)的磁畴构造作为光学特性;光源(7),在磁光元件照射直线偏振光;检测器(12),利用被磁光元件(5)转印的钢板(S)的磁畴构造,检测被旋转的偏振光。
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公开(公告)号:CN103765158A
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201280041663.7
申请日:2012-09-05
Applicant: 杰富意钢铁株式会社
CPC classification number: G01B11/0625 , G01N21/3563 , G01N21/8422 , G01N21/8851 , G01N2021/8883
Abstract: 本发明的目的在于非接触性/非破坏性且简便地测定形成于被检体的表面的覆膜的膜厚,得到覆膜的组分的信息,分光装置(10)事先测定已知的被检体的分光数据,运算装置(22)对测定出的分光数据进行基底分解,提取该分光数据的特征量,计算该特征量与形成于所述已知的被检体的表面的覆膜的膜厚和组分之间的关系,分光装置(10)测定所述被检体的分光数据,运算装置(22)对测定出的被检体的分光数据进行基底分解,提取该分光数据的特征量,根据计算出的已知的被检体的分光数据的特征量与覆膜的膜厚和组分之间的关系,计算形成于所述被检体的表面的覆膜的膜厚和组分。
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